JP2006044023A - ラインヘッドモジュールおよび画像形成装置 - Google Patents
ラインヘッドモジュールおよび画像形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006044023A JP2006044023A JP2004227566A JP2004227566A JP2006044023A JP 2006044023 A JP2006044023 A JP 2006044023A JP 2004227566 A JP2004227566 A JP 2004227566A JP 2004227566 A JP2004227566 A JP 2004227566A JP 2006044023 A JP2006044023 A JP 2006044023A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- line head
- lens array
- head
- organic
- line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 36
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 16
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 11
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 64
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 44
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 30
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 20
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 16
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 16
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 7
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 7
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940123973 Oxygen scavenger Drugs 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 3
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 3
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 3
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 3
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 3
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- -1 polyphenylene Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 1,4,4-triphenylbuta-1,3-dienylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)=CC=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCNCGHJSNVOIKE-UHFFFAOYSA-N 9,10-diphenylanthracene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=CC=CC=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 FCNCGHJSNVOIKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N coumarin 6 Chemical compound C1=CC=C2SC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical class C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- VMTCKFAPVIWNOF-UHFFFAOYSA-N methane tetrahydrofluoride Chemical compound C.F.F.F.F VMTCKFAPVIWNOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOFUROIFQGPCGE-UHFFFAOYSA-N nile red Chemical compound C1=CC=C2C3=NC4=CC=C(N(CC)CC)C=C4OC3=CC(=O)C2=C1 VOFUROIFQGPCGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 239000001022 rhodamine dye Substances 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/04—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
- G03G15/04036—Details of illuminating systems, e.g. lamps, reflectors
- G03G15/04045—Details of illuminating systems, e.g. lamps, reflectors for exposing image information provided otherwise than by directly projecting the original image onto the photoconductive recording material, e.g. digital copiers
- G03G15/04063—Details of illuminating systems, e.g. lamps, reflectors for exposing image information provided otherwise than by directly projecting the original image onto the photoconductive recording material, e.g. digital copiers by EL-bars
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2002/14362—Assembling elements of heads
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/19—Assembling head units
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/20—Modules
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】 複数の有機EL素子を整列配置したラインヘッド1と、ラインヘッド1からの光を正立等倍結像させるレンズ素子を配列してなるレンズアレイ31と、ラインヘッド1およびレンズアレイ31の外周部を支持するヘッドケース52とを備えたラインヘッドモジュール101であって、ラインヘッド1およびレンズアレイ31の外周部がヘッドケース52に気密接合されて、ラインヘッド1とレンズアレイ31との間に形成された第1チャンバ56が密閉封止されている構成とした。
【選択図】 図1
Description
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、有機EL素子の吸湿や酸化による耐久性の低下および寿命の短命化を阻止することが可能な、ラインヘッドモジュールおよび画像形成装置の提供を目的とする。
この構成によれば、乾燥剤や脱酸素剤であるゲッター剤が水分や酸素を吸収するので、レンズアレイ側からラインヘッドへの水分や酸素の接近を確実に防止することができる。したがって、有機EL素子の耐久性の低下および寿命の短命化を阻止することができる。
この構成によれば、封止材によって水分や酸素の透過を確実に遮断することが可能になる。したがって、有機EL素子の耐久性の低下および寿命の短命化を阻止することができる。
この構成によれば、乾燥剤や脱酸素剤であるゲッター剤が水分や酸素を吸収するので、蓋部材側からラインヘッドへの水分や酸素の接近を確実に防止することができる。したがって、有機EL素子の耐久性の低下および寿命の短命化を阻止することができる。
この構成によれば、封止材によって水分や酸素の透過を確実に遮断することが可能になる。したがって、有機EL素子の耐久性の低下および寿命の短命化を阻止することができる。
この構成によれば、耐久性に優れたラインヘッドモジュールを備えることにより、信頼性に優れた画像形成装置を提供することができる。
最初に、ラインヘッドモジュールについて説明する。
図1は、実施形態に係るラインヘッドモジュールの斜視断面図である。本実施形態のラインヘッドモジュール101は、複数の有機EL素子を整列配置したラインヘッド1と、ラインヘッド1からの光を正立等倍結像させるレンズ素子を整列配置してなるレンズアレイ31と、ラインヘッド1およびレンズアレイ31の外周部を支持するヘッドケース52とを備えたものである。
図2は、ラインヘッドを模式的に示した図である。このラインヘッド1は、長細い矩形の素子基板2上に、複数の有機EL(エレクトロルミネセンス)素子3を配列してなる発光素子列3Aと、有機EL素子3を駆動させる駆動素子4からなる駆動素子群と、これら駆動素子4(駆動素子群)の駆動を制御する制御回路群5とを一体形成したものである。なお、図2では有機EL素子3が1列に配置されているが、千鳥状に2列に配置してもよい。この場合には、ラインヘッド1の長手方向における有機EL素子3のピッチを小さくすることが可能になり、画像形成装置の解像度を向上させることができる。
図3は、レンズアレイの斜視図である。このレンズアレイ31は、日本板硝子株式会社製のセルフォック(登録商標)レンズ素子31aを配列したものである。このレンズ素子31aは、直径0.28mm程度のファイバー状に形成されている。また、各レンズ素子31aは千鳥状に配置され、各レンズ素子31aの隙間には黒色のシリコーン樹脂32が充填されている。さらに、その周囲にフレーム34が配置されて、レンズアレイ31が形成されている。
図1に戻り、本実施形態のラインヘッドモジュール101は、ラインヘッド1およびレンズアレイ31の外周部を支持するヘッドケース52を備えている。このヘッドケース52は、Al等の剛性材料によってスリット状に形成されている。ヘッドケース52の長手方向に垂直な断面は、上下両端部が開口した形状となっており、その上半部の側壁52a,52aは相互に平行に配置され、下半部の側壁52b,52bはそれぞれ下端中央部に向かって傾斜配置されている。なお図示しないが、ヘッドケース52の長手方向における両端部の側壁も、相互に平行に配置されている。
図4は、ラインヘッドの結合部分(図1のA部)における拡大図である。図4に示すように、ヘッドケース52の側壁52aの内面には、全周にわたって階段状の台座53が形成されている。その台座53の上面にラインヘッド1の下面を当接させて、ラインヘッド1が水平に配置されている。詳細は後述するが、ラインヘッド1はボトムエミッション方式であり、素子基板2を下側に向け、封止基板30を上側に向けて配置されている。
次に、本実施形態のラインヘッドモジュールの製造方法につき図1を用いて説明する。まず、ヘッドケース52の上半部側壁52aの内面に形成された台座53に沿って、ヘッドケース52の内面全周に、熱硬化性樹脂からなる封止材54aを塗布する。次に、ヘッドケース52の内側にラインヘッド1を挿入して、台座53の上面に配置する。その際、台座53に沿って塗布された封止材54aが流動して、ヘッドケース52の内面とラインヘッド1の下面との角部に再配置される。
これにより、本実施形態のラインヘッドモジュールでは、レンズアレイ31側からラインヘッド1への水分や酸素の接近を防止することができる。これにより、有機EL素子の吸湿や酸化を抑制することが可能になり、有機EL素子の耐久性の低下および寿命の短命化を阻止することができる。
次に、ラインヘッドにおける有機EL素子や駆動素子等の詳細な構成について、図6(a)、(b)を参照して説明する。
発光層60で発光した光を画素電極23側から出射する、いわゆるボトムエミッション型である場合には、素子基板2側から発光光を取り出す構成であるので、素子基板2としては透明あるいは半透明のものが採用される。例えば、ガラス、石英、樹脂(プラスチック、プラスチックフィルム)等が挙げられ、特にガラス基板が好適に用いられる。
本実施形態では、ボトムエミッション型が採用され、したがって素子基板2には透明なガラスが用いられるものとする。
そして、このような構成のもとに有機EL素子3は、図6(a)に示すように、正孔輸送層70から注入された正孔と陰極50からの電子とが発光層60で結合することにより、発光をなすようになっている。
正孔輸送層70の形成材料としては、特に3,4−ポリエチレンジオシチオフェン/ポリスチレンスルフォン酸(PEDOT/PSS)の分散液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に3,4−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液が好適に用いられる。
なお、正孔輸送層70の形成材料としては、前記のものに限定されることなく種々のものが使用可能である。例えば、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体などを、適宜な分散媒、例えば前記のポリスチレンスルフォン酸に分散させたものなどが使用可能である。
また、この陰極50上には接着層を介して封止基板(図示せず)が貼着されている。
次に、このような構成のラインヘッドの製造方法について説明する。
まず、図7(a)に示すように、素子基板2の表面に、下地保護層281を形成し、さらにこの下地保護層281上にポリシリコン層等を形成して、このポリシリコン層等から回路部11を形成する。
次いで、素子基板2の全面を覆うように画素電極23となる透明導電膜を、ITO等によって形成する。そして、この導電膜をパターニングすることにより、平坦化膜284のコンタクトホール23aを介してドレイン電極244と導通する画素電極23を形成する。
次いで、素子基板2の表面に、親液性を示す領域と、撥液性を示す領域とを形成する。本実施形態においては、プラズマ処理によって各領域を形成するものする。具体的には、該プラズマ処理は、予備加熱工程と、有機隔壁221の表面および開口221aの壁面ならびに画素電極23の電極面23c、無機隔壁25の表面をそれぞれ親液性にする親液化工程と、有機隔壁221の上面および開口221aの壁面を撥液性にする撥液化工程と、冷却工程とで構成する。
なお、この正孔輸送層形成工程以降では、各種の形成材料や形成した要素の酸化・吸湿を防止すべく、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気などの不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。
以上の正孔輸送層70の形成工程と発光層60の形成工程とにより、本発明における機能層を形成することができる。
なお、前記実施形態では、本発明のラインヘッド1に形成されるEL素子として、有機EL素子を用いた例を示したが、これに代えて無機EL素子を用いてもよいのはもちろんである。
次に、本実施形態のラインヘッドモジュールの使用形態について説明する。
本実施形態のラインヘッドモジュールは、画像形成装置における露光装置として使用される。その場合、ラインヘッドモジュールは感光体ドラムに対向配置され、ラインヘッドからの光をレンズアレイにより感光体ドラム上に正立等倍結像させて使用する。
まず、タンデム方式の画像形成装置について説明する。
図9は、タンデム方式の画像形成装置の概略構成図であり、図9中符号80は画像形成装置である。この画像形成装置80は、本発明のラインヘッドモジュール101K、101C、101M、101Yを、対応する同様な構成である4個の感光体ドラム(像担持体)41K、41C、41M、41Yの露光装置にそれぞれ配置したもので、タンデム方式のものとして構成されたものである。
次に、4サイクル方式の画像形成装置について説明する。
図10は、4サイクル方式の画像形成装置画の概略構成図である。図10において、画像形成装置160には主要構成部材として、ロータリ構成の現像装置161、像担持体として機能する感光体ドラム165、像書込手段(露光手段)として機能する本実施形態のラインヘッドモジュール167、中間転写ベルト169、用紙搬送路174、定着器の加熱ローラ172、給紙トレイ178が設けられている。
なお、本発明のラインヘッドモジュールを備えた画像形成装置は上記に限定されることなく、種々の変形が可能である。
Claims (9)
- 複数の有機EL素子を整列配置したラインヘッドと、前記ラインヘッドからの光を結像させるレンズ素子を配列してなるレンズアレイとを備えたラインヘッドモジュールであって、
前記ラインヘッドの前記レンズアレイ側に形成された第1チャンバが、密閉封止されていることを特徴とするラインヘッドモジュール。 - 複数の有機EL素子を整列配置したラインヘッドと、前記ラインヘッドからの光を結像させるレンズ素子を配列してなるレンズアレイと、前記ラインヘッドおよび前記レンズアレイを支持するヘッドケースとを備えたラインヘッドモジュールであって、
前記ラインヘッドおよび前記レンズアレイの外周部が前記ヘッドケースに気密接合されて、前記ラインヘッドと前記レンズアレイとの間に形成された第1チャンバが密閉封止されていることを特徴とするラインヘッドモジュール。 - 前記第1チャンバの内部には、ゲッター剤が配置されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のラインヘッドモジュール。
- 前記ラインヘッドおよび/または前記レンズアレイと前記ヘッドケースとの気密接合部には、ゲッター剤を含有する封止材が配置されていることを特徴とする請求項1ないし請求項2のいずれかに記載のラインヘッドモジュール。
- 複数の有機EL素子を整列配置したラインヘッドと、前記ラインヘッドからの光を結像させるレンズ素子を配列してなるレンズアレイとを備えたラインヘッドモジュールであって、
前記ラインヘッドの前記レンズアレイとは反対側に形成された第2チャンバが、密閉封止されていることを特徴とするラインヘッドモジュール。 - 複数の有機EL素子を整列配置したラインヘッドと、前記ラインヘッドからの光を結像させるレンズ素子を配列してなるレンズアレイと、前記ラインヘッドおよび前記レンズアレイを支持するヘッドケースとを備えたラインヘッドモジュールであって、
前記ラインヘッドの前記レンズアレイとは反対側に、蓋部材が配置され、
前記ラインヘッドおよび前記蓋部材の外周部が前記ヘッドケースに気密接合されて、前記ラインヘッドと前記蓋部材との間に形成された第2チャンバが密閉封止されていることを特徴とするラインヘッドモジュール。 - 前記第2チャンバの内部には、ゲッター剤が配置されていることを特徴とする請求項5または請求項6に記載のラインヘッドモジュール。
- 前記ラインヘッドおよび/または前記蓋部材と前記ヘッドケースとの気密接合部には、ゲッター剤を含有する封止材が配置されていることを特徴とする請求項5ないし請求項7のいずれかに記載のラインヘッドモジュール。
- 請求項1ないし請求項8のいずれかに記載のラインヘッドモジュールを、露光手段として備えたことを特徴とする画像形成装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004227566A JP4211710B2 (ja) | 2004-08-04 | 2004-08-04 | ラインヘッドモジュールおよび画像形成装置 |
TW094122722A TW200608161A (en) | 2004-08-04 | 2005-07-05 | Line head module and image forming apparatus |
US11/174,658 US7564474B2 (en) | 2004-08-04 | 2005-07-06 | Line head module and image forming apparatus |
KR1020050063681A KR100773841B1 (ko) | 2004-08-04 | 2005-07-14 | 라인 헤드 모듈 및 화상 형성 장치 |
CNB2005100884959A CN100418016C (zh) | 2004-08-04 | 2005-08-02 | 线性头模块和图像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004227566A JP4211710B2 (ja) | 2004-08-04 | 2004-08-04 | ラインヘッドモジュールおよび画像形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006044023A true JP2006044023A (ja) | 2006-02-16 |
JP4211710B2 JP4211710B2 (ja) | 2009-01-21 |
Family
ID=35756985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004227566A Expired - Fee Related JP4211710B2 (ja) | 2004-08-04 | 2004-08-04 | ラインヘッドモジュールおよび画像形成装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7564474B2 (ja) |
JP (1) | JP4211710B2 (ja) |
KR (1) | KR100773841B1 (ja) |
CN (1) | CN100418016C (ja) |
TW (1) | TW200608161A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007237637A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置および画像形成装置 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4508025B2 (ja) * | 2005-07-26 | 2010-07-21 | セイコーエプソン株式会社 | ラインヘッド、ラインヘッドモジュール、及び画像形成装置 |
JP2010052152A (ja) * | 2008-08-26 | 2010-03-11 | Brother Ind Ltd | 露光装置およびその製造方法 |
JP6976695B2 (ja) * | 2017-03-08 | 2021-12-08 | 株式会社東芝 | 発光基板、プリントヘッドおよび画像形成装置 |
JP2022096964A (ja) * | 2020-12-18 | 2022-06-30 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01244873A (ja) | 1988-03-28 | 1989-09-29 | Nec Corp | Led印字ヘッド |
JPH02122955A (ja) | 1988-11-01 | 1990-05-10 | Seiko Epson Corp | 光プリンタヘッド |
JP2696025B2 (ja) * | 1991-11-18 | 1998-01-14 | 沖電気工業株式会社 | 読取りヘッド |
JP2744548B2 (ja) | 1992-04-22 | 1998-04-28 | 株式会社テック | ラインヘッド |
JPH06994A (ja) * | 1992-06-18 | 1994-01-11 | Tokyo Electric Co Ltd | ラインヘッド |
JPH06135052A (ja) | 1992-10-26 | 1994-05-17 | Sanyo Electric Co Ltd | 光プリントヘッド |
JPH0825691A (ja) * | 1994-07-21 | 1996-01-30 | Rohm Co Ltd | Ledアレイプリントヘッドの構造 |
JPH0890832A (ja) * | 1994-09-27 | 1996-04-09 | Oki Electric Ind Co Ltd | 発光素子アレイおよび光学ヘッド |
JP3129160B2 (ja) | 1995-06-30 | 2001-01-29 | 日本精機株式会社 | Ledプリンタヘッド |
US5908674A (en) * | 1995-12-13 | 1999-06-01 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Impact-resisting glazing structure |
JP2942230B2 (ja) | 1998-01-12 | 1999-08-30 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置及び発光装置 |
JPH11301024A (ja) | 1998-04-24 | 1999-11-02 | Canon Inc | 露光装置および画像形成装置 |
JP2000141744A (ja) * | 1998-11-04 | 2000-05-23 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2001096803A (ja) * | 1999-10-04 | 2001-04-10 | Fujitsu Ltd | 露光装置、画像形成装置及び露光装置の製造方法 |
JP2001251459A (ja) * | 2000-03-07 | 2001-09-14 | Rohm Co Ltd | 画像処理装置 |
JP4233196B2 (ja) * | 2000-06-14 | 2009-03-04 | 富士フイルム株式会社 | 露光装置 |
AUPR399601A0 (en) | 2001-03-27 | 2001-04-26 | Silverbrook Research Pty. Ltd. | An apparatus and method(ART108) |
CN1296213C (zh) * | 2001-05-16 | 2007-01-24 | 铃鹿富士施乐株式会社 | Led印刷头及led印刷头的制造方法 |
US6708011B2 (en) * | 2001-07-05 | 2004-03-16 | Seiko Epson Corporation | System for forming color images |
JP2003182137A (ja) | 2001-12-13 | 2003-07-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
US6736484B2 (en) * | 2001-12-14 | 2004-05-18 | Seiko Epson Corporation | Liquid drop discharge method and discharge device; electro optical device, method of manufacture thereof, and device for manufacture thereof; color filter method of manufacture thereof, and device for manufacturing thereof; and device incorporating backing, method of manufacturing thereof, and device for manufacture thereof |
JP2003323975A (ja) | 2002-04-30 | 2003-11-14 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
JP4417027B2 (ja) * | 2003-05-21 | 2010-02-17 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置 |
-
2004
- 2004-08-04 JP JP2004227566A patent/JP4211710B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-07-05 TW TW094122722A patent/TW200608161A/zh unknown
- 2005-07-06 US US11/174,658 patent/US7564474B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-07-14 KR KR1020050063681A patent/KR100773841B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2005-08-02 CN CNB2005100884959A patent/CN100418016C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007237637A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置および画像形成装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7564474B2 (en) | 2009-07-21 |
CN100418016C (zh) | 2008-09-10 |
TW200608161A (en) | 2006-03-01 |
US20060028534A1 (en) | 2006-02-09 |
KR100773841B1 (ko) | 2007-11-06 |
KR20060050166A (ko) | 2006-05-19 |
CN1734359A (zh) | 2006-02-15 |
JP4211710B2 (ja) | 2009-01-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4508025B2 (ja) | ラインヘッド、ラインヘッドモジュール、及び画像形成装置 | |
JP4539518B2 (ja) | 電気光学装置及び電気光学装置の製造方法 | |
US7382391B2 (en) | Line head module and image forming apparatus | |
KR100773841B1 (ko) | 라인 헤드 모듈 및 화상 형성 장치 | |
JP2006281730A (ja) | ラインヘッド、露光装置、画像形成装置 | |
US7564471B2 (en) | Line head module, exposure apparatus, and image forming apparatus | |
JP2006281746A (ja) | ラインヘッドとその製造方法、及び画像形成装置 | |
JP2007073460A (ja) | 発光装置、その製造方法、及び電子機器 | |
JP4424291B2 (ja) | 発光装置、発光装置の製造方法、画像形成装置、及び電子機器 | |
JP4552601B2 (ja) | 露光装置及び画像形成装置 | |
JP4238798B2 (ja) | ラインヘッド、ラインヘッドの製造方法および画像形成装置 | |
JP4639918B2 (ja) | ラインヘッド、及び画像形成装置 | |
JP2006315195A (ja) | ラインヘッド及び画像形成装置 | |
JP2006044090A (ja) | ラインヘッドとその製造方法、及び画像形成装置 | |
JP2006192643A (ja) | ラインヘッド、及び画像形成装置 | |
JP2006044088A (ja) | ラインヘッドとその製造方法、及び画像形成装置 | |
JP2006281733A (ja) | ラインヘッドとその製造方法、及び画像形成装置 | |
JP2006027198A (ja) | ラインヘッド及び画像形成装置 | |
JP2006187894A (ja) | ラインヘッド、及び画像形成装置 | |
JP2006027197A (ja) | ラインヘッド及び画像形成装置 | |
KR100799289B1 (ko) | 발광 장치 및 발광 장치의 제조 방법 | |
JP2006272685A (ja) | ラインヘッド及び画像形成装置 | |
JP2007073286A (ja) | 発光装置の製造方法、発光装置および電子機器 | |
JP4349305B2 (ja) | ラインヘッドモジュール、露光装置、画像形成装置 | |
JP2006192594A (ja) | ラインヘッドモジュール及び画像形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070403 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071220 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080307 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080701 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080820 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081007 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081020 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111107 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111107 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121107 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121107 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131107 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |