JP2006049425A - 積層金属膜のパターン構造及びパターン形成方法並びに該積層金属配線を備える液晶表示装置又は半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】Al又はAl合金とMo又はMo合金などのバリア金属膜とからなる積層金属膜(好ましくは卑金属側が下層に存在するような積層金属膜)をウェットエッチング法で一括エッチング処理してパターン形成する場合において、製品素子領域に配線パターンを形成すると共に、非製品素子領域のエッチング開口部にも任意の微細パターンを形成し、製品素子領域及び非製品素子領域双方のエッチング開口部全域の電池反応を促進させ、エッチング速度の面内分布を均一化させる。これにより、積層金属配線の断面形状を良好なテーパー形状として、製品の歩留まりや長期信頼性を向上させる。
【選択図】図1
Description
た。
2 下層膜
3 上層膜
4 フォトレジストパターン
5 製品素子領域
6 非製品素子領域
7 エッチング残り
10 TFT基板
11 ゲート線
12 ドレイン線
13 TFT
14 ゲート線端子
15 ドレイン線端子
21 ゲート電極
22 半導体層
23 ソース電極
24 ドレイン電極
25 蓄積容量電極
26 遮光層
27 画素電極
31 透明絶縁性基板
32 ゲート線端子部の下層金属膜
33 ゲート絶縁膜
34 ドレイン線端子部の下層金属膜
35 パッシベーション膜
36 画素部コンタクトホール
37 端子部コンタクトホール
38 接続電極
39 配向膜
40 対向基板
41 透明絶縁性基板
42 カラーフィルタ
43 ブラックマトリクス
44 共通電極
45 シール
46 液晶
47 偏向板
221 アモルファスシリコン層
222 N型アモルファスシリコン層
Claims (11)
- 製品となる素子又は回路が形成される第1の領域と、前記第1の領域外側の第2の領域とを有する基板に形成される、電極電位の異なる複数種類の金属材料で構成される積層金属膜のパターン構造において、
前記第1の領域に前記積層金属膜からなる配線パターンが形成されると共に、前記第2の領域の全域に、前記製品の動作に関与しないパターンが形成されてなることを特徴とする積層金属膜のパターン構造。 - 製品となる素子又は回路が形成される第1の領域と、前記第1の領域外側の第2の領域とを有する基板に形成される、電極電位の異なる複数種類の金属材料で構成される積層金属膜のパターン構造において、
前記第1の領域に前記積層金属膜からなる配線パターンが形成されると共に、前記第2の領域の内、前記積層金属膜のエッチング開口部の全域に、前記製品の動作に関与しないパターンが形成されてなることを特徴とする積層金属膜のパターン構造。 - 前記第1の領域における前記積層金属膜がエッチング除去されるエッチング開口部と、前記第2の領域における前記積層金属膜がエッチング除去されるエッチング開口部とで、前記複数種類の金属材料間の電池反応が略等しくなるように、前記製品の動作に関与しないパターンのサイズが設定されることを特徴とする請求項1又は2に記載の積層金属膜のパターン構造。
- 前記積層金属膜は2層構造の金属膜であり、その下層側が上層側に比べて相対的に卑な金属材料で構成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一に記載の積層金属膜のパターン構造。
- 前記2層構造の金属膜は、下層側がAl又はAl合金、上層側がMo又はMo合金で構成されていることを特徴とする請求項4記載の積層金属膜のパターン構造。
- 製品となる素子又は回路が形成される第1の領域と、前記第1の領域外側の第2の領域とを有する基板に、電極電位の異なる複数種類の金属材料で構成される積層金属膜のパターンを形成する方法であって、
前記基板の全面に前記積層金属膜を形成する工程と、
前記第1の領域に前記積層金属膜の配線パターンを形成するためのレジストパターンを形成すると共に、前記第2の領域の全域に、前記製品の動作に関与しないパターンを形成するためのレジストパターンを形成する工程と、
ウェットエッチング法を用いて、露出した前記積層金属膜を一括してエッチング除去する工程と、を少なくとも有することを特徴とする積層金属膜パターンの形成方法。 - 製品となる素子又は回路が形成される第1の領域と、前記第1の領域外側の第2の領域とを有する基板に、電極電位の異なる複数種類の金属材料で構成される積層金属膜のパターンを形成する方法であって、
前記基板の全面に前記積層金属膜を形成する工程と、
前記第1の領域に前記積層金属膜の配線パターンを形成するためのレジストパターンを形成すると共に、前記第2の領域の内、前記積層金属膜をウェットエッチング法を用いてエッチング除去するエッチング開口部の全域に、前記製品の動作に関与しないパターンを形成するためのレジストパターンを形成する工程と、
ウェットエッチング法を用いて、露出した前記積層金属膜を一括してエッチング除去する工程と、を少なくとも有することを特徴とする積層金属膜パターンの形成方法。 - 前記第1の領域における前記積層金属膜がエッチング除去されるエッチング開口部と、前記第2の領域における前記積層金属膜がエッチング除去されるエッチング開口部とで、前記複数種類の金属材料間の電池反応が略等しくなるように、前記製品の動作に関与しないパターンのサイズを設定することを特徴とする請求項6又は7に記載の積層金属膜パターンの形成方法。
- 前記積層金属膜は2層構造の金属膜であり、その下層側が上層側に比べて相対的に卑な金属材料で構成されていることを特徴とする請求項6乃至8のいずれか一に記載の積層金属膜パターンの形成方法。
- 前記2層構造の金属膜は、下層側がAl又はAl合金、上層側がMo又はMo合金で構成されていることを特徴とする請求項9記載の積層金属膜パターンの形成方法。
- 請求項6乃至10のいずれか一に記載の積層金属膜のパターン形成方法で形成された積層金属膜のパターン構造により、配線が形成されていることを特徴とする液晶表示装置または半導体装置。
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