JP2005303220A - Tftアレイ基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 第1メタル層からなる多数のゲート配線11Lと、第2メタル層からなり、上記ゲート配線11Lに交差させて配置された多数のソース配線15Lと、ゲート電極、ソース電極15S、ドレイン電極15D及び半導体層14TからなるTFT6と、上記半導体層からなり、上記ソース配線15L下に配置され、上記ソース配線15Lに沿って伸延させた半導体配線14Lと、上記第1メタル層からなり、上記半導体配線14Lの終端部を内包する終端部パターン11Eとを備える。
【選択図】 図7
Description
図1は、本発明によるTFTアレイ基板を含む液晶表示装置の一構成例を示した図である。図中の1はTFTアレイ基板、2は制御基板、3はゲート駆動モジュール、4はソース駆動モジュール、5は表示領域である。また、6はTFT、7は画素容量、11Lはゲート配線、15Lはソース配線である。
実施の形態1では、終端部パターン11Eが、半導体配線14Lの突出部を内包するパターンからなる場合について説明した。これに対し、本実施の形態では、終端部パターン11Eが、半導体配線14Lの終端部を内包し、かつ、ゲート配線11L又は補助容量電極11Cに接続されたパターンからなる場合について説明する。
実施の形態1及び2では、終端部パターン11Eが、ゲート配線11L又は補助容量電極11Cに接続されている場合について説明した。これに対し、本実施の形態では、終端部パターン11Eが、ゲート配線11L及び補助容量電極11Cから電気的に独立したパターンである場合について説明する。
実施の形態1〜3では、半導体配線14Lの終端部に終端部パターン11Eを設ける場合について説明した。これに対し、本実施の形態では、2以上の半導体配線14Lの終端部によりスパークギャップを形成させ、当該スパークギャップを内包する終端部パターン11Eを形成する場合について説明する。
2 制御基板
3 ゲート駆動モジュール
4 ソース駆動モジュール
5 表示領域
6 TFT
7 画素容量
10 絶縁性基板
11L ゲート配線
11G ゲート電極
11E 終端部パターン
11C 補助容量電極
12 絶縁膜
14T 半導体部
14L 半導体配線
15L ソース配線
15S ソース電極
15D ドレイン電極
16 層間絶縁膜
17 画素電極
20 チャネル領域
21 コンタクトホール
Claims (7)
- 第1メタル層からなる多数のゲート配線と、
第2メタル層からなり、上記ゲート配線に交差させて配置された多数のソース配線と、
上記第1メタル層からなるゲート電極、上記第2メタル層からなるソース電極及びドレイン電極、並びに、上記第1メタル層及び上記第2メタル層間に形成される絶縁膜及び半導体層により構成されるTFTと、
上記半導体層からなり、上記ソース配線下に配置され、上記ソース配線に沿って伸延させた半導体配線と、
上記第1メタル層からなり、上記半導体配線の終端部を内包する終端部パターンとを備えたことを特徴とするTFTアレイ基板。 - 上記終端部パターンは、最も外側に配置された上記ゲート配線よりも外側に伸延させた上記半導体配線の終端部に対して形成されることを特徴とする請求項1に記載のTFTアレイ基板。
- 上記終端パターンは、上記ゲート配線のいずれかに接続されていることを特徴とする請求項1に記載のTFTアレイ基板。
- 第1メタル層からなり、ゲート配線に対して平行に位置され、互いに接続された多数の補助容量電極を備え、
上記終端パターンは、最も外側に配置された上記補助容量電極よりも外側に伸延させた上記半導体配線の終端部に対して形成されることを特徴とする請求項1に記載のTFTアレイ基板。 - 上記終端パターンが、上記補助容量電極に接続されていることを特徴とする請求項4に記載のTFTアレイ基板。
- 上記終端パターンが、各半導体配線ごとに独立したパターンであることを特徴とする請求項1に記載のTFTアレイ基板。
- 上記半導体配線が終端部を尖鋭させた尖鋭部を有し、2以上の上記半導体配線について尖鋭部を近接して配置することによりスパークギャップを形成し、
上記終端部パターンが、スパークギャップを形成する尖鋭部をともに内包するパターンからなることを特徴とする請求項1に記載のTFTアレイ基板。
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