JPH0934128A - カラーフィルターレジスト用現像液 - Google Patents

カラーフィルターレジスト用現像液

Info

Publication number
JPH0934128A
JPH0934128A JP18389795A JP18389795A JPH0934128A JP H0934128 A JPH0934128 A JP H0934128A JP 18389795 A JP18389795 A JP 18389795A JP 18389795 A JP18389795 A JP 18389795A JP H0934128 A JPH0934128 A JP H0934128A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
color filter
carbon atoms
developer
filter resist
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18389795A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiyoshi Urano
年由 浦野
Shingo Ikeda
真吾 池田
Etsuko Hino
悦子 檜野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP18389795A priority Critical patent/JPH0934128A/ja
Publication of JPH0934128A publication Critical patent/JPH0934128A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 露光量や現像条件の許容範囲が広く、条件設
定が容易で、現像時の発泡による問題もない現像液を提
供する。 【解決手段】 無機のアルカリ剤とポリオキシアルキレ
ンエーテル基を有するノニオン性界面活性剤とを含有す
るカラーフィルターレジスト用現像液。 【効果】 無機のアルカリ剤と、ポリオキシアルキレン
エーテル基を有するノニオン性界面活性剤とを組合せる
ことにより、露光量や現像条件の自由度が高められ、ま
た、現像時の発泡を抑制することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はカラーフィルターレ
ジスト用現像液に関する。詳しくは、カラーテレビ、液
晶表示素子、カメラ等に使用される光学的カラーフィル
ターの製造に使用されるカラーフィルターレジスト用現
像液に関する。
【0002】
【従来の技術及び先行技術】カラーフィルターは、通
常、ブラックマトリックスを設けたガラス、プラスチッ
クシート等の透明基板の表面に、赤,緑,青の3種の異
なる色相により、10〜50μm幅のストライプ状、モ
ザイク状等の色パターンを数μmの精度で形成して製造
される。
【0003】カラーフィルターの代表的な製造方法とし
ては、染色法、印刷法、顔料分散法、電着法等がある。
しかし、これらの方法では、耐熱性が悪い、パターンの
位置精度が悪い、生産コストが高い、生産性が悪い等、
いずれも一長一短があり、用途に応じて各方式等が使い
分けられている。これらの製造方法のうち、色材料を含
有する光重合性組成物を、ブラックマトリックスを設け
た透明基板上に塗布し、画像露光、現像、熱硬化処理を
繰り返すことでカラーフィルター画像を形成する顔料分
散法は、カラーフィルター画素の位置、膜厚等の精度が
高く、寿命が長く、ピンホール等の欠陥が少ない方法で
あるため、従来、広く採用されている。
【0004】しかし、この方法では、染料と比べ着色力
が低い顔料を使用しているため、多くの顔料添加が必要
であるが、大量の顔料添加は光重合性組成物の現像低下
を招きやすく、一方、添加量が少ない場合には、膜厚を
厚くする必要が生じ、色材画素の透明性を上げることが
困難であるという問題点があった。
【0005】また、透明基板上に設けるクロム等のブラ
ックマトリックスの形成コストが高いという問題もあっ
た。この問題を解決するものとして、透明基板上に、黒
色材料を含有する光重合性組成物を利用してブラックマ
トリックスを形成する方法が提案されている(特開平1
−293306号公報、特開平2−902号公報等)。
【0006】しかし、このような黒色材料を含有する光
重合性組成物を使用したブラックマトリックスにおいて
も、大量の顔料添加のため、上述のように光重合性組成
物の現像低下を招くという欠点があった。
【0007】このような問題を解決するために、本発明
者らは特願平7−9768号にて、芳香族ポリグリシジ
ルエーテル化合物と不飽和モノカルボン酸との付加反
応、或いは、芳香族ポリヒドロキシ化合物とエポキシカ
ルボン酸エステルとの付加反応で得られるエチレン性不
飽和二重結合を2個以上有する化合物を含有させること
により、現像時の基板に対する画像露光部の接着性が著
しく向上し、薄膜で高い色材濃度カラーフィルター画像
が形成されることを報告した。また、更に、現像性を高
めたものとして、特願平7−101009号にて、エチ
レン性化合物として、脂環族ポリグリシジルエーテル化
合物と不飽和モノカルボン酸との付加反応、或いは、脂
環族ポリヒドロキシ化合物とエポキシモノカルボン酸エ
ステルとの付加反応、で得られるエチレン性不飽和二重
結合を2個以上有する化合物を用いることを提案した。
また、色材料の分散性を高めたものとして、特願平7−
138209号にて、エチレン性化合物として下記一般
式(I)で表される置換基を少なくとも2個含有するカ
ラーフィルターレジストを用いることを提案した。
【0008】
【化3】
【0009】(上記(I)式中、mは1〜6の整数を示
し、R1 ,R2 は水素原子又はハロゲン原子を示し、R
3 は置換基を有しても良い炭素数1〜10のアルキレン
基(該置換基は、水酸基、ハロゲン原子、水酸基を有し
ても良い炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10
のアルコキシ基、炭素数6〜15のアリール基、炭素数
7〜15のアラルキル基、炭素数2〜10のアルケニル
基、炭素数2〜10のアシルオキシ基である。)を示
し、R4 は水素原子、水酸基を有しても良い炭素数1〜
10のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、炭素
数7〜15のアラルキル基又は炭素数2〜10のアルケ
ニル基を示し、R5 は水素原子又はメチル基を示す。) このようなエチレン性化合物を含有する光重合性組成物
を用いてカラーフィルターレジストを製造するに当って
は、通常、有機又は無機のアルカリ剤と界面活性剤等を
含有する現像液を使用して、非画像部を溶解させて現像
を行っている。
【0010】従来用いられている現像液としては、例え
ば、無機のアルカリ剤として炭酸ナトリウムと、スルホ
ン酸ナトリウム塩基を有するアニオン性界面活性剤を主
成分として含有するもの(特開平6−109916号公
報)、或いは、有機又は無機のアルカリ剤とノニオン性
界面活性剤を主成分として含有するもの(特開平7−1
20935号公報)が知られている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の現像液は共
に、所定の露光量による露光後、限定された現像条件で
現像処理を行った際には、高品質のレジスト画像を形成
させることができるが、露光量が異なる場合、或いは、
現像液の浸漬時間や現像液の濃度が変わると、著しくレ
ジスト画像の品質が低下し易いという欠点がある。ま
た、特に、炭酸ナトリウムとアニオン性界面活性剤とを
組合せたものでは、現像時に発泡し易く、この発泡を抑
えるために消泡剤を添加すると、この消泡剤が現像性の
低下を引き起こし易く、実際のカラーフィルターの製造
ライン上で現像を行う際の障害となっていた。
【0012】本発明は、上記従来の問題点を解決し、経
時安定性に優れ、露光量や現像条件の許容範囲が広く、
条件設定が容易で、現像時の発泡による問題もないカラ
ーフィルターレジスト用現像液を提供することを目的と
するものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
ーレジスト用現像液は、無機のアルカリ剤とポリオキシ
アルキレンエーテル基を有するノニオン性界面活性剤と
を含有することを特徴とする。
【0014】本発明に従って、無機のアルカリ剤と、ポ
リオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン性界面
活性剤とを組合せることにより、露光量や現像条件の自
由度が高められ、また、現像時の発泡を抑制することが
できる。
【0015】本発明のカラーフィルターレジスト用現像
液は、ポリグリシジルエーテル化合物と不飽和カルボン
酸との付加反応で得られるエチレン性化合物を含有する
カラーフィルターレジストの現像に好適に使用される。
【0016】本発明のカラーフィルターレジスト用現像
液において、エチレン性化合物は一般式(I)又は(I
I)で表される置換基を有することが好ましい。
【0017】
【化4】
【0018】
【化5】
【0019】(上記(I),(II)式中、mは0〜6の
整数を示し、R1 ,R2 は水素原子又はハロゲン原子を
示し、R3 は置換基を有しても良い炭素数1〜10のア
ルキレン基(該置換基は、水酸基、ハロゲン原子、水酸
基を有しても良い炭素数1〜10のアルキル基、炭素数
1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜15のアリール
基、炭素数7〜15のアラルキル基、炭素数2〜10の
アルケニル基、炭素数2〜10のアシルオキシ基であ
る。)を示し、R4 は水素原子、水酸基を有しても良い
炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜15のアリー
ル基、炭素数7〜15のアラルキル基又は炭素数2〜1
0のアルケニル基を示し、R5 は水素原子又はメチル基
を示す。) 本発明のカラーフィルターレジスト用現像液は、色材料
として赤、緑又は青色材料を含有し、乾燥膜厚1μm以
下に形成した塗膜の、400〜700nmの範囲での最
大吸光度が1.1以上であるカラーフィルターを製造す
るためのカラーフィルターレジストの現像に好適に使用
される。
【0020】本発明のカラーフィルターレジスト用現像
液は、また、色材料として黒色材料を含有し、乾燥膜厚
1μm以下に形成した塗膜の、400〜700nmの範
囲での最小吸光度が2.0以上であるブラックマトリッ
クスを製造するためのカラーフィルターレジストの現像
に好適に使用される。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
【0022】本発明のカラーフィルターレジスト用現像
液は、無機のアルカリ剤とポリオキシアルキレンエーテ
ル基を有するノニオン性界面活性剤とを含有する水溶液
である。
【0023】無機のアルカリ剤としては、例えば、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられ
る。これら無機のアルカリ剤は、現像性の向上、現像時
間の短縮等の目的で現像液の全重量に対して好ましくは
0.05〜15重量%、より好ましくは0.1〜10重
量%、特に好ましくは0.1〜5重量%の範囲で配合さ
れる。無機のアルカリ剤の配合量が上記範囲を超える場
合には、現像時、光硬化画像の小点の欠落等を生じ易
い。
【0024】これらの無機のアルカリ剤は、有機のアル
カリ剤、例えば、ジエタノールアミン、トリエタノール
アミン、水酸化テトラアルキルアンモニウム塩等に比べ
て、現像時の現像画像の膨潤を起こし難いため、長時間
の浸漬現像、或いは、高濃度現像液による現像時におい
ても現像画像の欠落が少ないという利点がある。
【0025】特に無機のアルカリ剤のうち、炭酸カリウ
ム及び炭酸ナトリウムは、長時間同一の現像液を使用し
た際、空気中に含まれている炭酸ガスによる現像液の劣
化の影響を受け難く、経時性能安定性に優れる点で好ま
しい。また、無機のアルカリ剤のうち、カリウム塩より
なるアルカリ剤は、カラーフィルターを装着した液晶表
示装置の電子駆動回路に支障をきたすナトリウムを含有
しない点から好ましい。従って、本発明においては、無
機のアルカリ剤として特に炭酸カリウムを用いるのが有
利である。
【0026】一方、ポリオキシアルキレンエーテル基を
有するノニオン性界面活性剤としては、下記一般式(II
I) の構造を有するものが好ましい。
【0027】
【化6】
【0028】(上記(III) 式中、R6 は置換基を有して
も良い炭素数3〜15のアルキル基、置換基を有しても
良い炭素数6〜15の芳香族炭化水素基、又は、置換基
を有しても良い炭素数4〜15の複素芳香族環基(該置
換基としては、炭素数1〜10のアルキル基、Br,C
2 等のハロゲン原子、炭素数6〜15の芳香族炭化水
素基、炭素数7〜17のアラルキル基、炭素数1〜10
のアルキコキシ基、炭素数2〜10のアルコキシ−カル
ボニル基、炭素数2〜15のアシル基が挙げられる。)
を示し、R7 は置換基を有しても良い炭素数1〜10の
アルキレン基(該置換基としては、炭素数1〜10のア
ルキル基、炭素数6〜15の芳香族炭化水素基が挙げら
れる。)を示し、rは2〜30の数を表わす。) 特に、上記一般式(III) において、R6 がフェニル基又
はナフチル基であるものが、現像時の非画線部の溶解性
に優れる点で好ましく、また、rが5以上のものが、現
像液に対する溶解性に優れ、室温における経時的な該界
面活性剤の沈殿等の問題が抑えられ好ましい。
【0029】該ノニオン性界面活性剤の配合量は、カラ
ーフィルターレジスト用現像液の全重量に対して、好ま
しくは0.01〜20重量%、より好ましくは0.1〜
10重量%、特に好ましくは0.1〜5重量%である。
【0030】なお、本発明の現像液を、ブラックマトリ
ックス現像用として用いる場合には、上記ノニオン性界
面活性剤の配合量を増加させた方が現像残り等の発生が
少なくなる。従って、この場合には、ノニオン性界面活
性剤の配合量は、カラーフィルターレジスト用現像液の
全重量に対して、0.05〜20重量%、特に0.15
〜10重量%、とりわけ0.2〜5重量%の範囲とする
のが好ましい。
【0031】本発明の現像液には、更に水溶性の有機溶
剤、本発明に係るポリオキシアルキレンエーテル基を有
するノニオン性界面活性剤以外の界面活性剤、水酸基又
はカルボキシ基を有する低分子化合物等を、10重量%
以下、好ましくは5重量%以下の範囲で配合することが
できる。
【0032】この場合、水溶性の有機溶剤としては、エ
タノール、プロピオンアルコール、ブタノール、メチル
セロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、
エチレングリコール、プロピレングリコールモノメチル
エーテル等が挙げられる。
【0033】本発明に係るノニオン性界面活性剤以外の
界面活性剤としては、ポリエチレングリコール,グリセ
リン等の他のノニオン性界面活性剤、テトラアルキルア
ンモニウム基を有するカチオン性界面活性剤、スルホン
酸塩基,カルボン酸基を有するアニオン性界面活性剤等
を挙げることができる。また、水酸基又はカルボキシ基
を有する低分子化合物としては、1−ナフトール、2−
ナフトール、ピロガロール、安息香酸、コハク酸、グル
タル酸等を挙げることができる。
【0034】次に、本発明のカラーフィルターレジスト
用現像液を用いて現像を行ってカラーフィルターを製造
する場合に好適なカラーフィルターレジスト(以下「本
発明に係るカラーフィルターレジスト」と称する場合が
ある。)について説明する。
【0035】本発明に係るカラーフィルターレジスト
は、光を吸収してラジカルを発生する光重合開始剤組成
物と、該ラジカルにより重合が誘起される付加重合性の
エチレン性不飽和二重結合を少なくとも2個以上有する
化合物(以下、「エチレン性化合物」と称す。)とを含
有し、更に好ましくは、相溶性、皮膜形成性、現像性、
接着性等の改善のために、結合剤としての有機高分子物
質を含有する光重合性組成物に、更に色材料を含有する
ものである。
【0036】これらの構成成分のうち、光重合開始剤組
成物としては、下記のような紫外から可視領域に感度を
有するものを、使用する露光光源に応じて、適宜選択可
能である。
【0037】即ち、本発明において、上記400nm未
満の波長の紫外光を吸収してラジカルを発生する光重合
開始剤組成物としては、例えば、ファインケミカル,1
991年,3月1日号Vol 20,No. 4,P.16〜
P.26に記載のジアルキルアセトフェノン系,ベンジ
ルジアルキルケタール系,ベンゾイン,ベンゾインアル
キルエーテル系,チオキサントン誘導体,アシルホスフ
ィンオキサイド系等、その他、特開昭58−40302
号公報,特公昭45−37377号公報に記載のヘキサ
アリールビイミダゾール系,s−トリハロメチルトリア
ジン系,特開昭59−152396号公報に記載のチタ
ノセン系組成物等を用いることができる。
【0038】一方、波長400nm以上500nm以下
の可視光に感応する光重合開始剤組成物としては、例え
ば、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤及
び染料を含有する組成物(特公昭45−37377号公
報)、ヘキサアリールビイミダゾールと(p−ジアルキ
ルアミノベンジリデン)ケトンを含有する組成物(特開
昭47−2528号、特開昭54−155292号各公
報)、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料を含有
する組成物(特開昭48−84183号公報)、置換ト
リアジンとメロシアニン色素を含有する組成物(特開昭
54−151024号公報)、ケトクマリンと活性剤を
含有する組成物(特開昭52−112681号、特開昭
58−15503号、特開昭60−88005号各公
報)、置換トリアジンと増感剤を含有する組成物(特開
昭58−29803号、特開昭58−40302号各公
報)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールを含
有する組成物(特開昭59−56403号公報)、ジア
ルキルアミノフェニル基を含有する増感剤とビイミダゾ
ールを含有する組成物(特開平2−69号、特開昭57
−168088号、特開平5−107761号、特開平
5−210240号、特開平4−288818号各公
報)、有機過酸化物と色素を含有する組成物(特開昭5
9−140203号、特開昭59−189340号各公
報)、チタノセン系組成物(特開昭59−152396
号、特開昭61−151197号、特開昭63−106
02号、特開昭63−41484号、特開平2−291
号、特開平3−12403号、特開平3−20293
号、特開平3−27393号、特開平3−52050号
各公報)、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基
或はウレタン基を有する付加重合可能なエチレン性飽和
二重結合含有化合物を組合せた組成物(特開平4−22
1958号、特開平4−219756号各公報)等が挙
げられる。
【0039】波長400nm以上500nm以下の光に
感応する光重合開始剤組成物の好適例としては、波長4
00〜500nmに吸収を有する増感色素と、2,2’
−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラフェニルビイミダゾール(以下、「化合物R−
1」と称す。)、2,2’−ビス(o−クロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−カルボエトキ
シフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ク
ロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−ブ
ロモフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−
クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(o,
p−ジクロロフェニル)ビイミダゾール等のヘキサアリ
ールビイミダゾール、及び、2−メルカプトベンズチア
ゾール、2−メルカプトベンズオキサゾール、2−メル
カプトベンズイミダゾール等の有機チオール化合物から
なる複合光重合開始剤組成物、或いは、波長400〜5
00nmに吸収を有する増感色素とジシクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロ−3−(ピロー
ル−1−イル)−フェニル−1−イル、ジシクロペンタ
ジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオ
ロフェニル−1−イル(以下、「化合物S−1」と称
す。)、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル−1−イル等
のチタノセン化合物、更に、p−ジエチルアミノ安息香
酸エチル、ミヒラーズケトン等のジアルキルアミノフェ
ニル化合物からなる複合光重合開始剤組成物が挙げられ
る。
【0040】なお、上記のヘキサビイミダゾールを増感
する色素としては、例えば特開平2−69号公報,特開
昭57−168088号公報,特開平5−107761
号公報,特開平5−210240号公報,特願平4−2
88818号に記載の増感色素を挙げることができる。
【0041】また、チタノセンを増感する色素として
は、例えば特願平5−83588号,特願平5−848
17号,特開平5−83587号公報,特願平6−12
949号,特願平6−74743号,特願平6−141
588号に記載の増感色素を挙げることができる。
【0042】また、これらの可視光領域に感応する光重
合開始剤組成物のうち、可視光と共に紫外部にも吸収を
持ち、高い感度を示すものについては、紫外光領域の光
源に対する光重合開始剤組成物として利用しても良い。
【0043】このような可視光及び紫外光領域に共に高
い感度を示すものとしては、ヘキサアリールビイミダゾ
ール、或いは、チタノセンを含有する光重合開始剤組成
物等を挙げることができる。
【0044】上記の光重合開始剤組成物のうちでは、ヘ
キサアリールビイミダゾール、チタノセンを含有する光
重合開始剤組成物が高い感度を示すことから好ましく、
特に、チタノセンを含有する光重合開始剤組成物であれ
ば、ヘキサアリールビイミダゾールを含有する光重合開
始剤組成物に比べて、少量で高い感度を示すと共に、高
い乾燥条件でも安定なため、高い色材料濃度を有するカ
ラーフィルターレジストにはより一層好ましい。
【0045】エチレン性化合物は、光重合開始剤組成物
の存在下で重合が誘起されるエチレン性不飽和結合を少
なくとも二個以上有しているものが好ましく、具体的に
はポリグリシジルエーテル化合物と不飽和モノカルボン
酸との付加反応、或いは、ポリヒドロキシ化合物とエポ
キシモノカルボン酸エステルとの付加反応、で得られる
エチレン性不飽和二重結合を2個以上有するエチレン性
化合物(A)であるが、該エチレン性化合物(A)と共
に、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸と
の付加反応(エステル反応)で得られる、エチレン性不
飽和二重結合を2個以上含有するエチレン性化合物
(B)を併用することが好ましい。
【0046】該エチレン性化合物(A)は透明基板との
接着性、現像性を向上させる機能を果たすものである。
【0047】該エチレン性化合物(A)の具体的な例と
しては、ハイドロキノン,レゾルシン,ピロガロール等
のポリヒドロキシベンゼン、ビスフェノールA,ポリビ
スフェノールA,ブロム化ビスフェノールA,ポリブロ
ム化ビスフェノールA等のビスフェノールA誘導体、ノ
ボラック等の芳香族ポリヒドロキシ化合物及びそれらの
核内水素添加物とエピクロルヒドリンをアルカリ条件下
付加反応させて得られるポリグリシジルエーテル化合物
と、(メタ)アクリル酸等の不飽和モノカルボン酸を4
級アンモニウム塩等を触媒にして付加反応させることに
より得られるエチレン性化合物、或いは、ハイドロキノ
ン,レゾルシン,ピロガロール等のポリヒドロキシベン
ゼン、ビスフェノールA,ポリビスフェノールA,ブロ
ム化ビスフェノールA,ポリブロム化ビスフェノールA
等のビスフェノールA誘導体、ノボラック等の芳香族ポ
リヒドロキシ化合物及びそれらの核内水素添加物とグリ
シジル(メタ)アクリレート、下記[T−1]又は[T
−2]等の構造のエポキシ(メタ)アクリレートを、
“SYNTHETIC COMMUNICATION, 24(21) ”3009-3019(199
4) 等に記載の酸又はアルカリの触媒を用いて付加反応
させることにより得られる、前記一般式(I)又は(I
I)で表される置換基を2個以上有するエチレン性化合
物が挙げられ、より具体的には、例えば、次の[M−
1],[M−2],[M−3],[M−4],[M−
5],[M−6],[M−7],[M−8],[M−
9],[M−10],[M−11],[M−12],
[M−13],[M−14]等を挙げることができる。
また、前記の水素添加反応としては、特開平3−107
160号公報等に記載のラネーNi触媒を用いるもの、
ロジウム,白金等の触媒を用いるものを適宜選択して用
いることができる。
【0048】
【化7】
【0049】
【化8】
【0050】
【化9】
【0051】
【化10】
【0052】
【化11】
【0053】特に、ビスフェノールA或いはビスフェノ
ールA誘導体、及びそれらの核内水素添加物と、エピク
ロルヒドリンとの共縮重合物タイプのエチレン性化合物
(A)を使用した場合、他のエチレン性化合物の場合に
比べ現像時の基板に対する画像の接着性(現像画像接着
性)に優れているため好ましい。
【0054】とりわけ好ましいエチレン性化合物(A)
としては、25℃の粘度が100ps以上、更に25℃
の粘度が1000ps以上のものが挙げられる。この粘
度が100psより著しく低いと、現像画像接着性が低
下する。
【0055】一方、エチレン性化合物(B)は、現像時
の非画線部の溶解性を高め、高画質の画像を形成させる
機能を有する。該エチレン性化合物(B)の具体的な例
としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト,トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート,
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート,ト
リメチロールエタントリ(メタ)アクリレート,ペンタ
エリスリトールジ(メタ)アクリレート,ペンタエリス
リトールトリ(メタ)アクリレート,ペンタエリスリト
ールテトラ(メタ)アクリレート,ジペンタエリスリト
ールテトラ(メタ)アクリレート,ジペンタエリスリト
ールペンタ(メタ)アクリレート,ジペンタエリスリト
ールヘキサ(メタ)アクリレート,グリセロール(メ
タ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル、こ
れらの例示化合物の(メタ)アクリレートをイタコネー
トに代えたイタコン酸エステル、クロトネートに代えた
クロトン酸エステルもしくはマレエートに代えたマレイ
ン酸エステル等がある。これらのうち、特に、4官能〜
6官能のジペンタエリスリトールポリアクリレートが画
像形成性に優れる点から好ましい。
【0056】前記エチレン性化合物(A)及びエチレン
性化合物(B)の製造に当っては、ポリグリシジルエー
テル化合物、或いは、ポリヒドロキシ化合物と不飽和モ
ノカルボン酸とを反応させる際に、不飽和モノカルボン
酸と共に飽和のモノカルボン酸を付加させ、該エチレン
性化合物の粘性等の物性を制御することもできる。
【0057】好ましいエチレン性化合物(A)とエチレ
ン性化合物(B)との使用割合は、重量比で、エチレン
性化合物(A):エチレン性化合物(B)=100:0
〜10:90、好ましくは90:10〜20:80、更
に好ましくは80:20〜30:70である。
【0058】その他、併用できるエチレン性化合物の例
としては、エチレンビスアクリルアミド等のアクリルア
ミド類、フタル酸ジアリル等のアリルエステル類、ジビ
ニルフタレート等のビニル基含有化合物、不飽和二価カ
ルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反応により得
られるポリエステル、不飽和二価カルボン酸とジアミン
との重縮合反応により得られるポリアミド、側鎖に不飽
和結合をもつ二価カルボン酸、例えばイタコン酸、プロ
ピリデンコハク酸、エチリデンマロン酸等とジヒドロキ
シ又はジアミン化合物との縮重合体、側鎖にヒドロキシ
基やハロゲン化メチル基の如き反応活性を有する官能基
を有する重合体、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ
(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)、ポリエピク
ロルヒドリン等とアクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸等の不飽和カルボン酸との高分子反応により得られる
ポリマー等が挙げられる。
【0059】本発明に係るカラーフィルターレジスト中
には、該レジストの成膜性、現像性を改良する目的で、
有機高分子物質を結合剤として添加することができる。
この有機高分子物質としては、メチル(メタ)アクリル
酸、エチル(メタ)アクリル酸、プロピル(メタ)アク
リル酸、ブチル(メタ)アクリル酸、2−エチルヘキシ
ル(メタ)アクリル酸、ヒドロキシエチル(メタ)アク
リル酸、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリル酸、ベン
ジル(メタ)アクリル酸等の(メタ)アクリル酸のアル
キルエステル;ヒドロキシフェニル(メタ)アクリル
酸、メトキシフェニル(メタ)アクリル酸等の(メタ)
アクリル酸の置換基を有していても良いフェニルエステ
ル;アクリロニトリル;酢酸ビニル、バーサチック酸ビ
ニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル、ピバリン酸
ビニル等の酸ビニル;スチレン、α−メチル−スチレン
等の共重合体、エピクロロヒドリンとビスフェノールA
とのポリエーテル、可溶性ナイロン、ポリビニルアルキ
ルエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエチレン
テレフタレートイソフタレート、アセチルセルロース及
びポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等が挙
げられる。なお、本明細書において、「(メタ)アクリ
ル」とは「アクリル又はメタクリル」を示す。「(メ
タ)アクリレート」についても同様である。
【0060】得られる塗膜の皮膜強度、耐塗布溶剤性、
基板接着性を高める目的で、上記有機高分子物質のう
ち、カルボン酸基を有するものの、カルボン酸基の一部
又は全部を、グリシジル(メタ)アクリレート、前記
[T−1]又は[T−2]の構造のエポキシ(メタ)ア
クリレートと反応させて、光重合性の有機高分子物質と
することもできる。
【0061】本発明において、特に好ましい有機高分子
物質としては、基板への接着性を高める目的で、スチレ
ン、α−メチルスチレン、ベンジル(メタ)アクリレー
ト、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリル酸、メトキシ
フェニル(メタ)アクリル酸、ヒドロキシフェニル(メ
タ)アクリルアミド、ヒドロキシフェニル(メタ)アク
リルスルホアミド等のフェニル基を有する共重合モノマ
ーを10〜80モル%、好ましくは20〜70モル%、
より好ましくは30〜60モル%の割合で含有し、その
他(メタ)アクリル酸を2〜50重量%、好ましくは5
〜40重量%、より好ましくは5〜30重量%の割合で
含有する共重合体、或いは、全共重合モノマーに対して
2〜50モル%、好ましくは5〜40モル%、より好ま
しくは10〜30モル%のエポキシ(メタ)アクリレー
トが付加された反応物が望ましい。
【0062】このような有機高分子物質の分子量として
は、重量平均分子量(Mw)で1,000〜1000,
000、好ましくは2,000〜500,000、より
好ましくは3,000〜200,000の範囲である。
有機高分子物質のMwがこの範囲より著しく低いと、現
像時に画線部分の膜ベリが生じ、逆に有機高分子物質の
Mwが著しく高いと現像時に非画線部の抜け性不良を生
じ易い。
【0063】前記光重合開始剤組成物の含有量は、光重
合性画像形成材料(色材料を含まない光重合性画像形成
材料)の全固形分に対し、0.1〜40重量%、好まし
くは0.2〜30重量%、より好ましくは0.2〜20
重量%であり、前記エチレン性化合物の含有量は、光重
合性画像形成材料の全固形分に対し、20〜99重量
%、好ましくは50〜95重量%、より好ましくは60
〜90重量%であり、前記有機高分子物質の含有量は、
光重合性画像形成材料の全固形分に対し、0〜80重量
%、好ましくは10〜70重量%、より好ましくは20
〜60重量%である。
【0064】カラーフィルターレジストに使用される色
材料としては、ブラックマトリックス用カラーフィルタ
ーレジストには黒色の色材料であり、赤,緑,青用カラ
ーフィルターレジストには、それに対応する色材料を使
用する。
【0065】黒色の色材料としては、例えば三菱化学社
製のMA−7,MA−100,MA−220,#5,#
10、或いはデグサ社製Color Black FW
200,Color Black FW2,Print
ex V等のカーボンブラック、特開平5−31110
9号公報,特開平6−11613号公報等に記載の黒
鉛、特開平4−322219,特開平3−274503
号公報等に記載の無機黒色顔料、特開平2−21610
2号公報等に記載のアゾ系ブラック色素等の有機黒色顔
料、その他、赤,緑,青、黄、シアン、マジェンタ等の
有機色材料を混合した黒色顔料等を挙げることができ
る。
【0066】赤,緑,青に対応する色材料としては、具
体的には、ビクトリアピュアブルー(42595)、オ
ーラミンO(41000)、カチロンブリリアントフラ
ビン(ベーシック13)、ローダミン6GCP(451
60)、ローダミンB(45170)、サフラニンOK
70:100(50240)、エリオグラウシンX(4
2080)、No.120/リオノールイエロー(21
090)、リオノールイエローGRO(21090)、
シムラーファーストイエロー8GF(21105)、ベ
ンジジンイエロー4T−564D(21095)、シム
ラーファーストレッド4015(12355)、リオノ
ールレッド7B4401(15850)、ファーストゲ
ンブルーTGR−L(74160)、リオノールブルー
SM(26150)、リオノールブルーES(ピグメン
トブルー15:6、ピグメントブルー1536)、リオ
ノーゲンレッドGD(ピグメントレッド168、ピグメ
ントレッド108)、リオノールグリーン2YS(ピグ
メントグリーン36)等が挙げられる(上記の( )内
の数字は、カラーインデックス(C.I.)を意味す
る)。
【0067】また、更に他の顔料について(C.I.)
で示すと、例えば、C.I.黄色顔料20,24,8
6,93,109,110,117,125,137,
138,147,148,153,154,166、
C.I.オレンヂ顔料36,43,51,55,59,
61、C.I.赤色顔料9,97,122,123,1
49,168,177,180,192,215,21
6,217,220,223,224,226,22
7,228,240、C.I.バイオレット顔料19,
23,29,30,37,40,50、C.I.青色顔
料15,15:1,15:4,22,60,64、C.
I.緑色顔料7、C.I.ブラウン顔料23,25,2
6等を挙げることができる。
【0068】これらの色材料のカラーフィルターレジス
ト中の含有量は次の通りである。
【0069】即ち、黒のカラーフィルターレジストで形
成されるブラックマトリックスは、1.0μm以下、好
ましくは0.3〜0.7μm、より好ましくは0.3〜
0.6μmの膜厚に形成した塗膜の、400〜700n
mの範囲における最小吸光度(O.D.min.)が2.0以
上、好ましくは2.2以上のブラックマトリックスを形
成させるために、該カラーフィルターレジスト中に含有
される前記黒色の色材料の含有量としては、全固形分に
対し、40〜90重量%、好ましくは50〜80重量
%、より好ましくは60〜70重量%の範囲である。
【0070】一方、赤,緑,青のカラーフィルターレジ
ストで形成される色材画素は、1.0μm以下、好まし
くは0.3〜0.7μm、より好ましくは0.3〜0.
6μmの膜厚に形成した塗膜の、400〜700nmの
範囲における最大吸光度(O.D.peak.)が1.1以上、好
ましくは1.3以上の色材画素を形成させるために、該
カラーフィルターレジスト中に含有される前記赤,緑,
青の色材料の添加量としては、全固形分に対し、40〜
90重量%、好ましくは50〜80重量%、より好まし
くは60〜70重量%の範囲である。
【0071】本発明の現像液の対象となるカラーフィル
ターレジストは、このような高い色材料含有率の状態
で、高画質なブラックマトリックス画像又は色材画素を
形成させると共に、各画素上に塗設して形成される色材
光重合性層、或いは、ポリアミド,ポリイミド等の保護
層等の塗布溶剤に対する耐溶剤性、及び、透明基板に対
する高い接着性を与えるものが特に好ましい。
【0072】このようなカラーフィルターレジストは、
適当な溶剤を用いて調液された塗布液として塗布され
る。
【0073】本発明に係るカラーフィルターレジストの
塗布に用いられる溶剤としては、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、クロ
ロホルム、ジクロロメチン、酢酸エチル、乳酸メチル、
乳酸エチル、メタノール、エタノール、プロパノール、
ブタノール、テトラハイドロフラン等が挙げられる。
【0074】塗布液は、これらの溶剤を用いて、カラー
フィルターレジスト(色材料と光重合性画像形成材料と
の合計)濃度が5〜50重量%、好ましくは10〜30
重量%の範囲となるように調液される。
【0075】ところで、カラーフィルターの製造に当
り、光重合性層の露光の際に、酸素による光重合性層の
感度低下を防止する目的で、色材光重合性層の上に、ポ
リビニルアルコール層等の酸素遮断層を塗設する場合が
あるが、本発明においては、このような酸素遮断層を塗
設することなく、光重合性層を露光、現像して画像形成
することが、工程数の大幅な減少の面から好ましい。酸
素遮断層を設けない場合、色材光重合性組成物中に、ヒ
ドロキシフェニル(メタ)アクリル酸,ヒドロキシフェ
ニル(メタ)アクリルアミド,ヒドロキシフェニル(メ
タ)アクリルスルホアミド等のヒドロキシフェニル基等
の芳香族水酸基を有するモノマーを共重合モノマー成分
として5〜50モル%,好ましくは10〜30モル%の
割合で有する有機高分子物質を使用したり、特開平4−
218048号公報,特開平5−19453号公報等に
記載のジアゾ化合物を1〜20重量%,好ましくは2〜
10重量%含有させたりする。これにより、酸素による
感度低下を低く抑えることができ、酸素遮断層を不要と
することができる。
【0076】次に、本発明のカラーフィルターレジスト
用現像液を用いてカラーフィルターを製造する方法につ
いて説明する。
【0077】カラーフィルターの透明基板としては、ポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステルやポリプロ
ピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン等のプラスチ
ックシート、或いは、各種ガラス板等を挙げることがで
きる。
【0078】このような透明基板には、表面の接着性等
の物性を改良するために、必要に応じて、コロナ放電処
理、オゾン処理、シランカップリング剤やウレタンポリ
マー等の各種ポリマーの薄膜形成処理等を行うことがで
きる。
【0079】なお、透明基板の板厚は、0.05〜10
mm、特に0.1〜7mmの範囲であることが好まし
い。また、各種ポリマーの薄膜形成処理を行う場合に
は、その膜厚は0.01〜10μm、特に0.05〜5
μmの範囲であることが好ましい。
【0080】この透明基板は、通常、赤,緑,青の画素
画像を形成する前に、予め金属薄膜、又は前述のブラッ
クマトリックス用光重合性組成物を利用したブラックマ
トリックスが設けられる。前者の例としては、クロム単
層又はクロムと酸化クロムの2層のものが挙げられ、こ
れらを蒸着又はスパッタリング法等により薄膜を形成し
た後、その上に、感光性被膜を形成し、ストライプ、モ
ザイク、トライアングル等の繰り返しパターンを有する
フォトマスクを用いて露光・現像し、レジスト画像を形
成させ、続いて、該薄膜をエッチング処理により、透明
基板上にブラックマトリックスを形成させたものが挙げ
られる。
【0081】このようにしてブラックマトリックスを設
けた透明基板上に、赤,緑,青のうちの1つの色の色材
料を含有するカラーフィルターレジストを、スピナー,
ワイヤーバー,フローコーター,ダイコーター,ロール
コーター,スプレー等の塗布装置により塗布した後、5
0〜200℃、好ましくは100〜150℃の温度で1
5秒〜10分間、好ましくは30秒〜5分間乾燥して当
該色材光重合性層を形成させる。なお、ここで、カラー
フィルターレジストの塗布液を塗布、乾燥して得られる
光重合性層の膜厚は、好ましくは0.2〜2μm、より
好ましくは0.5〜1μmである。
【0082】ここで、乾燥温度は、高温なほど透明基板
に対する接着性が向上するが、一方、高過ぎると光重合
開始剤組成物が分解し、熱重合を誘発して現像不良を起
こし易い。
【0083】次に、この色材光重合性層上に色材画素用
のネガフォトマスクを置き、該フォトマスクを介して、
紫外又は可視等の光源を用いて画像露光する。この際、
必要に応じて酸素による光重合性層の感度の低下を防ぐ
ため、光重合性層上にポリビニルアルコール層等の酸素
遮断層を塗設した後、露光を行っても良い。
【0084】続いて、本発明のカラーフィルターレジス
ト用現像液により現像処理を行い透明基板上に第1の色
材画素画像を形成させる。なお、必要に応じてこの現像
処理の前に、光重合層の感度或いはγ値(階調)を高く
する目的で露光試料を70〜200℃で15秒〜20分
間、好ましくは80〜150℃で30秒〜10分間の熱
処理を施すことができる。
【0085】現像処理は、通常、20〜40℃、好まし
くは25〜35℃の現像温度で、浸漬現像、スプレー現
像、ブラシ現像、超音波現像等の方法により行われる。
【0086】現像後の試料は、必要に応じて、該試料の
上に塗布される色材光重合性層、或いは、ポリアミド,
ポリイミド等の保護層の塗布溶剤に対する耐久性、又
は、ガラス基板等の透明基板との接着性を高める目的
で、該試料を100〜250℃,5〜60分間の熱硬化
処理を行うか、或いは、適正露光量以上の露光量、好ま
しくは、適正露光量の1〜10倍の露光量による光硬化
処理を施すことができる。
【0087】続いて、該試料の上に赤,緑,青のうち他
の2色のカラーフィルターレジストについても前記と同
様にしてそれぞれ塗布・乾燥した後、該試料を、色材画
素用のネガフォトマスクを用いて前記と同様に露光、現
像、必要に応じて熱又は光硬化処理を繰り返し行い、ブ
ラックマトリックス間に3色の画素を形成してカラーフ
ィルターを作製する。
【0088】このようにして作製されたカラーフィルタ
ーは、このままの状態で、上にITO(透明電極)が形
成され、カラーディスプレーの部品の一部として使用さ
れるが、更にカラーフィルターの表面平滑性、或いは耐
久性を高める目的でポリアミド,ポリイミド等のトップ
コート層を設けることもできる。
【0089】画像露光に使用される光源としては、キセ
ノンランプ,ハロゲンランプ,タングステンランプ,高
圧水銀灯,メタルハライドランプ,中圧水銀灯,低圧水
銀灯等のランプ光源、及びアルゴンイオンレーザー,Y
AGレーザー,エキシマーレーザー,窒素レーザー等の
レーザー光源が挙げられる。これらの光源には、必要と
される照射光の波長領域に応じて、適宜光学フィルター
を使用することもできる。
【0090】ブラックマトリックスを、黒の色材料を含
有する本発明に係るカラーフィルターレジストを利用し
て形成する場合には、透明基板上に赤,緑,青の画素画
像を形成する方法と同様の方法を採用することでブラッ
クマトリックスを形成する。この際、ブラックマトリッ
クスを形成する操作を2回以上繰り返すことで、ブラッ
クマトリックス画像を積層して、目的の透過濃度のブラ
ックマトリックス画像を完成させることも可能である。
【0091】以上、ブラックマトリックスが形成された
透明基板上に赤,緑,青の画素画像を形成する方法を説
明したが、赤,緑,青の画素画像形成後にブラックマト
リックスを形成する方法も採用可能である。
【0092】また、本発明に係るカラーフィルターレジ
ストを用いて、透明基板上に、ブラックストライプ、又
は、赤,緑,青の色材画素画像を形成させる際に、該カ
ラーフィルターレジストと透明基板との現像画像接着性
及び/又は熱硬化画像の接着性を高める目的で、該透明
基板上に色材料を含有しない光重合性組成物を光硬化さ
せた光硬化接着層を設けることができる。
【0093】該光硬化接着層に使用される光重合性組成
物に含有している光重合開始剤組成物、エチレン性化合
物、及び必要に応じて用いられる有機高分子物質は、前
記本発明に係るカラーフィルターレジストの構成成分の
中から適宜選択して用いることができ、このような光硬
化接着層は、この光重合性組成物を、通常、上記と同様
の方法により、乾燥膜厚が0.01〜2μm、好ましく
は0.02〜1μmの範囲となるように透明基板上に塗
設した後、該塗布された光重合性組成物層の適正露光量
の1〜10倍の露光量で露光して光硬化させることによ
り、形成することができる。
【0094】更に、また、本発明に係るカラーフィルタ
ーレジストを用いて透明基板上に形成されたブラックス
トライプ、又は、赤,緑,青の色材画素等のレジスト画
像の、経時による透明基板からの剥離、傷などの欠陥の
発生を防ぐ目的で、該レジスト画像を形成させた透明基
板の上に、上記の光硬化接着層の場合と同様の方法によ
り、光硬化層を設けることもできる。
【0095】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明を更
に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り
以下の実施例に限定されるものではない。
【0096】実施例1〜8、比較例1〜6 光重合開始剤組成物として下記 (i),(ii) の種類及び配
合を採用し、有機高分子物質としては下記αを用い、エ
チレン性化合物としては下記〜を用い、下記配合で
黒の色材を含有するブラックマトリックス形成用光重合
性組成物と、該光重合性組成物に対して、重量で3.6
倍量の0.5mm径ジルコニアビーズを入れたペイント
シェーカーを用いて7時間分散を行って、塗布液を調製
した。
【0097】
【化12】
【0098】
【化13】
【0099】
【化14】
【0100】[黒の色材光重合性塗布液組成] 光重合開始剤組成物 :表1,2に記載 有機高分子物質 :表1,2に記載 エチレン性化合物:表1,2に記載 塗布溶剤(シクロヘキサノン):500重量部 黒色顔料(カーホ゛ンフ゛ラック(三菱化学社製「MA−7」)):添
加率(顔料濃度)は表1 ,2に記載 調製された黒の色材含有光重合性塗布液を、ガラス基板
(コーニング社製No.7059)に乾燥膜厚が0.7
μmになるようにワイヤーバーコーターにより塗布し、
乾燥温度100℃で2分間乾燥し、更にポリビニルアル
コール水溶液を乾燥膜厚2μmになるように同様の方法
により塗布、乾燥した。次に、幅30μmで縦330μ
m、横110μmのピッチで繰り返すブラックマトリッ
クス用ネガフォトマスクを用いて、2Kw高圧水銀灯に
より表1,2の感度の欄に示す露光量で露光した後、表
1,2に示す成分を配合した水溶液よりなる現像液を用
い25℃で表1,2に示す時間浸漬し、3kg/m2
水圧で30秒間スプレー水洗して現像処理を行い、ブラ
ックマトリックスを形成させ、次に200℃,7分間の
熱処理により熱硬化させた。
【0101】なお、現像液の調製に用いた、アニオン性
界面活性剤、ジオール類、その他の成分は次の通りであ
る。
【0102】[現像液成分] (本発明に係るノニオン性界面活性剤) a:ポリエチレンオキシ−β−ナフチルエーテル (日本乳化剤社製「Newcol B−10」前記一般
式(III) におけるr=10) b:ポリエチレンオキシ−β−ナフチルエーテル (日本乳化剤社製「Newcol B−18」前記一般
式(III) におけるr=18) c:ポリエチレンアルキルフェニルエーテル (日光ケミカルズ社製「NP−10」前記一般式(III)
におけるr=18) (その他の界面活性剤) d:アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム (花王社製「ペレックスNBL」) e:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム (花王社製「ネオペレックス No.25」) f:ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸ナトリウ
ム (日光ケミカルズ社製「AKYPO RLM 100
NV」) g:ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド (無機のアルカリ剤) s:炭酸カリウム t:水酸化カリウム (有機のアルカリ剤) u:ジエタノールアミン v:テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド (その他の成分) p:エチレングリコール 得られた試料を以下の評価方法で評価し、その結果を表
1,2に示した。
【0103】[吸光度(O.D.)]700nmの光の
最小吸光度(O.D.min)を測定した。
【0104】[顔料濃度]黒の色材光重合性塗布液の固
形分中に含有されている顔料の割合。 顔料濃度=顔料の重量/全固形分重量 [感度]ウグラテストチャートを試料上に置き、該チャ
ートの上より各種露光量を変化させながら、2Kw高圧
水銀灯により露光した後、熱処理、浸漬時間30秒の現
像処理を施し、得られたウグラテストチャート画像中の
細線画像の最も細いポジとネガの細線の線幅が同じにな
る時の露光量で感度を評価する。露光量が低い程、高感
度であることを示している。
【0105】[画質]ウグラテストチャートを用いて適
正露光量で露光し、表1,2の現像液及び浸漬時間で現
像処理を行い色材画像を形成させた。該色材画像の中の
細線画像を400倍の顕微鏡で観察し、再現されている
最も細い細線の線幅より、画質を下記基準で評価した。
細い細線が再現するほど良好な画質を示している。な
お、Fは、感光層が現像処理において全部溶解するか、
或いは、全く溶解しないため、画像が形成されなかった
ことを示す。 A:10μm以下の線幅の細線が再現されている。 B:10〜15μmの線幅の細線が再現されている。 C:15〜25μmの線幅の細線が再現されている。 D:25μm以上の線幅の細線が再現されている。
【0106】なお、Fは、感光層が現像処理において全
部溶解するか、或いは、全く溶解しないため、画像が形
成されなかったことを示す。
【0107】なお、適正露光量とは、ウグラテストチャ
ートを試料上に置き、該チャートの上より各種露光量を
変化させながら2Kw高圧水銀灯により露光した後、熱
処理、各現像液による現像処理を施し、得られたウグラ
テストチャート画像中の細線画像の最も細いポジとネガ
の細線の線幅が同じになる時の露光量を言う。
【0108】
【表1】
【0109】
【表2】
【0110】実施例9 実施例1において黒色顔料の代わりに下記の赤色の顔料
を下記の配合量(顔料濃度)で添加したこと以外は、実
施例1と同様にして評価を行ったところ、感度500m
j/cm2 ,455nmの吸光度1.3で同等の画質が
得られた。
【0111】赤色顔料:リオノーゲンレッドGD(東洋
インキ製造社製)/リオノーゲンオレンジR(東洋イン
キ製造社製) (=13:3(重量比)) 配合量(顔料濃度):55重量% 実施例10,11 実施例9において、赤色の顔料の代わりに下記の緑色顔
料(実施例10)又は青色顔料(実施例11)を使用し
たこと以外は実施例9と同様にして評価を行ったとこ
ろ、実施例9と同様に良好な感度及び画質が得られた。
【0112】緑色顔料:リオノールグリーン2YS(東
洋インキ製造社製)/リオノーゲンイエロー3G(東洋
インキ製造社製) (=9:17(重量比)) 青色顔料:リオノールブルーES(東洋インキ製造社
製)/リオノーゲンバイオレットRL(東洋インキ製造
社製) (=13.5:3.5(重量比))
【0113】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明のカラーフィ
ルターレジスト用現像液は、経時安定性に優れ、長期間
使用しても安定して高画質が得られ、しかも、露光量や
現像条件の許容範囲が広く、条件設定が容易で、現像時
の発泡による問題もないことから、高品質のカラーフィ
ルターを低コストで容易に、連続的に製造することがで
きる。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 無機のアルカリ剤とポリオキシアルキレ
    ンエーテル基を有するノニオン性界面活性剤とを含有す
    ることを特徴とするカラーフィルターレジスト用現像
    液。
  2. 【請求項2】 請求項1の現像液において、ポリグリシ
    ジルエーテル化合物と不飽和カルボン酸との付加反応で
    得られるエチレン性化合物を含有するカラーフィルター
    レジストの現像に使用されることを特徴とするカラーフ
    ィルターレジスト用現像液。
  3. 【請求項3】 請求項2の現像液において、エチレン性
    化合物が一般式(I)又は(II)で表される置換基を有
    することを特徴とするカラーフィルターレジスト用現像
    液。 【化1】 【化2】 (上記(I),(II)式中、mは0〜6の整数を示し、
    1 ,R2 は水素原子又はハロゲン原子を示し、R3
    置換基を有しても良い炭素数1〜10のアルキレン基
    (該置換基は、水酸基、ハロゲン原子、水酸基を有して
    も良い炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10の
    アルコキシ基、炭素数6〜15のアリール基、炭素数7
    〜15のアラルキル基、炭素数2〜10のアルケニル
    基、炭素数2〜10のアシルオキシ基である。)を示
    し、R4 は水素原子、水酸基を有しても良い炭素数1〜
    10のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、炭素
    数7〜15のアラルキル基又は炭素数2〜10のアルケ
    ニル基を示し、R5 は水素原子又はメチル基を示す。)
  4. 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか1項の現像
    液において、色材料として赤、緑又は青色材料を含有
    し、乾燥膜厚1μm以下に形成した塗膜の、400〜7
    00nmの範囲での最大吸光度が1.1以上であるカラ
    ーフィルターを製造するためのカラーフィルターレジス
    トの現像に使用されることを特徴とするカラーフィルタ
    ーレジスト用現像液。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし3のいずれか1項の現像
    液において、色材料として黒色材料を含有し、乾燥膜厚
    1μm以下に形成した塗膜の、400〜700nmの範
    囲での最小吸光度が2.0以上であるブラックマトリッ
    クスを製造するためのカラーフィルターレジストの現像
    に使用されることを特徴とするカラーフィルターレジス
    ト用現像液。
JP18389795A 1995-07-20 1995-07-20 カラーフィルターレジスト用現像液 Pending JPH0934128A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18389795A JPH0934128A (ja) 1995-07-20 1995-07-20 カラーフィルターレジスト用現像液

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18389795A JPH0934128A (ja) 1995-07-20 1995-07-20 カラーフィルターレジスト用現像液

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0934128A true JPH0934128A (ja) 1997-02-07

Family

ID=16143730

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18389795A Pending JPH0934128A (ja) 1995-07-20 1995-07-20 カラーフィルターレジスト用現像液

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0934128A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7150960B2 (en) 2005-01-27 2006-12-19 Everlight Usa, Inc. Developer composition

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7150960B2 (en) 2005-01-27 2006-12-19 Everlight Usa, Inc. Developer composition

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0780731B1 (en) Photopolymerizable composition for a color filter, color filter and liquid crystal display device
JPH09179298A (ja) 光重合性組成物
US5863678A (en) Photopolymerizable composition for a color filter
JPH09179297A (ja) 光重合性組成物
JPH09179296A (ja) 光重合性組成物
JP3674086B2 (ja) カラーフィルター用ブラックマトリックス及びブラックマトリックス用レジスト組成物
JP3577854B2 (ja) カラーフィルター用光重合性組成物、カラーフィルターおよび液晶表示素子
JPH09176240A (ja) 光重合性組成物
JP3641894B2 (ja) カラーフィルター用黒色光重合性組成物
JP3577800B2 (ja) ブラックマトリックス用カラーフィルターレジスト
JP3873320B2 (ja) カラーフィルター用光重合性組成物
JP3641876B2 (ja) カラーフィルター用光重合性組成物
JPH08201611A (ja) カラーフィルターレジスト
JP3641895B2 (ja) カラーフィルター用光重合性組成物及びカラーフィルター
JP3644105B2 (ja) カラーフィルター用光重合性組成物
JP3572731B2 (ja) カラーフィルター
JP3509277B2 (ja) カラーフィルターレジスト
JP3677848B2 (ja) カラーフィルター
JP3907221B2 (ja) カラーフィルター用ブラックマトリックス及びブラックマトリックス用レジスト組成物
JPH0996719A (ja) カラーフィルター用光重合性組成物
JPH0934128A (ja) カラーフィルターレジスト用現像液
JP3624466B2 (ja) カラーフィルターレジスト
JP3633073B2 (ja) カラーフィルター用光重合性組成物
JP3572730B2 (ja) カラーフィルター
JPH08194109A (ja) カラーフィルターの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040413