JP2006027197A - ラインヘッド及び画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 素子基板2上に、複数の有機EL素子3を配列してなる発光素子3A列と、有機EL素子を駆動させる駆動制御手段の少なくとも一部とを一体形成したラインヘッド1である。素子基板2上に、位置合わせ用マーク6を形成している。
【選択図】 図1
Description
このような要求に応えるものとして、LEDプリンタヘッドを使用したタンデム型のカラー電子写真プリンタが提供されている。このプリンターでは、レーザプリンタで用いられているポリゴンミラーのような回転機構部が無いため、さらなる高速化や小型化が可能になっている。
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、画像形成装置の複雑化や大型化を招くことなく、例えばタンデム型の場合における色ずれを防止したラインヘッドと、これを備えた画像形成装置を提供することにある。
このラインヘッドによれば、素子基板上に直接発光素子列を形成しているので、支持基板上にチップアレイを固着する場合と異なり発光素子間での位置ずれが無く、さらに、素子基板上に位置合わせマークも直接形成されているので、該位置合わせマークと前記発光素子との間での位置ずれも無い。したがって、特にタンデム型のカラー画像形成装置において4つのラインヘッドを用いる場合にも、前記位置合わせマークを用いてそれぞれの相対位置を合わせることにより、各ラインヘッドの発光素子が前記位置合わせマークを基準に位置合わせされるようになり、したがって色ずれが防止される。また、ラインヘッドを一つしか用いない場合であっても、通常はこれを画像形成装置に組み込む際、結像レンズや感光ドラムとの間で位置合わせ(光軸合わせ)を行う必要があるが、その場合にも、前記の位置合わせマークを用いることで、容易にしかも精度良く位置あわせを行うことが可能になる。
このようにすれば、位置合わせマークをより精度良く形成することが可能になるとともに、EL素子や駆動素子の構成要素の形成をフォトリソグラフィー技術で行う際、前記構成要素用の材料によって同じ工程で位置合わせマークを形成することが可能になる。
このようにすれば、EL素子を形成する工程において位置合わせマークを同時に形成することが可能になり、工程の増加を抑えることで生産性を向上することができるとともに、コストアップを抑えることがでできる。
また、EL材料を液滴吐出法で所定位置に配するようにすることで、工程をさらに簡略化することができる。
このようにすれば、EL素子を形成する工程において位置合わせマークを同時に形成することが可能になり、工程の増加を抑えることで生産性を向上することができるとともに、コストアップを抑えることがでできる。
また、特にこのダミーのEL素子についても、発光をなすように配線をしておけば、位置合わせ時にこのダミーのEL素子の発光を利用することができる。
この画像形成装置によれば、前述したように発光素子間での位置ずれが無く、さらに位置合わせマークと前記発光素子との間での位置ずれも無いラインヘッドを露光手段としているので、特にタンデム型のものであって、4つのラインヘッドを用いる場合にも、前記位置合わせマークを用いてそれぞれの相対位置を合わせることにより、各ラインヘッドの発光素子が前記位置合わせマークを基準に位置合わせされるようになり、したがって色ずれが防止される。また、ラインヘッドを一つしか用いないものの場合であっても、ラインヘッドを組み込む際、前記の位置合わせマークを用いることにより、このラインヘッドと結像レンズや感光ドラムとの間で位置合わせ(光軸合わせ)を容易にしかも精度良く行うことが可能になる。
まず、本発明のラインヘッドについて説明する。図1は本発明のラインヘッドの一実施形態を模式的に示す図であり、図1中符号1はラインヘッドである。このラインヘッド1は、後述する画像形成装置の露光手段として用いられるもので、長細い矩形の素子基板2上に、複数の有機EL(エレクトロルミネセンス)素子3を配列してなる発光素子列3Aと、前記有機EL素子3を駆動させる駆動素子4からなる駆動素子群と、これら駆動素子4(駆動素子群)の駆動を制御する制御回路群5とを一体形成したものである。また、前記素子基板2上には、有機EL素子3を配列してなる発光素子列3Aの外側、すなわち列の先端側と後端側に、それぞれ位置合わせ用マーク6が形成されている。さらに、前記素子基板2上には、前記有機EL素子3を封止した状態で、接着剤によって封止基板(図示せず)が貼着されている。
素子基板2としては、図2(a)に示すように、後述する発光層で発光した光を陰極(対向電極)50側から出射する、いわゆるトップエミッション型である場合には、この素子基板2の対向側である封止基板側から発光光を取り出す構成であるので、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミック、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。
そして、このような構成のもとに有機EL素子3は、図2(a)に示すように、正孔輸送層70から注入された正孔と陰極50からの電子とが発光層60で結合することにより、発光をなすようになっている。
正孔輸送層70の形成材料としては、特に3,4−ポリエチレンジオシチオフェン/ポリスチレンスルフォン酸(PEDOT/PSS)の分散液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に3,4−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液が好適に用いられる。
なお、正孔輸送層70の形成材料としては、前記のものに限定されることなく種々のものが使用可能である。例えば、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体などを、適宜な分散媒、例えば前記のポリスチレンスルフォン酸に分散させたものなどが使用可能である。
また、この陰極50上には接着層を介して封止基板(図示せず)が貼着されている。
まず、図4(a)に示すように、素子基板2の表面に、下地保護層281を形成する。次に、下地保護層281上に、ICVD法、プラズマCVD法などを用いてアモルファスシリコン層501を形成し、その後、レーザアニール法又は急速加熱法により結晶粒を成長させてポリシリコン層とする。
このようにフォトリソグラフィー技術によって位置合わせマーク6を形成すれば、この位置合わせマーク6をより精度良く形成することができ、しかもゲート電極252等の形成と同じ工程でパターニングを行うことができるので、工程を増やすことなく、したがって生産性を損なうことなく容易に位置合わせマーク6を形成することができる。
その後、素子基板2の全面を覆うように画素電極23となる透明導電膜を、ITO等によって形成する。そして、この導電膜をパターニングすることにより、図7(k)に示すように、平坦化膜284のコンタクトホール23aを介してドレイン電極244と導通する画素電極23を形成する。
次いで、図7(m)に示すように、親液性制御層25の所定位置、詳しくは画素領域を囲む位置に樹脂等によって隔壁221を形成する。
なお、この正孔輸送層形成工程以降では、各種の形成材料や形成した要素の酸化・吸湿を防止すべく、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気などの不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。
このようにすれば、正孔輸送層70や発光層60を形成する工程において位置合わせマーク6を同時に形成することができ、したがって工程の増加を抑えることで生産性を向上することができるとともに、コストアップを抑えることがでできる。また、EL材料を液滴吐出法で所定位置に配するようにすることで、工程を簡略化することができる。
その場合に、これらダミーの有機EL素子(位置合わせマーク6)については、例えばその配線を電源線に直接接続することにより、駆動素子4によって制御する発光素子列3Aの有機EL素子3とは別に、その発光制御を行うようにしてもよい。
また、位置合わせ時に、このダミーの有機EL素子(位置合わせマーク6)の発光を利用することができることから、位置合わせをより容易にすることができる。すなわち、この位置合わせマーク6を利用して光学的な位置合わせを行う際、特に照明光が届きにくいような場合に、前記ダミーの有機EL素子を発光させることで照明光なしに位置あわせを行うことができる。
このように、図10の画像形成装置は、露光手段(書き込み手段)としてELアレイラインヘッド101(K、C、M、Y)を用いているので、例えばレーザ走査光学系を用いた場合に比べ、装置の小型化を図ることができる。
したがって、これら画像形成装置80、160にあっては、前述したように発光素子間での位置ずれが無く、さらに位置合わせマークと前記発光素子との間での位置ずれも無いラインヘッドを露光手段としているので、特に図10に示したタンデム型の画像形成装置80において、4つのラインヘッドを用いる場合にも、前記位置合わせマークを用いてそれぞれの相対位置を合わせることにより、色ずれを確実に防止することができる。
なお、本発明のラインヘッドを備えた画像形成装置は前記実施形態に限定されることなく、種々の変形が可能である。
4…駆動素子、6…位置合わせマーク、10…位置合わせマーク、
80、160…画像形成装置
Claims (6)
- 素子基板上に、複数のEL素子を配列してなる発光素子列と、前記EL素子を駆動させる駆動制御手段の少なくとも一部とを一体形成したラインヘッドであって、
前記素子基板上に、位置合わせ用マークを形成したことを特徴とするラインヘッド。 - 前記位置合わせマークが、フォトリソグラフィー技術によって形成されてなることを特徴とする請求項1記載のラインヘッド。
- 前記位置合わせマークが、EL材料によって形成されてなることを特徴とする請求項1記載のラインヘッド。
- 前記位置合わせマークが、液滴吐出法によってEL材料が所定位置に配されたことで形成されたことを特徴とする請求項3記載のラインヘッド。
- 前記位置合わせマークが、前記発光素子列を構成するEL素子とは別に形成されたダミーのEL素子にからなることを特徴とする請求項1記載のラインヘッド。
- 露光手段として、請求項1〜5のいずれか一項に記載のラインヘッドを備えたことを特徴とする画像形成装置。
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---|---|---|---|---|
US7583284B2 (en) * | 2008-01-29 | 2009-09-01 | Universal Scientific Industrial Co., Ltd. | Method for arranging print head chips |
JP2014072030A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Japan Display Inc | 有機el表示装置及び有機el表示装置の製造方法 |
-
2004
- 2004-07-21 JP JP2004212614A patent/JP2006027197A/ja active Pending
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