JP2006072339A - 光学走査装置 - Google Patents

Abstract

【課題】装置の厚みを抑えつつ走査レンズからの反射光だけを遮光できる光学走査装置を提供する。
【解決手段】走査レンズ１を境にして偏向器２が配置されている側とは反対側に、走査レンズで反射し被走査面に向かう反射光を遮光する遮光板３を有し、偏向器と走査レンズとの距離をＬ_１、偏向器と遮光板との距離をＬ_２、走査レンズの厚みをＴ、偏向器に対するレーザー光の副走査方向の入射角度をα、レーザー光の収束角度を２θとするとき、

の数式を満たす範囲内に前記遮光板が配置されている。
【選択図】 図２

Description

本発明は、複写機やプリンタ等の画像形成装置に搭載する光学走査装置に関し、特に、光源から発生するレーザー光（光束）が、走査レンズを通過した後回転多面鏡で偏向され、その後再び走査レンズを通過して被走査面（感光体）に向かって出射する所謂ダブルパス光学系を搭載する光学走査装置に関する。

プリンタや複写機の単位時間あたりの出力枚数を増やすには、光ビームによる感光体ドラムへの走査速度も上げなければならない。走査速度を上げる手法として、回転多面鏡の回転速度を上げる方法、光源を複数設けてマルチビーム化する方法、などがあるが、回転多面鏡の直径を抑えつつ反射面数を稼げるオーバーフィールドタイプの光学走査装置も走査速度を上げる手法の一つとして知られている。オーバーフィールドタイプの光学走査装置は、回転多面鏡に入射するレーザー光の主走査方向の幅が回転多面鏡の１つの面の主走査方向の幅より大きいという特徴を有する。

このオーバーフィールドタイプの光学走査装置では、回転多面鏡で偏向された光ビームのＦナンバーが偏向角度によって変化するので、感光体ドラム等の被走査面上において光ビームのビーム径や光量が主走査方向に沿って不均一になるという現象が生ずる。この現象を緩和するため、オーバーフィールドタイプの光学走査装置では、回転多面鏡に対し主走査方向については正面でかつ副走査方向については角度を付けて光ビームを入射する方式を用いることが一般的である。その際、回転多面鏡に対する光ビームの副走査方向の入射角度の制約を解消するために、光ビームが走査レンズ（ｆθレンズ）を透過して回転多面鏡に入射され、回転多面鏡で反射された光ビームが再び走査レンズを透過するようにした、いわゆるダブルパスタイプの光学走査装置も提案されている。実公平０６−３５２１２号、特公平０６−２７９０２号には、ダブルパスタイプの光学走査装置が記載されている。

このようにダブルパスタイプの光学走査装置は、レーザービームを走査レンズに入射させ、走査レンズからの出射光を回転多面鏡で偏向した後、再び前記走査レンズを通過させる仕組みの光学走査装置である。走査レンズを２度通過したレーザービームは、その後、画像形成装置の像担持体としての感光体ドラムへと導かれ、該感光体ドラム上に静電潜像を形成する。

しかしながら、通常、レーザービームが走査レンズを通過する際には、該レーザービームの全てが完全に通過するのではなく、一部が走査レンズ表面にて反射する。この反射したレーザービームが装置の任意の部分で反射されることで感光体ドラムに至ると、該感光体ドラム上に期待しない静電潜像が形成されてしまうおそれがある。特に上記のように、２度走査レンズを通過させる構成であると、走査レンズ表面で反射する反射光の数も多くなり、反射光が感光体ドラムに至るおそれも増してしまう。

特に、回転多面鏡によって偏向される前に走査レンズによって反射されるレーザー光は、常に光路が同じであるので、感光体ドラムの中央の同じ位置に照射される。この反射光の光量はわずかではあるが、不必要な静電潜像を形成する原因となる。すると、感光体ドラム上に形成される画像の鮮明度を下げるおそれがある。

以上の不具合を少なくするため、走査レンズ２の表面に多層膜等の高価な反射防止コーティングを施す場合がある。しかしながら、該コーティングは極めて高価なものであるため、装置のコストが高くなってしまう。

そこで、上述した実公平０６−３５２１２号、特公平０６−２７９０２号には、ｆθレンズによる反射光が感光体へ到達しないように、この反射光を遮光する遮光板を設けることが開示されている。

実公平０６−３５２１２号 特公平０６−２７９０２号 特開平１０−３２５９３４号

ところで、ダブルパスタイプの光学走査装置は、図３に示すように、回転多面鏡２の反射面２Ｆにレーザー光が副走査方向（回転多面鏡による偏向方向と直交する方向）で斜めから入射する光学走査装置である。この副走査方向の入射角度（斜入射角α）を大きくすれば、回転多面鏡へ向かうレーザー光（入射光Ｒｉ１）と走査レンズ１による反射光とのなす角度が大きくなり、入射光Ｒｉ１や走査光Ｒｓ１を遮らずに反射光だけを遮る位置に遮光板を配置するのは比較的容易である。

しかしながら、斜入射角αを大きくすると回転多面鏡の偏心が原因の感光体上の走査線間隔のムラ（ピッチムラＰ）は大きくなってしまい好ましくない。また、斜入射角αを大きくすると、光学走査装置の厚みが大きくなってしまい、装置全体が大型化してしまう。

これに対して、斜入射角αを小さくすれば、走査線のピッチムラＰを抑えることが出来、装置の厚みも抑えることが出来る。

しかしながら、斜入射角αを小さくすると遮光板を配置できるエリアが狭くなり、画像形成に必要なレーザー光を遮光しない位置に遮光板を設置するのが難しくなる。

また近年、フルカラー画像形成装置においては、複数の画像形成部を一列に並べたいわゆるタンデム方式の画像形成装置が普及している。このタンデム型の画像形成装置のコストを抑えるために、１つのレーザースキャナユニットが複数の感光体に対してレーザー光を出射する方式（１ＢＯＸタイプ或いは２ＢＯＸタイプなどがある）がある。このような１ＢＯＸタイプ或いは２ＢＯＸタイプのレーザースキャナユニットで前述のダブルパス方式を採用する場合、１つの回転多面鏡に対する入射光及び走査光の数が増えるので、前述した遮光板を配置できるエリアは更に狭くなり、画像形成に必要なレーザー光を遮光しない位置に遮光板を設置するのが難しくなる。

本発明は上述の課題に鑑み成されたものであり、その目的は、装置の厚みを抑えつつ走査レンズからの反射光だけを遮光できる光学走査装置を提供することにある。

前記課題を解決するための本発明に係る代表的な構成は、レーザー光が発生する光源と、該光源から発生するレーザー光を偏向する偏向器と、前記偏向器で偏向されたレーザー光が通過する走査レンズと、を有し、前記光源から発生するレーザー光が、前記走査レンズを通過した後、前記偏向器で偏向され、その後再び前記走査レンズを通過して被走査面に向かって出射する光学走査装置において、前記走査レンズを境にして前記偏向器が配置されている側とは反対側に、前記走査レンズで反射し前記被走査面に向かう反射光を遮光する遮光板を有し、前記偏向器と前記走査レンズとの距離をＬ_１、前記偏向器と前記遮光板との距離をＬ_２、前記走査レンズの厚みをＴ、前記偏向器に対する前記レーザー光の副走査方向の入射角度をα、前記レーザー光の収束角度を２θとするとき、

の数式を満たす範囲内に前記遮光板が配置されていることを特徴とする。

更に本発明は、第１のレーザー光が発生する第１の光源と、第２のレーザー光が発生する第２の光源と、前記第１及び第２の光源から発生する第１及び第２のレーザー光を偏向する偏向器と、前記偏向器で偏向された第１及び第２のレーザー光が通過する走査レンズと、を有し、前記第１及び第２の光源から発生する第１及び第２のレーザー光が、共に前記走査レンズを通過した後前記偏向器で偏向され、その後再び前記走査レンズを通過して第１の被走査面と第２の被走査面に向かって夫々出射する光学走査装置において、前記走査レンズを境にして前記偏向器が配置されている側とは反対側に、前記走査レンズで反射し前記第1または第２の被走査面に向かう反射光を遮光する遮光板を有し、前記偏向器と前記走査レンズとの距離をＬ_１、前記偏向器と前記遮光板との距離をＬ_２、前記偏向器に入射する前記第１及び第２のレーザー光の副走査方向の距離をＬ_３、前記走査レンズの厚みをＴ、前記偏向器に対する前記第１及び第２のレーザー光夫々の副走査方向の入射角度をα、前記第１及び第２のレーザー光夫々の収束角度を２θとするとき、

の２つの数式を満たす範囲内に前記遮光板が配置されていることを特徴とする。

更に本発明は、第１のレーザー光が発生する第１の光源と、第２のレーザー光が発生する第２の光源と、前記第１及び第２の光源から発生する第１及び第２のレーザー光を偏向する偏向器と、前記偏向器で偏向された第１及び第２のレーザー光が通過する走査レンズと、を有し、前記第１及び第２の光源から発生する第１及び第２のレーザー光が、共に前記走査レンズを通過した後前記偏向器で偏向され、その後再び前記走査レンズを通過して第１の被走査面と第２の被走査面に向かって夫々出射する光学走査装置において、前記第１及び第２の光源から発生し前記偏向器に向かう前記第１及び第２のレーザー光は前記走査レンズより手前で交差しており、この交差位置または交差位置近傍に前記走査レンズで反射し前記第1及び第２の被走査面に向かう反射光を遮光する遮光板が設けられていることを特徴とする。

本発明は、上述の如き構成を有するので、装置の厚みを抑えつつ走査レンズからの反射光だけを遮光できる光学走査装置を提供することが出来る。

〔第１実施形態〕
図を用いて本発明の第１実施形態について説明をする。説明にあたり、画像形成装置の説明をした後、光学走査装置の説明をする。

（画像形成装置）
まず、画像形成装置について説明する。本実施形態においては、複数の像担持体を有するカラー画像形成装置について説明する。図９は画像形成装置の概略説明図である。

図９に示すように、画像形成装置100は、後述する光学走査装置101と、その他の部分（画像形成部）とから構成される。画像形成部は、複数の感光体ドラム（像担持体）102（102Ｃ、102Ｙ、102Ｍ、102Ｋ）が配設される。ここで説明する４つの感光体ドラムは、それぞれ、現像される色に対応している。即ちシアンはＣ、イエローはＹ、マゼンタはＭ、ブラックはＫとなる。

感光体ドラム102の周辺には、感光体ドラム102を一様に帯電する一次帯電器103（103Ｃ、103Ｙ、103Ｍ、103Ｋ）と、静電潜像にトナーを供給することにより現像を行う現像器104（104Ｃ、104Ｙ、104Ｍ、104Ｋ）と、感光体ドラムから紙等の転写材110に対してトナー像の転写を行う転写ローラ105（105Ｃ、105Ｙ、105Ｍ、105Ｋ）と、転写されずに残ったトナーをクリーニングするクリーナ106（106Ｃ、106Ｙ、106Ｍ、106Ｋ）とが配設される。また、感光体ドラム102と転写ローラ105に挟まれる位置に、転写材110を搬送するための搬送ベルト107が、駆動ローラ124等に張架されて配設される。

また、搬送ベルト107の下部には、紙等の転写材110を積載保持するトレイ121と、トレイ121から転写材110を繰り出すための給送ローラ122と、転写材110の姿勢を整えつつタイミングを合わせて転写材110を搬送ベルト107へ供給するレジストローラ123と、を有する。また、搬送ベルト107の転写材110搬送方向下流には、転写材110上に転写されたトナー像を定着する定着器125と、装置外に転写材110を排出する排出ローラ126が配設される。

この構成により、画像形成装置は、次のようにして画像を形成する。まず、一次帯電器103により一様に帯電された状態の感光体ドラム102に対して、光学走査装置101から走査光束（レーザービーム）Ｒｓ１Ｃ、Ｒｓ１Ｙ、Ｒｓ１Ｍ、Ｒｓ１Ｋが照射される。該走査光束は、画像情報に基づいて各々光変調されているため、各感光体ドラム102上には、画像情報に応じた静電潜像が形成されることになる。

静電潜像は、現像器104により、シアン、イエロー、マゼンタ、ブラックのトナーが供給されることにより、可視像化される。この後、感光体ドラム102の面上に残っている残留トナーはクリーナ106によりクリーニングされ、次のカラー画像を形成するために再度一次帯電器103によって一様に帯電される。

一方、トレイ121上に積載されている転写材110は、給送ローラ122によって１枚ずつ順に給送され、レジストローラ123によって画像の書き出しタイミングに同期をとって搬送ベルト107上に送り出される。搬送ベルト107上を精度よく搬送されている間に、感光体ドラム102面上に形成されたシアンの画像、イエローの画像、マゼンダの画像、ブラックの画像が順に転写材110上に転写されてカラー画像が形成される。

駆動ローラ124は搬送ベルト107の送りを精度よく行っており、回転ムラの小さな駆動モータ（図示しない）と接続している。転写材110上に形成されたカラー画像は定着器125によって熱定着されたのち、排出ローラ126などによって搬送されて装置外に出力される。

（光学走査装置）
次に光学走査装置の全体構成を説明する。図８は、本実施形態の光学走査装置の説明図である。

図８に示すように、本実施形態の光学走査装置101は、光束（レーザービーム）を発生する光源９（図８では光源９の駆動基板だけを示している）と、光源から出射する光束を折り返すミラー６と、光源から出射される光束が入射光束となって通過する第一走査レンズ１と、前記入射光束を偏向する回転多面鏡（偏向器）２と、回転多面鏡２により偏向された走査光束を反射し感光体ドラム102の方向へ導く反射鏡４と、反射鏡４から感光体ドラム102に至る途中に配設される第二走査レンズ５とを有する。このように、本実施形態の光学走査装置は、光束が２度第一走査レンズ１を通過する構成であり、いわゆる斜入射及びセンター入射のダブルパス走査光学系である。また、遮光板３が第一走査レンズ１を境にして回転多面鏡２が配置されている側とは反対側に配置される。遮光板３の構成については後に詳細に述べる。

以上の構成により、光源から出射された光束は、次のような経路をたどる。図１に示すように、光源から出射され第一走査レンズ１に入射する入射光束Ｒｉ１は、第一走査レンズ１を通過した後、回転多面鏡２に入射角αで到達する。入射光束Ｒｉ１は、回転多面鏡２の反射面２Ｆで反射されて（偏向されて）走査光束Ｒｓ１となる。走査光束Ｒｓ１は再び第一走査レンズ１に入射して通過し、反射鏡４で反射され、第二走査レンズ５を通過して感光体ドラム102へ導かれる。

第一走査レンズ１の表面において、入射光束Ｒｉ１が反射される場合について図２を用いて説明する。ここで、第一走査レンズ１の表面で光源や反射鏡４等がある方の面を第一面１Ｆ１とし、回転多面鏡２がある方の面を第二面１Ｆ２として説明する。

図２に示すように、入射光束Ｒｉ１が第一走査レンズ１の第一面１Ｆ１に入射する際に、第一走査レンズ１の第一面１Ｆ１においては、入射光Ｒｉ１の入射角と略同様の角度で反射される反射光（感光体ドラム102上でゴーストを形成するゴースト光）Ｒｇ１が発生する。同様に、入射光束Ｒｉ１が第一走査レンズ１の第二面１Ｆ２から出射する際に、第一走査レンズ１の第二面１Ｆ２で反射鏡４側に反射される反射光Ｒｇ２が発生する。

ここで、反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２は、回転多面鏡２によって偏向される前に反射される光であるため、反射光Ｒｇ１は反射後、ほぼ一定の光路をたどり、また反射光Ｒｇ２も反射後、ほぼ一定の光路をたどる。すると、感光体ドラム102中央付近の同じ位置に反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２は照射される結果となる。これにより、感光体ドラム102上には本来得るべき画像とは異なる静電潜像が形成されてしまうこととなる。

（遮光板３が配置される位置について）
本実施形態においては、反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２を遮る遮光板３を配置することにより、得るべき画像とは異なる静電潜像が感光体ドラム102上に形成されることを防止する。遮光板３を配置する位置の条件について詳細に述べる。

まず、遮光板３は入射光束Ｒｉ１と走査光束Ｒｓ１を遮ることなく、反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２のみを遮る必要がある。ここで、本実施形態においては、入射光束Ｒｉ１は、副走査方向（主走査方向と直交する方向）に収束角度２θの幅を持っている。また、走査光束Ｒｓ１も副走査方向に発散角度２θを持っている。このため、遮光板３はこれらと重ならない位置に配置する必要がある。

また、ダブルパス走査光学系は、回転多面鏡２の反射面２Ｆに対し、入射光束Ｒｉ１が角度αをもって入射する斜入射光学系である。このため、入射角αを小さくした方が、図２における上下方向の幅が小さくなり、装置の小型化のために有利である。従って、装置の小型化を考慮すると入射光束Ｒｉ１の回転多面鏡２への入射角αは小さいほうが好ましい。

また、図３に示すように、斜入射光学系の場合、回転多面鏡２の面偏心ΔＭによって、いわゆるピッチムラＰが発生する場合がある。ピッチムラＰとは、感光体ドラム102に照射される走査光束の位置が、回転多面鏡の各面毎に副走査方向にずれることをいう。このピッチムラＰを小さくするためには、回転多面鏡２の面偏心ΔＭを小さくするか、入射角αを小さくするかのいずれかの方法がある。ここで、回転多面鏡２の面偏心ΔＭは、製造限界を考慮するとおよそ１０μｍ程度は残ってしまうため、入射角αを小さく設定することで、ピッチムラＰを小さくする方が好ましい。したがって、入射角αを小さくすれば装置の小型化に有利であるばかりでなく、ピッチムラを抑えるのにも有利である。

しかしながら、入射角αを小さくすると入射光束Ｒｉ１と走査光束Ｒｓ１の間が狭くなるので、入射光束Ｒｉ１と走査光束Ｒｓ１を遮光しないように、より厳密に遮光板の位置を設定しなければならない。

また、図２を参照すれば理解できるように、遮光板３を走査レンズ１に近づけ過ぎると入射光束Ｒｉ１を遮光してしまう可能性が出てくる。逆に、走査光束Ｒｓ１は発散角度２θを有するので、遮光板３を走査レンズ１から遠ざけ過ぎると走査光束Ｒｓ１を遮光してしまう可能性が出てくる。

そこで本実施形態では、遮光板３が反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２を遮光しつつ、入射光束Ｒｉ１及び走査光束Ｒｓ１を遮光しないように遮光板３の位置を設定した。図２ではラインＡとラインＢの範囲となる。

まず、ラインＡの条件を求めるために反射光Ｒｇ２の位置を求める。なお、回転多面鏡２と第一走査レンズ１との距離をＬ_１、回転多面鏡と前記遮光板の距離をＬ_２、入射光束Ｒｉ１の第一走査レンズ１に対する入射角度をα、光束の収束角度を２θとする（この場合、走査光束Ｒｓ１の出射角度はα、発散角度は２θとなる）。

図２において回転多面鏡２のレーザー光入射位置を副走査方向の基準（図２の二点鎖線のライン）とし、基準ラインより上側をプラス、下側をマイナスとした場合、入射光束Ｒｉ１が第一走査レンズ１の回転多面鏡２に対向する側の面１Ｆ２で反射する位置（副走査方向の高さ）は、
−Ｌ_１ｔａｎ（α＋θ）
と表せる。

また、反射光Ｒｇ２が第一走査レンズ１の回転多面鏡２に対向する側の面１Ｆ２で反射する位置を基準とした反射光Ｒｇ２の副走査方向の高さは、
（Ｌ_２−Ｌ_１）ｔａｎ（α＋θ）
と表せる。

したがって、
−Ｌ_１ｔａｎ（α＋θ）＋（Ｌ_２−Ｌ_１）ｔａｎ（α＋θ）＝（Ｌ_２−２Ｌ_１）ｔａｎ（α＋θ）
が図２の二点鎖線を基準とした反射光Ｒｇ２の高さを示している。

一方、走査光束Ｒｓ１の位置は、
Ｌ_２ｔａｎ（α−θ）
と表現できる。

よって走査光束Ｒｓ１と反射光Ｒｇ２が重ならない条件式は、
（Ｌ_２−２Ｌ_１）ｔａｎ（α＋θ）＜Ｌ_２ｔａｎ（α−θ）
となる。

ところで、装置の使用環境の影響や製造公差を考慮すると、走査光束Ｒｓ１と反射光Ｒｇ２の間には副走査方向に０．５ｍｍのマージンが必要であることがわかった。そこでこのマージンを考慮すると、走査光束Ｒｓ１と反射光Ｒｇ２が重ならない条件式（１）は、
（Ｌ_２−２Ｌ_１）ｔａｎ（α＋θ）＜Ｌ_２ｔａｎ（α−θ）−０.５（１）
となる。

同様にして、ラインＢの条件を求めるために、二点鎖線を基準とした反射光Ｒｇ１の副走査方向の高さは、第一走査レンズの光軸方向の厚みをＴとすると、
−（Ｌ_１＋Ｔ）ｔａｎ（α＋θ）＋｛Ｌ_２−（Ｌ_１＋Ｔ）｝ｔａｎ（α＋θ）＝｛Ｌ_２−２（Ｌ_１＋Ｔ）｝ｔａｎ（α＋θ）
と表せる。

なお、本実施形態の場合、主走査方向において入射光束Ｒｉ１の光軸と第１走査レンズ１の光軸が一致しているため、レンズの厚みＴは第１走査レンズ１の光軸方向の厚み（主走査方向略中央の厚み）であるが、主走査方向において入射光束Ｒｉ１の光軸と第１走査レンズ１の光軸が若干ずれている場合も考えられる。したがって、主走査方向において、入射光束Ｒｉ１の光軸と第１走査レンズ１の光軸が一致している場合、及び入射光束Ｒｉ１の光軸と第１走査レンズ１の光軸が若干ずれている場合、両方の場合を考慮すると、厚みＴは主走査方向において入射光束Ｒｉ１の光軸方向の厚みと考えれば良い。

また、入射光束Ｒｉ１の位置は、
−Ｌ_２ｔａｎ（α−θ）
と表現できる。

よって入射光束Ｒｉ１と反射光Ｒｇ１が重ならないための条件式は、
−Ｌ_２ｔａｎ（α−θ）＜｛Ｌ_２−２（Ｌ_１＋Ｔ）｝ｔａｎ（α＋θ）
となる。

ところで、装置の使用環境の影響や製造公差を考慮すると、入射光束Ｒｉ１と反射光Ｒｇ１の間にも副走査方向に０．５ｍｍのマージンが必要であることがわかった。そこでこのマージンを考慮すると、入射光束Ｒｉ１と反射光Ｒｇ１が重ならない条件式（２）は、
−Ｌ_２ｔａｎ（α−θ）＋０.５＜｛Ｌ_２−２（Ｌ_１＋Ｔ）｝ｔａｎ（α＋θ）（２）
となる。

以上のような条件式（１）と条件式（２）を纏めると、反射板を、

を満たす範囲内（図２中ラインＡとラインＢの範囲内）に配置し、反射光Ｒｇ１及びＲｇ２を遮光するのが好ましい。

以上のように、〔数１〕を満たす範囲内に遮光板３を配置すれば、入射光束Ｒｉ１及び走査光束Ｒｓ１から副走査方向に分離された場所に遮光板が配置されるため、入射光束Ｒｉ１及び走査光束Ｒｓ１を遮光することなく確実に反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２が遮光される。また、入射角αを小さく設定しても入射光束Ｒｉ１及び走査光束Ｒｓ１を遮光することなく反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２を遮光できる位置となるので、装置の小型化を図ることができると同時にピッチムラＰの少ない良好な画像を得ることができる。

〔第２実施形態〕
本発明の第２実施形態について図４及び図５を用いて説明する。前述と同様の構成については説明を省略する。

（光学走査装置）
本実施形態の光学系もダブルパス走査光学系の光学走査装置201である。本実施形態の光学走査装置201は、１つのレーザースキャナユニットから２つの感光体ドラム102に対して走査光束を照射することができる。したがって、画像形成装置が４つの感光体を有する場合、本実施形態のレーザースキャナユニットを２つ搭載すれば良い。

本実施形態においては、光源から出射された光束は次のような経路をたどる。図４に示すように、光学走査装置201においては、複数の光源から出射された光束（入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２）は、単一の回転多面鏡２の同一面上に、副走査方向にＬ_３の間隔で入射する。入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２は、回転多面鏡２の反射面２Ｆにおいて偏向され走査光束Ｒｓ１、Ｒｓ２となる（図9に対応させて表記すると、Ｒｓ1=Ｒｓ1Ｍ、Ｒｓ２=Ｒｓ1Ｋとなる）。複数の走査光束Ｒｓ１、Ｒｓ２は、反射鏡４（４ａ、４ｂ、４ｃ）で反射され、第二走査レンズ５（５ａ、５ｂ）を通り、感光体ドラム102Ｍ、102Ｋ方向へと導かれる。尚、図４においては、感光体ドラム102Ｍ、102Ｋのみについて述べたが、感光体ドラム102Ｙ、102Ｃに対しても同様の構成の光学走査装置から走査光束が照射される。このように４つの感光体ドラムに対して光学走査装置（レーザースキャナユニット）が２つで済む構成を２ＢＯＸタイプの光学走査装置と称する。

本実施形態も第１実施形態と同様に入射角αは小さい方が好ましい。特に本実施形態は副走査方向にＬ_３の間隔で複数光束を入射させているため、Ｌ_３の距離だけ高さを確保する必要がある。このため、装置の高さを小さくするためには角度αは可能な限り小さくすることが好ましい。

第一走査レンズ１の表面において、入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２が反射されて発生する反射光（ゴースト光）について説明する。図５に示すように、第１実施形態と同様に、入射光束Ｒｉ１が第一走査レンズ１の第一面１Ｆ１に入射する際には、反射光Ｒｇ１が発生し、入射光束Ｒｉ１が第一走査レンズ１の第二面１Ｆ２から出射する際には、反射光Ｒｇ２が発生する。同様に、入射光束Ｒｉ２の第一走査レンズ１に対する入射時には反射光Ｒｇ３が発生し、第一走査レンズ１からの出射時には反射光Ｒｇ４が発生する。

反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２、Ｒｇ３、Ｒｇ４は、入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２が回転多面鏡２により偏向される前に発生する。このため、前述の実施形態と同様の理由により、感光体ドラム102上には本来得るべき画像とは異なる静電潜像が形成されてしまうこととなる。図１０に反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２、Ｒｇ３、Ｒｇ４が感光体１０２Ｍ及び１０２Ｋに到達するまでの様子を示す。

（遮光板３が配置される位置について）
本実施形態においては、反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２、Ｒｇ３、Ｒｇ４を遮る遮光板３（３ａ、３ｂ）を配置することにより、得るべき画像とは異なる静電潜像が感光体ドラム102上に形成されることを防止する。以下に遮光板３を配置する位置の条件について詳細に述べる。

まず、遮光板３は、入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２と走査光束Ｒｓ１、Ｒｓ２を遮ることなく、反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２、Ｒｇ３、Ｒｇ４のみを遮る必要がある。ここで、本実施形態においては、入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２は副走査方向に収束角度２θの幅を持っている。また走査光束Ｒｓ１、Ｒｓ２は、副走査方向に発散角度２θの幅を持っている。このため、遮光板３はこれらと重ならない位置に配置する必要がある。

以上の条件を考慮して、入射角αの設定に拘わらず最適な遮光板の位置を示したものが下記の〔数２〕及び〔数３〕である。ここで距離Ｌ₂は、回転多面鏡２の反射面２Ｆにおける入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２が入射する位置を基準に反射面２Ｆに対して垂直方向（図中の２点鎖線上）の距離である。遮光板３は、

の両方を満たす範囲内に配置する。なお、この範囲内に配置するのは遮光板３のうち図５の３ａと３ｂの部分である。

〔数２〕、〔数３〕において、回転多面鏡２と第一走査レンズ１との距離をＬ_１、入射光束Ｒｉ１及びＲｉ２夫々の回転多面鏡２に対する副走査方向の入射角をα、夫々の光束の収束角度を２θ、複数光束の入射間隔（回転多面鏡２の反射面２Ｆ上の副走査方向の距離）をＬ_３とする。

〔数２〕は入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２が第一走査レンズ１に入射する前に交差する位置の近傍を表している。入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２が交差する位置であれば、二つの入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２の占有する領域が最も小さくなる。このため、それぞれの反射光の遮光が容易になる。回転多面鏡の反射面から入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２が交差する位置までの距離をLｘとすると、図５に示した二本の二点鎖線のうち一方を基準にした入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２が交差する位置の高さはＬｘｔａｎαと表せるので、
２Ｌｘｔａｎα＝Ｌ_３、
Ｌｘ＝Ｌ_３／２ｔａｎα、
となる。

ところで、装置の使用環境の影響や製造公差を考慮すると、入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２が交差する位置に対して遮光板の配置位置として第一走査レンズの光軸方向に±３０ｍｍのマージンが必要であることがわかった。そこでこのマージンを考慮した範囲が〔数２〕となる。

〔数３〕は第１実施形態を参考にすればその範囲が理解できるであろう。

上記〔数２〕及び〔数３〕を満たす範囲内に遮光板３の一部３ａ、３ｂを配置すれば、確実にゴースト光が遮光される。また、角度αを極力小さくしてピッチムラの少ない良好な画像を得ると同時に装置の小型化を実現することができる。

また、タンデム方式のカラー画像形成装置に本実施形態のような２ＢＯＸタイプの光学走査装置を用いる場合、複数の光束を単一の回転多面鏡２によって得ることができるので、装置の消費エネルギーが少ない光学走査装置を提供することができる。

本実施形態の光学走査装置が搭載する遮光板３は、その一部３ａ、３ｂにおいて反射光を遮光する、板状の一体部品である。遮光板３には、入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２と走査光束Ｒｓ２を通過させるためのスリットＳ１、Ｓ２が設けられている。このように２箇所を遮光する遮光板を一体の部材とすれば部材点数が少なくなるため、遮光板のコスト低減が可能になる効果がある。さらに一体部材としたことによって、取り付け時には一つの部材を装置筐体に取り付ければ足りる。すると、遮光板の取り付け時の公差を少なくすることができ、遮光板の位置精度を高くすることができる。

また上述のように遮光板３を入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２の交差する位置もしくはその近傍に配置することで、入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２や走査光束Ｒｓ１、Ｒｓ２を遮らずに反射光のみを遮光する設計が行い易くなる。このように遮光板３を配置しやすくするために、本実施形態では入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２を交差させており、尚且つ、その交差位置が入射光束の進行方向において走査レンズ1より手前になっている。なお、本実施例の場合も第１の実施形態と同じように、入射光束や走査光束と、反射光との間に副走査方向に０．５ｍｍのマージンを考えるとより好ましい。この場合、〔数３〕を〔数１〕に置き換え、遮光板を〔数１〕及び〔数２〕を満たす範囲内に配置すれば良い。

〔第３実施形態〕
本発明の第３実施形態について図６を用いて説明する。前述と同様の構成については同符号を付して説明を省略する。

（光学走査装置）
前述した実施形態では遮光板を第一走査レンズの光軸（二点鎖線の方向）に対して垂直（回転多面鏡の回転軸と平行）に設けていたが、図６に示す本実施形態の遮光板３は、第一走査レンズの光軸と遮光板の成す角度βを９０°より小さく（回転多面鏡の回転軸に対し非平行に）している。このように遮光板３を偏向器の回動軸に対して傾けて配置すると、遮光板３の表面で反射した反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２、Ｒｇ３、Ｒｇ４は図６のＲｇ５やＲｇ６に示すような方向に反射する。

ここで、遮光板からの反射光は第一走査レンズ１の第一面１Ｆ１で反射して再反射光Ｒｇ５、Ｒｇ６となるが、図６に示すように、走査光束Ｒｓ１よりも上方の光路をたどるように遮光板３の角度βを設定しておけば、再反射光Ｒｇ５、Ｒｇ６は感光体ドラム102に到達することがないため、感光体ドラム102上に不必要な静電潜像が形成されることがない。この角度βの範囲としては７０°≦β＜９０°の範囲が好ましい。なお、本実施形態の遮光板も第２実施形態に示した範囲内に配置するのが好ましい。

また、図６に示すように、遮光板は入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２と走査光束Ｒｓ２を通過させるためのスリットＳ１、Ｓ２が設けられた板状の一体部品としてもよい。

〔第４実施形態〕
本発明の第４実施形態について図７を用いて説明する。前述と同様の構成については同符号を付して説明を省略する。

（光学走査装置）
図７に示すように、本実施形態の遮光板３は、光学走査装置の筐体10（光学箱）と一体的に形成されている。成型品を製造する型の内部にスライドを設けることでスリットＳ１、Ｓ２部を形成している。本実施形態の場合、遮光板３と光学走査装置の筐体10を一体として遮光板３のコスト低減を実現している。本実施形態では、遮光板３と光学走査装置の筐体10を一体としたが、光学走査装置の筐体10の開口部を覆う蓋11と一体の構成としても良い。遮光板３と蓋１１を一体成型品にする場合、遮光板３には入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２が通過するスリットと、走査光束Ｒｓ１が通過するスリットを設ける。なお、上述の第１実施形態に本実施形態を適用する場合、スリットは一つで良い。また、第３実施形態のように遮光板を傾けたものを光学走査装置の筐体や蓋と一体成型しても良い。

〔第５実施形態〕
次に本発明の第５実施形態を示す。本実施形態は、第１実施形態と同様、１つの感光体に対して画像情報に応じたレーザー光を照射する光学走査装置である。

図１０は本実施形態の光学走査装置の斜視図である。第１実施形態と同じ機能を有する部品には同じ番号を付してある。なお、光源９から出射しミラー６によって反射されるまでの光束に符号Ｒｉ０、ミラー６によって反射されて回転多面鏡２によって偏向されるまでの光束に符号Ｒｉ１、回転多面鏡２によって偏向された後の光束に符号Ｒｓ１を付している。Ｒｇ１及びＲｇ２は走査レンズ１からの反射光である。

本実施形態の光学走査装置も、第１実施形態同様、光源９から発生するレーザー光（光束）が、走査レンズ１を通過した後回転多面鏡２で偏向され、その後再び走査レンズ１を通過して被走査面（感光体）に向かって出射するダブルパスタイプである。

光源９から出射しミラー６によって反射されるまでの入射光束Ｒｉ０は、第一走査レンズ１の光軸に対し主走査方向に角度を持ってミラー６に入射して反射され、回転多面鏡２の方向へ導かれる（Ｒｉ１）。回転多面鏡２によって偏向され第１走査レンズ１を通過した走査光束Ｒｓ１は、途中でミラーにより反射されることなく第２走査レンズ５を通過し、更に光学箱１０に設けた穴１２を通って出射する。なお、本実施形態の回転多面鏡２は直径２０ｍｍで、１０面の反射面を有しており、各面の主走査方向の幅は５ｍｍである。また、回転多面鏡２に到達した入射光束Ｒｉ１の主走査方向の幅は８ｍｍであり、回転多面鏡２の各面の幅より大きい。

第１実施形態同様、走査レンズ１からの反射光Ｒｇ１及びＲｇ２を遮光する遮光板３が、入射光束Ｒｉ１進行方向において第１走査レンズ１よりも上流側（手前側）に配置されている。回転多面鏡２によって偏向された走査光束Ｒｓ１は遮光板３より上側を通過する。遮光板３はネジ８で光学ハウジング１０に締結されている。また、遮光板３には入射光束Ｒｉ１を通すスリット３aが設けられている。

第１走査レンズ１の曲率が大き過ぎると反射光Ｒｇ１及びＲｇ２の主走査方向の幅が大きくなり過ぎるため、遮光板３の主走査方向の幅を大きくしなければならない。そこで本実施形態では、反射光Ｒｇ１及びＲｇ２の主走査方向の幅が大きくなり過ぎないように第１走査レンズ１の曲率を決定している。具体的には、反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２の遮光板３上の幅Ｗが、第１走査レンズ１から遮光板３までの距離と同距離の位置における走査光束Ｒｓ１の主走査方向の幅よりも狭くなるように第一走査レンズ１の曲率は決定されている。

このように、遮光板３が、入射光束Ｒｉ１進行方向において第１走査レンズ１よりも上流側（手前側）に配置されており、この遮光板３に入射光束Ｒｉ１が通過するスリットを設けたので、遮光板３の幅を反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２の遮光板３上の幅Ｗより若干大きくするだけでよく、遮光板３を小さくできるというメリットがある。

〔第６実施形態〕
次に本発明の第６実施形態を示す。本実施形態は、第２実施形態と同様、２つの感光体に対して画像情報に応じたレーザー光を照射する２ＢＯＸタイプの光学走査装置である。

図１２は本実施形態の光学走査装置の斜視図である。第２実施形態と同じ機能を有する部品には同じ番号を付してある。また、二つの感光体に至るまでの２本のレーザー光の光路も第２実施形態と同じなので図４を参照されたい。なお、光源９から出射しミラー６によって反射されるまでの光束に符号Ｒｉ０（第１レーザー光）及びＲｉ００（第２レーザー光）、ミラー６によって反射されて回転多面鏡２によって偏向されるまでの光束に符号Ｒｉ１（第１レーザー光）及びＲｉ２（第２レーザー光）、回転多面鏡２によって偏向された後の光束に符号Ｒｓ１（第１レーザー光）及びＲｓ２（第２レーザー光）を付している。Ｒｇ１、Ｒｇ２、Ｒｇ３及びＲｇ４は走査レンズ１からの反射光である。光源ユニット９には第１のレーザー光を発生する半導体レーザー（第１の光源）と第２のレーザー光を発生する半導体レーザー（第２の光源）が設けられており、第１の光源と第２の光源は副走査方向に離間している。

本実施形態の光学走査装置も、第２実施形態同様、光源９から発生する第１及び第２レーザー光（光束）が、走査レンズ１を通過した後回転多面鏡２で偏向され、その後再び走査レンズ１を通過して第１及び第２の被走査面（感光体）に向かって出射するダブルパスタイプである。

光源９から出射しミラー６によって反射されるまでの入射光束Ｒｉ０及びＲｉ００は、第一走査レンズ１の光軸に対し主走査方向に角度を持ってミラー６に入射して反射され、回転多面鏡２の方向へ導かれる（Ｒｉ１及びＲｉ２）。回転多面鏡２によって偏向され第１走査レンズ１を通過した走査光束Ｒｓ１は、ミラー４ａにより反射され、その後レンズ５ａを通過して出射する。一方、走査光束Ｒｓ２は、ミラー４ｂ及び４ｃにより反射され、その後レンズ５ｂを通過して出射する。なお、本実施形態の回転多面鏡２は直径２０ｍｍで、１０面の反射面を有しており、各面の主走査方向の幅は５ｍｍである。また、回転多面鏡２に到達した入射光束Ｒｉ１及びＲｉ２の主走査方向の幅は８ｍｍであり、回転多面鏡２の各面の幅より大きい。

第２実施形態同様、入射光束Ｒｉ１及びＲｉ２は、その進行方向において第１走査レンズ１の上流側（手前側）で交差している。また、走査レンズ１からの反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２、Ｒｇ３及びＲｇ４を遮光する遮光板３が、入射光束Ｒｉ１及びＲｉ２進行方向において、入射光束Ｒｉ１及びＲｉ２の交差位置または交差位置近傍に配置されている。

本実施形態の遮光板３は、主走査方向両端部をネジにより光学ハウジングに保持されている。また遮光板３は、入射光束Ｒｉ０及びＲｉ００の両方が通過するスリット３ｂと、入射光束Ｒｉ１及びＲｉ２の両方が通過するスリット３ａを有する。回転多面鏡２によって偏向された後の走査光束Ｒｓ１は遮光板３よりも上側を通過し、回転多面鏡２によって偏向された後の走査光束Ｒｓ２は遮光板３よりも下側を通過する。

図１３は図１２に示す光学走査装置の遮光板３をＸ方向から見た図である。入射光束及び走査光束が通過するエリアと、反射光が照射されるエリアと、遮光板３と、の位置関係を示している。

第２実施形態〜第４実施形態で示した遮光板は、副走査方向の一端部を光学箱に取り付ける（或いは光学箱と一体成型する）ものであった。そのため、遮光板は走査光束Ｒｓ２が通過するスリットＳ２を必要とし、遮光板のレーザー光主走査方向の幅は走査光束Ｒｓ２の通過エリアよりも広くする必要があった。

これに対し本実施形態の遮光板は、主走査方向両端を光学箱で保持する構成であるので、２つの走査光束Ｒｓ１及びＲｓ２が遮光板の上下を通る構成に出来る。このため遮光板が走査光束Ｒｓ１及びＲｓ２の通過するスリットを必要とせず、遮光板のレーザー光主走査方向の幅は走査光束Ｒｓ１及びＲｓ２の通過するエリアより狭くても構わないというメリットがある。

〔第７実施形態〕
次に本発明の第７実施形態を示す。本実施形態は、第１、第５実施形態と同様、１つの感光体に対して画像情報に応じたレーザー光を照射する光学走査装置である。ただし、回転多面鏡２が１０面ではなく４面になっており、回転多面鏡２に入射する光束の主走査方向の幅は回転多面鏡２の１つの面の主走査方向の幅より狭くなっている（アンダーフィールド光学系）。

図１４は本実施形態の光学走査装置の斜視図である。第１実施形態と同じ機能を有する部品には同じ番号を付してある。なお、光源９から出射しミラー６によって反射されるまでの光束に符号Ｒｉ０、ミラー６によって反射されて回転多面鏡２によって偏向されるまでの光束に符号Ｒｉ１、回転多面鏡２によって偏向された後の光束に符号Ｒｓ１を付している。Ｒｇ１及びＲｇ２は走査レンズ１からの反射光である。

本実施形態の光学走査装置も、第１実施形態同様、光源９から発生するレーザー光（光束）が、走査レンズ１を通過した後回転多面鏡２で偏向され、その後再び走査レンズ１を通過して被走査面（感光体）に向かって出射するダブルパスタイプである。

光源９から出射しミラー６によって反射されるまでの入射光束Ｒｉ０は、第一走査レンズ１の光軸に対し主走査方向に角度を持ってミラー６に入射して反射され、回転多面鏡２の方向へ導かれる（Ｒｉ１）。回転多面鏡２によって偏向され第１走査レンズ１を通過した走査光束Ｒｓ１は、途中でミラーにより反射されることなく第２走査レンズ５を通過し、更に光学箱１０に設けた穴１２を通って出射する。

第１実施形態同様、走査レンズ１からの反射光Ｒｇ１及びＲｇ２を遮光する遮光板３が、入射光束Ｒｉ１進行方向において第１走査レンズ１よりも上流側（手前側）に配置されている。回転多面鏡２によって偏向された走査光束Ｒｓ１は遮光板３より上側を通過する。遮光板３はネジ８で光学ハウジング１０に締結されている。また、遮光板３には入射光束Ｒｉ１を通すスリット３ｃが設けられている。このスリット３ｃの主走査方向の幅は入射光束Ｒｉ１よりも狭く、スリット３ｃが入射光束Ｒｉ１の光束幅を絞る絞り機能を有する。

第１実施形態の場合は、回転多面鏡に入射する光束の主走査方向の幅が回転多面鏡の１つの面の主走査方向の幅より大きいオーバーフィールド光学系であるため、回転多面鏡が絞りの機能も兼ねている。

これに対して本実施形態の場合は、回転多面鏡２に入射する光束の主走査方向の幅が回転多面鏡２の１つの面の主走査方向の幅より狭いアンダーフィールド光学系であるので、光束が回転多面鏡に入射する前に絞りによって絞られるほうが好ましい。このため、本実施形態では遮光板に設けたスリットが絞り機能も有している。このように構成すれば、光束の絞りと反射光の遮光を１つの部材で行えるので、装置のコストダウンに効果がある。

〔第８実施形態〕
次に本発明の第８実施形態を示す。本実施形態は、第１、第５実施形態と同様、１つの感光体に対して画像情報に応じたレーザー光を照射する光学走査装置である。

図１５は本実施形態の光学走査装置の斜視図である。第１実施形態と同じ機能を有する部品には同じ番号を付してある。なお、光源９から出射しミラー６によって反射されるまでの光束に符号Ｒｉ０、ミラー６によって反射されて回転多面鏡２によって偏向されるまでの光束に符号Ｒｉ１、回転多面鏡２によって偏向された後の光束に符号Ｒｓ１を付している。Ｒｇ１及びＲｇ２は走査レンズ１からの反射光である。

本実施形態の光学走査装置も、第１実施形態同様、光源９から発生するレーザー光（光束）が、走査レンズ１を通過した後回転多面鏡２で偏向され、その後再び走査レンズ１を通過して被走査面（感光体）に向かって出射するダブルパスタイプである。

光源９から出射しミラー６によって反射されるまでの入射光束Ｒｉ０は、第一走査レンズ１の光軸に対し主走査方向に角度を持ってミラー６に入射して反射され、回転多面鏡２の方向へ導かれる（Ｒｉ１）。回転多面鏡２によって偏向され第１走査レンズ１を通過した走査光束Ｒｓ１は、途中でミラーにより反射されることなく第２走査レンズ５を通過し、更に光学箱１０に設けた穴１２を通って出射する。

第１実施形態同様、走査レンズ１からの反射光Ｒｇ１及びＲｇ２を遮光する遮光板３が、入射光束Ｒｉ１進行方向において第１走査レンズ１よりも上流側（手前側）に配置されている。

本実施形態の遮光板３は、レーザー光主走査方向において、入射光束Ｒｉ０が通過する側とは反対側の端部がネジ８ａ及び８ｂによって光学ハウジング１０に固定されている（片持ち保持されている）。図１５に示すＷは反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２の遮光板３上の幅である。反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２の遮光板３上の幅Ｗが、第１走査レンズ１から遮光板３までの距離と同距離の位置における走査光束Ｒｓ１の主走査方向の幅よりも狭くなるように第一走査レンズ１の曲率は決定されている。走査光束Ｒｓ１は遮光板３よりも上側を通過する。

このように、遮光板３がレーザー光主走査方向の入射光束Ｒｉ０が通過する側とは反対側で片持ち保持されているので、入射光束Ｒｉ０を遮ることなく、反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２を遮光できる。また、反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２の遮光板３上の幅Ｗが、第１走査レンズ１から遮光板３までの距離と同距離の位置における走査光束Ｒｓ１の主走査方向の幅よりも狭いので、遮光板３のレーザー光主走査方向の幅を小さく出来る。

また、装置を薄型化するためには、光源９の位置を第一走査レンズ１、回転多面鏡２の高さとほぼ同じ高さにすることが必要である。そのためには図１６に示す断面図のように入射光束反射ミラー６に至る入射光束Ｒｉ０を副走査方向に角度をつけ、入射光束反射ミラー６の反射面が上側に向くようにすればよい。このようにすると入射光束反射ミラー６に至る入射光束Ｒｉ０の高さは遮光板３の高さとほぼ同じ高さとなり、装置の厚みを抑えることが出来る。

〔第９実施形態〕
次に本発明の第９実施形態を示す。本実施形態は、第８実施形態の変形例であるので、第８実施形態と異なる点だけ説明する。

本実施形態の光学走査装置で用いている遮光板３はステンレス製である。また、第８実施形態と同様、レーザー光主走査方向の一端部側が光学ハウジング１０に保持される片持ち保持構成である。光学ハウジング１０に対する保持部分は折り曲げ加工されており（曲げ部３Ｌ）、曲げ部３Ｌに設けられた位置決め穴１５a、１５ｂ及び固定穴（ネジ穴）７a、７ｂが設けられている。遮光板３の位置決め穴１５a、１５ｂを光学ハウジング１０に設けた突起に挿入することにより遮光板３の位置が決まり、ネジ穴７a、７ｂにネジ８a、８ｂを通すことによって遮光板３が光学ハウジング１０に固定される。

このように、遮光板の光学ハウジングに対する保持部が折り曲げ加工されているので、遮光板の強度が向上する。この結果、遮光板を製造する時や光学ハウジングに取り付ける時の遮光板の変形を抑えることが出来るので、遮光板の配置精度が向上する。

また、遮光板３を光学ハウジング１０に対し上側から取り付けられるので組立性が向上するとともに、光学ハウジング１０のネジ穴７a、７bの方向も上下方向となるので、光学ハウジング１０を成型品にする際、金型の製作が容易になる。

〔第１０実施形態〕
次に本発明の第１０実施形態を示す。本実施形態は、第６実施形態の変形例であるので、第６実施形態と異なる点だけ説明する。本実施形態は、第２、第６実施形態と同様、２つの感光体に対して画像情報に応じたレーザー光を照射する２ＢＯＸタイプの光学走査装置であり、且つ光源９から発生する第１及び第２レーザー光（光束）が、走査レンズ１を通過した後回転多面鏡２で偏向され、その後再び走査レンズ１を通過して第１及び第２の被走査面（感光体）に向かって出射するダブルパスタイプの光学走査装置である。二つの感光体に至るまでの２本のレーザー光の光路も第２実施形態と同じなので図４を参照されたい。

図１８は本実施形態の光学走査装置の斜視図、図１９は遮光板３及びその保持部分の拡大斜視図である。第２実施形態同様、入射光束Ｒｉ１及びＲｉ２は、その進行方向において第１走査レンズ１の上流側（手前側）で交差している。また、走査レンズ１からの反射光Ｒｇ１、Ｒｇ２、Ｒｇ３及びＲｇ４を遮光する遮光板３が、入射光束Ｒｉ１及びＲｉ２進行方向において、入射光束Ｒｉ１及びＲｉ２の交差位置または交差位置近傍に配置されている。遮光板３はステンレス製である。また、番号９で示す第1及び第2の光源ユニットは、主走査方向において、走査レンズ１の光軸から離れた位置に配置されている。光源ユニット９には第１のレーザー光を発生する半導体レーザー（第１の光源）と第２のレーザー光を発生する半導体レーザー（第２の光源）が設けられており、第１の光源と第２の光源は副走査方向に離間している。

本実施形態の遮光板３は、レーザー光主走査方向において、入射光束Ｒｉ０及びＲｉ００が通過する側とは反対側の端部が光学ハウジングに保持されている（片持ち保持されている）。また遮光板３は、入射光束Ｒｉ１及びＲｉ２の両方が通過するスリット３ａを有する。回転多面鏡２によって偏向された後の走査光束Ｒｓ１は遮光板３よりも上側を通過し、回転多面鏡２によって偏向された後の走査光束Ｒｓ２は遮光板３よりも下側を通過する。

このように、２つの感光体に対して画像情報に応じたレーザー光を照射する２ＢＯＸタイプの光学走査装置に、入射光束Ｒｉ０及びＲｉ００が通過する側とは反対側の端部を保持する片持ち保持タイプの遮光板を用いれば、入射光束Ｒｉ０、Ｒｉ００及び走査光Ｒｓ１、Ｒｓ２の光路を遮断しないコンパクトな遮光板を提供できる。

本実施形態の遮光板３は、装置組み立て時に、高さ（レーザー光の副走査方向）を調整できるようになっている。遮光板３の高さは反射ビームＲｇ１、Ｒｇ２、Ｒｇ３、Ｒｇ４の高さに合わせて矢印Ａ方向（Ｚ軸方向）に調整可能になっている。遮光板３は、図１９に示すように、爪部（弾性部）１６、１７と光学ハウジング１０の基準座面２０によって挟まれている。爪部１６、１７は樹脂製の光学ハウジング１０の一部を曲げ起こしたものであり、矢印Ｂ方向（Ｘ軸方向）に弾性を有する。また、Ｙ軸方向にも若干弾性を有する。したがって遮光板３は、爪部１６、１７によって矢印Ｂ方向（Ｘ軸方向）に付勢されている。なお、番号１８は光学ハウジング１０と一体成型されているピン、番号１９は遮光板３の折り曲げ部に設けられた長穴であり、ピン１８に嵌合している。長穴１９の長辺は矢印Ｂ方向に沿っており、遮光板３を所定の取り付け位置に取り付けやすくしている。長穴１９の短辺はピン１８の直径と略同じ長さであり、遮光板３が主走査方向（Ｙ軸方向）へ移動するのを抑えている。したがって、遮光板３を保持する部分は全て樹脂製の一体成型物である。

遮光板３の高さ調整が必要になる理由は次に述べる通りである。入射光束反射ミラー６の副走査方向（Ｚ軸方向）の反射角度がずれると、入射光束Ｒｉ１、Ｒｉ２の光路が副走査方向（矢印Ａ方向）にずれ、それに追従して反射ビームＲｇ１、Ｒｇ２、Ｒｇ３、Ｒｇ４の光路もずれる。そのため入射光束反射ミラー６の角度精度は非常に厳しく管理される必要がある。入射光束反射ミラー６の角度精度を非常に厳しく管理するためには、入射光束反射ミラー６の取り付け面を切削加工したり、入射光束反射ミラー６の角度を調整するなどの、ミラーの角度精度を出すための対策が必要となってしまう。しかしながら光学走査装置を安価に製作するためには、光学ハウジング１０の切削加工や入射光束反射ミラー６の角度を調整する機構を設けることは好ましくない。

したがって、入射光束反射ミラー６の角度精度を非常に厳しく管理しない場合、反射ビームＲｇ１、Ｒｇ２、Ｒｇ３、Ｒｇ４の光路は移動してしまうが、その位置に合わせて遮光板３の高さを調整すれば反射光を遮蔽することができる。

高さ調整をされた遮光板３は光学ハウジング１０の爪部（弾性部）１６、１７に接着固定される。遮光板３は板状の形状のため、強度を考慮すると金属材料で製作することが望ましい。

遮光板が金属製で光学ハウジング１０が樹脂製である場合、金属と樹脂との線膨張係数の差により、環境温度が変動した際に接着部分にストレスがかかり接着剥離が発生してしまう。光学ハウジングの線膨張係数は通常４×Ｅ^−５近傍である。一方遮光板３の材料をステンレス鋼板にした場合、線膨張係数は１.７３×Ｅ^−５である。二つの接着部の間の距離（Ｙ軸方向）を５０ｍｍとすると、３０℃の環境温度変化で３４μｍの長さの差（Ｙ軸方向）が遮光板３と光学ハウジング１０の間に発生する。３０℃の環境温度変動は製品の物流途中も考慮すると十分考えられる環境変動である。３４μｍの長さの差が発生すると、接着部に作用する応力により接着剤が剥離する可能性がある。

そこで本実施例では、前述した線膨張係数の差による接着剥離を解決する手段として、爪部１６、１７に設けられた接着剤だまり部16ａ、17ａに接着剤を充填して爪部１６、１７と遮光板３を接着固定している。環境温度が上昇した時、樹脂製の光学ハウジング１０はＹ軸方向へ大きく延びようとするが、ステンレス製の遮光板３のＹ軸方向への延びは光学ハウジング１０より小さい。しかしながら、光学箱１０と一体成型されている爪部１６、１７の根元の間隔が熱膨張により広がっても、爪部１６、１７はＹ軸方向にも若干の弾性を有するので撓むことが出来、接着剤だまり部16ａと17ａの間隔の拡大が抑えられる。このため、接着剤だまり部16ａ、17ａに充填されている接着剤に作用する応力が緩和され接着剤の剥離を抑えられるのである。

また、遮光板３の材質を樹脂とする場合でも、熱膨張による反り、変形によって接着部に応力が作用することもある。したがって遮光板の材質が樹脂であっても本実施形態の遮光板固定方法は有効である。

また、光学走査装置に衝撃が加わった場合でも、爪部１６、１７の弾性によって衝撃を吸収するので、遮光板３と爪部１６、１７の接着部分にかかる力を緩和することができ、接着部分の剥離を抑えることが出来るという効果もある。

また本実施形態では、光学ハウジング１０に爪部１６、１７を持たせたが、遮光板３に爪部１６、１７を設けても良い。

以上、本発明の実施形態を説明したが、遮光板３の材質は金属でなくても構わない。しかしながら、遮光精度（遮光板の位置精度）を確保するために必要な強度を考慮するとステンレスなどの金属が好ましい。

また、上述した全ての実施形態において、遮光板３は表面に無反射コーティングを施していない。その代わり、第１走査レンズ１からの反射光Ｒｇ１〜Ｒｇ４が遮光板３で遮光された後再び感光体に向かわないように、第３実施形態のような遮光板に角度をつける等の対策を施せば良い。しかしながら、遮光板３に無反射コーティングを施すことによって、遮光板３で遮光された反射光Ｒｇ１〜Ｒｇ４が再び走査レンズ１に向かわないようにしても構わない。

また、上述した全ての実施形態において、偏向器として回転多面鏡を用いているが、ガルバノミラーのような回転しない（しかしながら回動はする）タイプの偏向器でも構わない。

本発明は上述の実施形態にとらわれるものではなく、技術思想内の変形を含むものである。

第１実施形態の光学走査装置の光路形状を示す図。 第１実施形態の光学走査装置の遮光板の配置エリアを説明する図。 斜入射光学系における回転多面鏡の面偏芯によるピッチムラを説明する図。 第２実施形態の光学走査装置の光路形状を示す図。 第２実施形態の光学走査装置の遮光板の配置エリアを説明する図。 第３実施形態の光学走査装置の遮光板付近の構成を説明する図。 第４実施形態の光学走査装置の遮光板付近の構成を説明する図。 第１実施形態の光学走査装置の斜視図。 画像形成装置の全体概略説明図。 ２ＢＯＸタイプの光学走査装置において走査レンズからの反射光が感光体に至るまでの様子を示した図。 第５実施形態の光学走査装置の斜視図。 第６実施形態の光学走査装置の斜視図。 第６実施形態で用いた遮光板と、入射光束の通過エリアと、走査光束の通過エリアと、遮光板上の反射光の照射エリアと、の関係を表した図。 第７実施形態の光学走査装置の斜視図。 第８実施形態の光学走査装置の斜視図。 光源９と、入射光束を折り返すミラー６と、ポリゴンミラー２と、遮光板３と、の副走査方向の高さ関係を表した図。 第９実施形態の光学走査装置の斜視図。 第１０実施形態の光学走査装置の斜視図。 第１０実施形態で用いた遮光板の保持部分の拡大斜視図。

符号の説明

１…第一走査レンズ
２…回転多面鏡
３…遮光板
５…第二走査レンズ
９…光源
101…光学走査装置
201…光学走査装置

Claims (27)

1. レーザー光が発生する光源と、該光源から発生するレーザー光を偏向する偏向器と、前記偏向器で偏向されたレーザー光が通過する走査レンズと、を有し、前記光源から発生するレーザー光が、前記走査レンズを通過した後、前記偏向器で偏向され、その後再び前記走査レンズを通過して被走査面に向かって出射する光学走査装置において、
   前記走査レンズを境にして前記偏向器が配置されている側とは反対側に、前記走査レンズで反射し前記被走査面に向かう反射光を遮光する遮光板を有し、
   前記偏向器と前記走査レンズとの距離をＬ_１、前記偏向器と前記遮光板との距離をＬ_２、前記走査レンズの厚みをＴ、前記偏向器に対する前記レーザー光の副走査方向の入射角度をα、前記レーザー光の収束角度を２θとするとき、
   

   

   の数式を満たす範囲内に前記遮光板が配置されていることを特徴とする光学走査装置。
2. 前記遮光板は、前記偏向器へ向かう前記レーザー光が通過するスリットを有することを特徴とする請求項１に記載の光学走査装置。
3. 前記スリットは前記偏向器へ向かうレーザー光を絞る絞り機能を有することを特徴とする請求項２に記載の光学走査装置。
4. 前記遮光板は、その副走査方向の一端が前記装置のハウジングに保持されていることを特徴とする請求項１に記載の光学走査装置。
5. 前記遮光板は、その主走査方向の一端側が前記装置のハウジングに片持ち保持されていることを特徴とする請求項１に記載の光学走査装置。
6. 前記光源は、主走査方向において、前記走査レンズの光軸から離れた位置に配置されており、前記装置は更に、前記光源から発生するレーザー光を前記偏向器に向かって反射するミラーを有し、前記遮光板は、主走査方向において、前記走査レンズの光軸を境にして前記光源から前記ミラーに向かうレーザー光の光路とは反対側の端部で前記装置のハウジングに保持されていることを特徴とする請求項５に記載の光学走査装置。
7. 前記遮光板の主走査方向の長さは、前記光源から前記ミラーに向かうレーザー光の光路まで達しない長さであることを特徴とする請求項６に記載の光学走査装置。
8. 前記遮光板は、主走査方向の両端が前記装置のハウジングに両持ち保持されていることを特徴とする請求項１に記載の光学走査装置。
9. 前記光源は、主走査方向において、前記走査レンズの光軸から離れた位置に配置されており、前記装置は更に、前記光源から発生するレーザー光を前記偏向器に向かって反射するミラーを有し、前記遮光板は、前記光源から前記ミラーに向かうレーザー光が通過するスリットと、前記ミラーから前記偏向器へ向かうレーザー光が通過するスリットと、を有することを特徴とする請求項８に記載の光学走査装置。
10. 前記遮光板は、前記偏向器の回動軸に対して傾いていることを特徴とする請求項１に記載の光学走査装置。
11. 第１のレーザー光が発生する第１の光源と、第２のレーザー光が発生する第２の光源と、前記第１及び第２の光源から発生する第１及び第２のレーザー光を偏向する偏向器と、前記偏向器で偏向された第１及び第２のレーザー光が通過する走査レンズと、を有し、前記第１及び第２の光源から発生する第１及び第２のレーザー光が、共に前記走査レンズを通過した後前記偏向器で偏向され、その後再び前記走査レンズを通過して第１の被走査面と第２の被走査面に向かって夫々出射する光学走査装置において、
    前記走査レンズを境にして前記偏向器が配置されている側とは反対側に、前記走査レンズで反射し前記第1または第２の被走査面に向かう反射光を遮光する遮光板を有し、
    前記偏向器と前記走査レンズとの距離をＬ_１、前記偏向器と前記遮光板との距離をＬ_２、前記偏向器に入射する前記第１及び第２のレーザー光の副走査方向の距離をＬ_３、前記走査レンズの厚みをＴ、前記偏向器に対する前記第１及び第２のレーザー光夫々の副走査方向の入射角度をα、前記第１及び第２のレーザー光夫々の収束角度を２θとするとき、
    

    

    

    の２つの数式を満たす範囲内に前記遮光板が配置されていることを特徴とする光学走査装置。
12. 前記第１及び第２の光源から前記偏向器に向かう第１及び第２のレーザー光は、レーザー光の進行方向において前記走査レンズより手前で交差していることを特徴とする請求項１１に記載の光学走査装置。
13. 前記遮光板は、前記偏向器へ向かう前記第１及び第２のレーザー光の両方が通過する１つのスリットを有することを特徴とする請求項１１に記載の光学走査装置。
14. 前記スリットは前記偏向器へ向かうレーザー光を絞る絞り機能を有することを特徴とする請求項１３に記載の光学走査装置。
15. 前記遮光板は、その副走査方向の一端が前記装置のハウジングに保持されていることを特徴とする請求項１１に記載の光学走査装置。
16. 前記遮光板は、その主走査方向の一端側が前記装置のハウジングに片持ち保持されていることを特徴とする請求項１１に記載の光学走査装置。
17. 前記第１及び第２の光源は、主走査方向において、前記走査レンズの光軸から離れた位置に配置されており、前記装置は更に、前記第１及び第２の光源から発生する第１及び第２レーザー光を前記偏向器に向かって反射するミラーを有し、前記遮光板は、主走査方向において、前記走査レンズの光軸を境にして前記第１及び第２の光源から前記ミラーに向かう第１及び第２レーザー光の光路とは反対側の端部で前記装置のハウジングに保持されていることを特徴とする請求項１６に記載の光学走査装置。
18. 前記遮光板の主走査方向の長さは、前記第１及び第２の光源から前記ミラーに向かうレーザー光の光路まで達しない長さであることを特徴とする請求項１７に記載の光学走査装置。
19. 前記遮光板は、主走査方向の両端が前記装置のハウジングに両持ち保持されていることを特徴とする請求項１に記載の光学走査装置。
20. 前記第１及び第２光源は、主走査方向において、前記走査レンズの光軸から離れた位置に配置されており、前記装置は更に、前記第１及び第２の光源から発生する第１及び第２レーザー光を前記偏向器に向かって反射するミラーを有し、前記遮光板は、前記第１及び第２の光源から前記ミラーに向かう第１及び第２レーザー光が通過するスリットと、前記ミラーから前記偏向器へ向かう第１及び第２レーザー光が通過するスリットと、を有することを特徴とする請求項１９に記載の光学走査装置。
21. 前記遮光板は、前記偏向器の回動軸に対して傾いていることを特徴とする請求項１１に記載の光学走査装置。
22. 第１のレーザー光が発生する第１の光源と、第２のレーザー光が発生する第２の光源と、前記第１及び第２の光源から発生する第１及び第２のレーザー光を偏向する偏向器と、前記偏向器で偏向された第１及び第２のレーザー光が通過する走査レンズと、を有し、前記第１及び第２の光源から発生する第１及び第２のレーザー光が、共に前記走査レンズを通過した後前記偏向器で偏向され、その後再び前記走査レンズを通過して第１の被走査面と第２の被走査面に向かって夫々出射する光学走査装置において、
    前記第１及び第２の光源から発生し前記偏向器に向かう前記第１及び第２のレーザー光は前記走査レンズより手前で交差しており、この交差位置または交差位置近傍に前記走査レンズで反射し前記第1及び第２の被走査面に向かう反射光を遮光する遮光板が設けられていることを特徴とする光学走査装置。
23. 前記遮光板は、前記偏向器に向かう前記第１及び第２のレーザー光の両方が通過する１つのスリットを有することを特徴とする請求項２２に記載の光学走査装置。
24. 前記遮光板はその主走査方向の一端側が前記装置のハウジングに片持ち保持されていることを特徴とする請求項２２に記載の光学走査装置。
25. 前記第１及び第２の光源は、主走査方向において、前記走査レンズの光軸から離れた位置に配置されており、前記装置は更に、前記第１及び第２の光源から発生する第１及び第２レーザー光を前記偏向器に向かって反射するミラーを有し、前記遮光板は、主走査方向において、前記走査レンズの光軸を境にして前記第１及び第２の光源から前記ミラーに向かう第１及び第２レーザー光の光路とは反対側の端部で前記装置のハウジングに保持されていることを特徴とする請求項２４に記載の光学走査装置。
26. 前記偏向器によって偏向された第１のレーザー光は前記遮光板よりも上側を通過し、前記偏向器によって偏向された第２のレーザー光は前記遮光板よりも下側を通過することを特徴とする請求項２２に記載の光学走査装置。
27. 前記遮光板は光学ハウジングの弾性部に接着剤によって固定されていることを特徴とする請求項２４に記載の光学走査装置。

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