JP2006056752A - アニール用容器 - Google Patents
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Abstract
【課題】 アニール時の光学部品用結晶における加熱ムラを十分に小さくすることができるアニール用容器を提供すること。
【解決手段】 本発明は、光学部品用結晶4をアニールするためのアニール用容器10であって、開口を有する容器本体部1と、容器本体部1の開口を塞ぐように容器本体部1に取外し可能に設けられ、容器本体部1とともに結晶4を収容するための収容部を形成する蓋部2とを備えており、容器本体部1及び蓋部2のかさ密度が、0.05〜0.8g/cm3であることを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】 本発明は、光学部品用結晶4をアニールするためのアニール用容器10であって、開口を有する容器本体部1と、容器本体部1の開口を塞ぐように容器本体部1に取外し可能に設けられ、容器本体部1とともに結晶4を収容するための収容部を形成する蓋部2とを備えており、容器本体部1及び蓋部2のかさ密度が、0.05〜0.8g/cm3であることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、光学部品用結晶をアニールするためのアニール用容器に関する。
近年、半導体デバイスにおいて高集積化が進んでおり、半導体デバイスにおける線幅を細くするために、ステッパ等において短波長の光源が要求され、このような光源として、フッ素レーザ(157nm)が用いられるようになっている。そして、光源の短波長化に伴って、ステッパで使用される光学レンズ等の光学部品にも、露光波長において適切な光学特性を発揮することが望まれており、このような光学レンズとしてフッ化カルシウムの単結晶が有望視されている。
一方、光学レンズ等に用いられる単結晶は、その種結晶をもとにして、結晶成長炉(るつぼ、ヒータ等から構成される)で成長された後、さらに単結晶内部に生じる歪み等を除去して結晶の品質及び光学特性を向上させるためにアニールが行われるのが一般的である。
従来、上記のような単結晶をアニールする場合、単結晶を、カーボンからなる非多孔体で構成されたアニール用容器内に収容し、そのアニール用容器をアニール炉に入れることにより単結晶のアニールが行われていた(例えば、特許文献1参照)。
特開平10−265300号公報(実施例)
しかしながら、前述した従来のアニール用容器を用いた場合、単結晶をアニールする際に、単結晶における加熱ムラが大きかった。このため、その単結晶を光学部品として使用しても、その光学特性に悪影響を与えるおそれがあった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、アニール時の光学部品用結晶における加熱ムラを十分に小さくすることができるアニール用容器を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、アニール用容器を構成する容器本体部及び蓋部を特定の条件を満たすように構成することで、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち本発明は、光学部品用結晶をアニールするためのアニール用容器であって、開口を有する容器本体部と、容器本体部の開口を塞ぐように容器本体部に取外し可能に設けられ、容器本体部とともに光学部品用結晶を収容するための収容部を形成する蓋部とを備えており、容器本体部及び蓋部のかさ密度が、0.05〜0.8g/cm3であることを特徴とする。
このアニール用容器によれば、開口から容器本体部内に光学部品用結晶(単結晶であることが好ましい)が収容された後、蓋部により開口が塞がれると、アニール用容器内の収容部に光学部品用結晶を収容することが可能となる。この状態で、アニール用容器を介して光学部品用結晶をアニールすると、光学部品用結晶における加熱ムラを十分に小さくすることが可能となる。
上記アニール用容器は、光学部品用結晶がフッ化物(より好ましくはフッ化カルシウム)からなる場合に有効である。光学部品用結晶がフッ化物からなる場合、アニール時の加熱ムラが光学特性に与える悪影響が特に大きくなるおそれがあるが、本発明のアニール用容器を用いて光学部品用結晶をアニールすれば、光学部品用結晶における加熱ムラが十分に小さくされるため、光学部品用結晶の光学特性への悪影響が十分に防止されるものと考えられる。
また上記容器本体部及び蓋部は、その熱伝導率が0.1〜50W/m・Kであることが好ましい。上記容器本体部及び蓋部がこのような熱伝導率の条件をさらに満たす場合には、光学部品用結晶における加熱ムラをより十分に小さくすることが可能になる。
また上記容器本体部及び蓋部が、カーボンを含む多孔体及び/又は繊維状炭素を有することが好ましい。上記容器本体部及び蓋部の構成材料としてこのような材料を使用することで、容器本体部及び蓋部が上記かさ密度及び/又は熱伝導率の条件を満たすように構成することが容易となり、加熱ムラを十分に小さくすることが可能になる。
本発明のアニール用容器によれば、アニールの際に光学部品用結晶における加熱ムラを十分に小さくできるため、結晶中に生じた歪みを均一に除去することが可能となる。従って、本発明のアニール用容器内に光学部品用結晶を収容してアニールすることにより、光学部品用結晶の光学特性を十分に向上させることができるものと考えられる。
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について説明する。なお、同一要素には同一符号を用いるものとし、重複する説明は省略する。
図1は本発明に係るアニール用容器の第1実施形態を示す断面図であり、アニール用容器10内に光学部品用結晶4を収容した状態を示している。図1に示すように、アニール用容器10は、開口を有する容器本体部1と、容器本体部1の開口を塞ぐように設けられる蓋部2とを備えており、容器本体部1と蓋部2とによって、光学部品用結晶4を収容するための収容部5が形成されている。蓋部2は、容器本体部1に対して取外し可能に設けられている。
より詳細に述べると、容器本体部1は、底面1cを有する円盤状の底部1aと、当該底部1aの周縁部から底面1cに垂直に延びる環状の壁部1bとから構成されている。蓋部2は略円盤状であり、その中央には、アニール用容器10内の空気を排気するためのベントホール6が形成されている。また、蓋部2には、その周縁部において、蓋部2の中央部を容器本体部1の開口に嵌合させるために環状の切欠きが形成されている。このため、容器本体部1に対して蓋部2がしっかりと固定される。ここで、上記容器本体部1の底部1a、壁部1b、及び蓋部2の厚さは通常は同一であることが好ましく、特に限定されないが、0.3〜5cmであることがより好ましい。
上記容器本体部1及び蓋部2は、いずれも多孔体から構成されており、多孔体の全体はカーボンで構成されている。これにより、光学部品用結晶4をアニール用容器10内に収容してアニールする場合に、光学部品用結晶4における加熱ムラを十分に小さくすることができる。また、光学部品用結晶4としてフッ化物を用いた場合には、容器10と結晶4との反応を十分に防止することができる。
上記容器本体部1及び蓋部2は、カーボンを含む多孔体以外に繊維状炭素を用いて構成されていてもよい。また、上記容器本体部1及び蓋部2の構成材料としては、カーボンを含む多孔体及び/又は繊維状炭素を有するものであればよいが、さらに通常のカーボン(非多孔体のカーボン)を有することが好ましい。通常のカーボンを含有させることで、容器本体部1及び蓋部2の機械的強度を向上させることが可能となる。通常のカーボンとしては、黒鉛等が挙げられる。
また上記容器本体部1及び蓋部2のかさ密度は、0.05〜0.8g/cm3である。かさ密度が上記範囲を満たす場合には、容器内に設置した光学部品用結晶4の各部分の温度ムラを十分に小さくすることができる。かさ密度が上記範囲を外れると、かさ密度が上記範囲を満足する場合よりも結晶4における加熱ムラを十分に小さくすることが困難となる。
また多孔体の熱伝導率は、0.1〜50W/m・Kであることが好ましく、0.8〜10W/m・Kであることがより好ましい。熱伝導率が上記範囲を満たす場合には、容器内に設置した光学部品用結晶4の各部分の温度ムラを十分に小さくすることが可能となる。熱伝導率が上記範囲を外れると、容器10に温度ムラが生じ、熱膨張率が上記範囲を満足する場合よりも結晶4における加熱ムラを十分に小さくすることが困難となる傾向がある。
上記多孔体は、かさ密度の条件を満たせば十分であるが、熱伝導率の条件をさらに満たす場合には、光学部品用結晶4における加熱ムラをより十分に小さくすることが可能になる。
なお、容器本体部1は、上記多孔体の表面に対して鏡面加工または研磨加工を施してその表面を平滑にしたものであってもよく、また、上記多孔体の表面がカーボン又はガラス状カーボン等からなる膜で覆われたものであってもよい。
次に、上述したアニール用容器10を用いたアニール方法について説明する。ここでは、光学部品用結晶4として、フッ化カルシウムからなる単結晶をアニールする場合について説明する。光学部品用結晶4としては、円盤状に加工されたものを用いる。
まず、アニール用容器10の蓋部2を取り外す。そして、用意した光学部品用結晶4を、開口を通して容器本体部1内に収容し、その後、開口を蓋部2で塞ぐ。
次に、光学部品用結晶4が収容されたアニール用容器10をアニール炉に入れる。その後、アニール炉内を減圧してアニール炉内を真空とする。これに伴いアニール用容器10の収容部も真空となる。このとき、アニール用容器10は多孔体から構成されているため、ベントホール6が設けられていなくともアニール用容器10内は真空になる。このとき、多孔体の表面が膜で覆われている場合であっても、ベントホール6が形成されているため、より容易に容器10内を真空とすることが可能である。
アニール炉は、光学部品用結晶4をアニールできるものであれば、その形態は特に限定されない。また、アニール炉に用いる加熱源としては、ヒータ、ランプが挙げられる。また、アニール炉は、高さ方向に沿って温度勾配を設定できるような温度制御装置を更に備えていてもよい。
アニール炉内を真空にした後は、加熱源によりアニール用容器10を加熱し、アニール用容器10を介して結晶4のアニールを行う。このとき、光学部品用結晶4における加熱ムラを十分に小さくすることができる。アニールは、結晶品質及び光学特性を十分に向上させる観点からは、900〜1350℃で行われることが好ましい。
このようにしてアニールを終えた後は、アニール炉からアニール用容器10を取り出し、続いて容器10の蓋部2を取り外して光学部品用結晶4を取り出す。こうして光学部品用結晶4のアニールが完了する。こうしてアニールされた光学部品用結晶4は、上述したように、アニール時に加熱ムラが十分に小さくされているため、結晶4中の歪みが均一に除去されて結晶品質が向上し、光学部品(特に光学レンズ)として使用した場合には、その光学特性を十分に向上させることができるものと考えられる。
なお、容器10の収容部5の容積V1と光学部品用結晶4の体積V2との比(V1/V2)は、1.2〜2.0となることが好ましく、1.2〜1.7となることがより好ましい。V1/V2が上記範囲を満たす場合には、容器10の多孔体の温度環境の均一性が、そのまま収容部5の温度環境に反映されることから、容器10の収容部5の温度環境が均一となり、容器10によって、その内部に配置された結晶4における加熱ムラをより十分に小さくすることができる。なお、V1/V2が上記上限値を超えると、収容部5に温度ムラが生じ、結晶4における加熱ムラを十分に小さくすることができなくなる傾向にあり、他方、上記下限値未満であると、光学部品用結晶4を容器本体部1内に収容することが困難となる傾向にある。
なお、上記アニール方法においては、結晶4をアニール用容器10内に収容し、これをアニール炉内に入れて結晶4のアニールを行っているが、図2に示すように、結晶4を収容したアニール用容器10を、これより容積の大きいアニール用容器20内に更に収容し、このアニール用容器20をアニール炉内に入れて結晶4をアニールしてもよい。即ち、結晶4をアニール炉でアニールするに際しては、アニール用容器を二重構造にしてもよい。ここで、アニール用容器10とアニール用容器20とはそのサイズ以外は同様の構成を有している。即ち容器20の容器部本体21、蓋部22及びベントホール26はそれぞれ、容器10の容器部本体1、蓋部2、ベントホール6とサイズ以外は同様の構成を有している。また、アニール用容器10は、アニール用容器20と直接接触しないようにスペーサ8を介してアニール用容器20の底面上に配置されている。スペーサ8は、アニール用容器10の収容部5の上部と下部の温度分布が同じとなる環境にするために設けられたものである。
このようにアニール用容器を2重構造にして結晶4をアニールする場合でも、アニール用容器の容器本体部1及び蓋部2が上記特定の構成材料から構成されていることで、結晶4における加熱ムラを十分に小さくすることができる。
本発明は、前述した実施形態に限定されない。例えば上記実施形態では、光学部品用結晶4としてのフッ化カルシウムの単結晶をアニールの対象としているが、光学部品用結晶4は、特に限定されず、フッ化物の単結晶の場合に本発明の容器は特に有効である。従って、フッ化カルシウムに代えてフッ化バリウム、フッ化マグネシウム等をアニールの対象としてもよい。
また、光学部品としては、例えば光学レンズが用いられるが、光学レンズ以外の他の光学部品(例えば、光学プリズム、光学ウィンドウ、光学フィルタ、シンチレータ、偏光素子)を用いることもできる。
以下、本発明の内容を、実施例を用いて更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
まず図1に示す容器本体部及び蓋部をそれぞれ、球状の原料を熱分解によって多孔化させた日立化成工業(株)製多孔質ガラス状カーボンを使用して製造した。容器本体部の底部及び壁部の厚さはそれぞれ10mmとし、容器本体部の内径は145cmとし、壁部の底面からの高さは5cmとした。蓋部の厚さは10mmとし、蓋部の周縁部には、幅5mmの切欠きを形成した。なお、上記のようにして得られた多孔体については、かさ密度が0.14g/cm3であり、熱伝導率が1.1W/m・Kであった。
まず図1に示す容器本体部及び蓋部をそれぞれ、球状の原料を熱分解によって多孔化させた日立化成工業(株)製多孔質ガラス状カーボンを使用して製造した。容器本体部の底部及び壁部の厚さはそれぞれ10mmとし、容器本体部の内径は145cmとし、壁部の底面からの高さは5cmとした。蓋部の厚さは10mmとし、蓋部の周縁部には、幅5mmの切欠きを形成した。なお、上記のようにして得られた多孔体については、かさ密度が0.14g/cm3であり、熱伝導率が1.1W/m・Kであった。
(比較例1)
実施例1と同様の形状及び大きさを有する円筒形状のアニール用容器(日本カーボン社製高純度カーボンを使用し、実施例1と同様にして製造した。)を用意した。このアニール用容器を測定したところ、かさ密度が1.8g/cm3であり、熱伝導率が108W/m・Kであり、アニール用容器は多孔体で構成されていなかった。
実施例1と同様の形状及び大きさを有する円筒形状のアニール用容器(日本カーボン社製高純度カーボンを使用し、実施例1と同様にして製造した。)を用意した。このアニール用容器を測定したところ、かさ密度が1.8g/cm3であり、熱伝導率が108W/m・Kであり、アニール用容器は多孔体で構成されていなかった。
(アニール試験)
実施例1及び比較例1のアニール用容器を用いて、アニール試験を行った。先ず、実施例1及び比較例1のアニール用容器において容器本体部から蓋部を取り外し、容器本体部内に、厚さ40mm、直径φ140mmの円盤状のフッ化カルシウムの単結晶を収容し、その後、蓋部で容器本体部を閉じた。なお、円盤状のフッ化カルシウムには、中心部に熱電対をつけ、その外周部の3箇所(中心部から20mm離れた箇所)に等間隔に熱電対をつけ、温度を測定できるようにした。
実施例1及び比較例1のアニール用容器を用いて、アニール試験を行った。先ず、実施例1及び比較例1のアニール用容器において容器本体部から蓋部を取り外し、容器本体部内に、厚さ40mm、直径φ140mmの円盤状のフッ化カルシウムの単結晶を収容し、その後、蓋部で容器本体部を閉じた。なお、円盤状のフッ化カルシウムには、中心部に熱電対をつけ、その外周部の3箇所(中心部から20mm離れた箇所)に等間隔に熱電対をつけ、温度を測定できるようにした。
フッ化カルシウムの単結晶が収容されたアニール用容器をそれぞれアニール炉に入れ、アニールを行った。このとき、アニール炉として真空アニール炉を用い、アニールは、1250℃の温度に設定し、10日間行った。
アニール開始から1250℃になった時点での4箇所の温度をそれぞれ測定し、これらの平均値を求めた。その結果、実施例1のアニール用容器に収容された単結晶では温度のばらつき(平均値からのそれぞれ4箇所の温度の差)が±0.5℃以内であり、比較例1のアニール用容器に収容された単結晶では温度のばらつきが±5℃以上であった。
以上の結果から、実施例1のアニール用容器を用いた場合、アニール時に、光学部品用結晶における加熱ムラを十分に小さくできることが確認された。このことから、アニール後の光学部品用結晶においては、結晶の歪みが均一に除去され、結晶品質及び光学特性が十分に向上していると考えられる。
本発明のアニール用容器は、光学部品用結晶のアニールに好適に使用できる。
1…容器本体部、2…蓋部、4…光学部品用結晶、5…収容部、10,20…アニール用容器。
Claims (6)
- 光学部品用結晶をアニールするためのアニール用容器であって、
開口を有する容器本体部と、
前記容器本体部の前記開口を塞ぐように前記容器本体部に取外し可能に設けられ、前記容器本体部とともに前記光学部品用結晶を収容するための収容部を形成する蓋部と、
を備えており、
前記容器本体部及び前記蓋部のかさ密度が、0.05〜0.8g/cm3であることを特徴とするアニール用容器。 - 前記容器本体部及び前記蓋部の熱伝導率が、0.1〜50W/m・Kであることを特徴とする請求項1に記載のアニール用容器。
- 前記容器本体部及び前記蓋部が、カーボンを含む多孔体及び/又は繊維状炭素を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のアニール用容器。
- 前記光学部品用結晶が単結晶であることを特徴とする請求項1〜3のうちの何れか一項に記載のアニール用容器。
- 前記光学部品用結晶がフッ化物からなることを特徴とする請求項1〜4のうちの何れか一項に記載のアニール用容器。
- 前記フッ化物がフッ化カルシウムであることを特徴とする請求項5に記載のアニール用容器。
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JP2004241226A JP2006056752A (ja) | 2004-08-20 | 2004-08-20 | アニール用容器 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013147118A1 (ja) | 2012-03-29 | 2013-10-03 | 塩野義製薬株式会社 | N-フェニル-n'-フェニルスルホニルピペラジン誘導体およびその中間体の製造方法 |
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2004
- 2004-08-20 JP JP2004241226A patent/JP2006056752A/ja active Pending
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