JP2003182137A - 露光装置 - Google Patents
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 44
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 12
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 Mg and Ca Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
- H05B33/26—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the composition or arrangement of the conductive material used as an electrode
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-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
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- H04N1/19—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays
- H04N1/191—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays the array comprising a one-dimensional array, or a combination of one-dimensional arrays, or a substantially one-dimensional array, e.g. an array of staggered elements
- H04N1/192—Simultaneously or substantially simultaneously scanning picture elements on one main scanning line
- H04N1/193—Simultaneously or substantially simultaneously scanning picture elements on one main scanning line using electrically scanned linear arrays, e.g. linear CCD arrays
-
- H—ELECTRICITY
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- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/19—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays
- H04N1/191—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays the array comprising a one-dimensional array, or a combination of one-dimensional arrays, or a substantially one-dimensional array, e.g. an array of staggered elements
- H04N1/192—Simultaneously or substantially simultaneously scanning picture elements on one main scanning line
- H04N1/193—Simultaneously or substantially simultaneously scanning picture elements on one main scanning line using electrically scanned linear arrays, e.g. linear CCD arrays
- H04N1/1932—Simultaneously or substantially simultaneously scanning picture elements on one main scanning line using electrically scanned linear arrays, e.g. linear CCD arrays using an array of elements displaced from one another in the sub scan direction, e.g. a diagonally arranged array
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- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
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- H—ELECTRICITY
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
-
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
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- Signal Processing (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単な構成でデータ電極の特性やドライバの
バラツキに起因する副走査方向の筋ムラを低減する。 【解決手段】 金属陰極２３は、各素子列の主走査方向
に配列された有機ＥＬ素子２０についての共通電極とさ
れ、透明基板１０上には複数の陰極ライン２３1〜２３m
が走査電極として形成されている。透明陽極２１は、副
走査方向位置が異なる有機ＥＬ素子２０についての共通
電極とされ、透明基板１０上には、複数の陰極ライン２
３1〜２３mと交差し、且つ副走査方向に対して所定角度
θを成すように傾斜させて複数の陽極ライン２１1〜２
１mがデータ電極として形成されている。この陽極ライ
ンの傾斜により、陰極ライン２３1〜２３m間において、
同一の陽極ラインを共通する有機ＥＬ素子２０同士は主
走査方向の位置が互いに異なり、同一の主走査方向の位
置となるのは、互いに異なる陽極ラインを用いる有機Ｅ
Ｌ素子２０同士とすることができる。
バラツキに起因する副走査方向の筋ムラを低減する。 【解決手段】 金属陰極２３は、各素子列の主走査方向
に配列された有機ＥＬ素子２０についての共通電極とさ
れ、透明基板１０上には複数の陰極ライン２３1〜２３m
が走査電極として形成されている。透明陽極２１は、副
走査方向位置が異なる有機ＥＬ素子２０についての共通
電極とされ、透明基板１０上には、複数の陰極ライン２
３1〜２３mと交差し、且つ副走査方向に対して所定角度
θを成すように傾斜させて複数の陽極ライン２１1〜２
１mがデータ電極として形成されている。この陽極ライ
ンの傾斜により、陰極ライン２３1〜２３m間において、
同一の陽極ラインを共通する有機ＥＬ素子２０同士は主
走査方向の位置が互いに異なり、同一の主走査方向の位
置となるのは、互いに異なる陽極ラインを用いる有機Ｅ
Ｌ素子２０同士とすることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置に係わ
り、特に、主走査方向に対応する方向のライン状の走査
電極を副走査方向に複数備えると共に、前記副走査方向
に対応する方向のデータ電極を主走査方向に複数備え、
前記走査電極及び前記データ電極の交差位置に、該走査
電極及び該データ電極による電圧印加を受けて発光する
発光素子が形成された露光装置に関する。
り、特に、主走査方向に対応する方向のライン状の走査
電極を副走査方向に複数備えると共に、前記副走査方向
に対応する方向のデータ電極を主走査方向に複数備え、
前記走査電極及び前記データ電極の交差位置に、該走査
電極及び該データ電極による電圧印加を受けて発光する
発光素子が形成された露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、感光体を露光して画像を記録
する露光装置として、複数の発光素子を主走査方向に配
列したものがある。このような露光装置では、素子毎の
発光光量のバラツキにより画像上に副走査方向に筋ムラ
が発生してしまう。このため、複数の素子列を副走査方
向に配列し、複数の素子列で１主走査ラインを繰り返し
露光することで、素子毎の発光量のバラツキを平均化し
て該筋ムラを解消する技術がある。
する露光装置として、複数の発光素子を主走査方向に配
列したものがある。このような露光装置では、素子毎の
発光光量のバラツキにより画像上に副走査方向に筋ムラ
が発生してしまう。このため、複数の素子列を副走査方
向に配列し、複数の素子列で１主走査ラインを繰り返し
露光することで、素子毎の発光量のバラツキを平均化し
て該筋ムラを解消する技術がある。
【０００３】この場合に、発光素子に所定電圧（又は電
流）を印加して発光させるための一対の電極（陽極及び
陰極）のうち、一方の電極は素子列毎に設け、該素子列
を構成する主走査方向に配列された複数の発光素子で共
通の走査電極とし、他方の電極は素子列毎に設けられた
複数の走査電極と交差するように設け、複数の素子列間
で副走査方向に並んだ複数の発光素子で共通のデータ電
極として用いることがある。
流）を印加して発光させるための一対の電極（陽極及び
陰極）のうち、一方の電極は素子列毎に設け、該素子列
を構成する主走査方向に配列された複数の発光素子で共
通の走査電極とし、他方の電極は素子列毎に設けられた
複数の走査電極と交差するように設け、複数の素子列間
で副走査方向に並んだ複数の発光素子で共通のデータ電
極として用いることがある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術では、同一画素を露光する副走査方向に並んだ複数の
発光素子は同一のデータ電極により電圧が印加されるた
め、データ電極毎にその特性やドライバからの駆動電圧
にばらつきが生じている場合、たとえ各発光素子が均一
に形成されていたとしても、副走査方向に筋ムラが発生
してしまうという問題があった。画素毎の光量やプリン
ト濃度を測定し、素子毎に駆動する電圧（又は電流）値
や露光時間等を調整して露光ばらつきを抑えることも考
えられるが、複雑な制御システムが必要とされ現実的で
はない。
術では、同一画素を露光する副走査方向に並んだ複数の
発光素子は同一のデータ電極により電圧が印加されるた
め、データ電極毎にその特性やドライバからの駆動電圧
にばらつきが生じている場合、たとえ各発光素子が均一
に形成されていたとしても、副走査方向に筋ムラが発生
してしまうという問題があった。画素毎の光量やプリン
ト濃度を測定し、素子毎に駆動する電圧（又は電流）値
や露光時間等を調整して露光ばらつきを抑えることも考
えられるが、複雑な制御システムが必要とされ現実的で
はない。
【０００５】本発明は上記問題点を解消するためになさ
れたもので、データ電極の特性やドライバのバラツキに
起因する副走査方向の筋ムラを低減することができ、且
つ簡単な構成で実現可能な露光装置を提供することを目
的とする。
れたもので、データ電極の特性やドライバのバラツキに
起因する副走査方向の筋ムラを低減することができ、且
つ簡単な構成で実現可能な露光装置を提供することを目
的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に記載の発明は、主走査方向に対応する方
向のライン状の走査電極を副走査方向に複数備えると共
に、前記副走査方向に対応する方向のデータ電極を主走
査方向に複数備え、前記走査電極及び前記データ電極の
交差位置に、該走査電極及び該データ電極による電圧印
加を受けて発光する発光素子が形成された露光装置にお
いて、副走査したときに、異なるデータ電極に形成され
た発光素子による露光位置が略同一位置になるように、
前記複数のデータ電極各々を前記副走査方向に対して所
定の角度を有するように設けた、ことを特徴としてい
る。
に、請求項１に記載の発明は、主走査方向に対応する方
向のライン状の走査電極を副走査方向に複数備えると共
に、前記副走査方向に対応する方向のデータ電極を主走
査方向に複数備え、前記走査電極及び前記データ電極の
交差位置に、該走査電極及び該データ電極による電圧印
加を受けて発光する発光素子が形成された露光装置にお
いて、副走査したときに、異なるデータ電極に形成され
た発光素子による露光位置が略同一位置になるように、
前記複数のデータ電極各々を前記副走査方向に対して所
定の角度を有するように設けた、ことを特徴としてい
る。
【０００７】請求項１に記載の露光装置は、副走査方向
に対応する方向に配列された複数の主走査方向に対応す
る方向にライン状に形成された走査電極と、この複数の
走査電極と交差するように設けられた複数のデータ電極
とを備え、走査電極及びデータ電極の交差位置に、該走
査電極及び該データ電極による電圧印加を受けて発光す
る発光素子が形成されている。より詳しくは、副走査し
たときに、互いに異なるデータ電極に形成された発光素
子による露光位置が略同一位置となるように、複数のデ
ータ電極各々を副走査方向に対して所定の角度を有する
ように設けたことにより、露光の際に副走査すると、異
なるデータ電極に形成された発光素子により同一画素が
繰返し露光（多重露光）されるので、データ電極毎にそ
の特性やドライバからの駆動電圧にばらつきが生じてい
ても、該ばらつきの影響が平均化され、副走査方向の筋
ムラを低減することができる。また、データ電極を副走
査方向に対して傾けて配置するだけでよく複雑な制御シ
ステムも不要である。
に対応する方向に配列された複数の主走査方向に対応す
る方向にライン状に形成された走査電極と、この複数の
走査電極と交差するように設けられた複数のデータ電極
とを備え、走査電極及びデータ電極の交差位置に、該走
査電極及び該データ電極による電圧印加を受けて発光す
る発光素子が形成されている。より詳しくは、副走査し
たときに、互いに異なるデータ電極に形成された発光素
子による露光位置が略同一位置となるように、複数のデ
ータ電極各々を副走査方向に対して所定の角度を有する
ように設けたことにより、露光の際に副走査すると、異
なるデータ電極に形成された発光素子により同一画素が
繰返し露光（多重露光）されるので、データ電極毎にそ
の特性やドライバからの駆動電圧にばらつきが生じてい
ても、該ばらつきの影響が平均化され、副走査方向の筋
ムラを低減することができる。また、データ電極を副走
査方向に対して傾けて配置するだけでよく複雑な制御シ
ステムも不要である。
【０００８】なお、上記の露光装置においては、前記走
査電極を前記主走査方向に対して所定の角度を有するよ
うに設けてもよい。
査電極を前記主走査方向に対して所定の角度を有するよ
うに設けてもよい。
【０００９】また、上記の露光装置においては、発光素
子として、有機電界発光素子、又は無機電界発光素子、
又は発光機能を有する液晶素子を用いることができる。
子として、有機電界発光素子、又は無機電界発光素子、
又は発光機能を有する液晶素子を用いることができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】次に、図面を参照して本発明に係
る実施形態の１例を詳細に説明する。 ＜第１の実施の形態＞図１に示すように、第１の実施の
形態に係る露光装置１は、透明基板１０と、透明基板１
０上に蒸着により形成された有機ＥＬ素子２０と、有機
ＥＬ素子２０の発光する光を集光して感光体４０に照射
させるセルフォックレンズアレイ（以下、「ＳＬＡ」と
いう）３０と、透明基板１０やＳＬＡ３０を支持する支
持体５０とを備えている。
る実施形態の１例を詳細に説明する。 ＜第１の実施の形態＞図１に示すように、第１の実施の
形態に係る露光装置１は、透明基板１０と、透明基板１
０上に蒸着により形成された有機ＥＬ素子２０と、有機
ＥＬ素子２０の発光する光を集光して感光体４０に照射
させるセルフォックレンズアレイ（以下、「ＳＬＡ」と
いう）３０と、透明基板１０やＳＬＡ３０を支持する支
持体５０とを備えている。
【００１１】有機ＥＬ素子２０は、透明基板１０上に、
透明陽極２１、発光層を含む有機化合物層２２、金属陰
極２３が順次蒸着により積層されて形成されている。こ
の有機ＥＬ素子２０は、例えば図１に示すステンレス製
缶等の封止部材６０により覆われている。封止部材６０
の縁部と透明基板１０とは接着されて、乾燥窒素ガスで
置換された封止部材６０内に有機ＥＬ素子２０が封止さ
れている。この有機ＥＬ素子２０の透明陽極２１と金属
陰極２３との間に所定電圧が印加されると、有機化合物
層２２に含まれる発光層が発光し、発光光が透明陽極２
１及び透明基板１０を介して取り出される。なお、有機
ＥＬ素子２０は、波長安定性に優れる特性がある。
透明陽極２１、発光層を含む有機化合物層２２、金属陰
極２３が順次蒸着により積層されて形成されている。こ
の有機ＥＬ素子２０は、例えば図１に示すステンレス製
缶等の封止部材６０により覆われている。封止部材６０
の縁部と透明基板１０とは接着されて、乾燥窒素ガスで
置換された封止部材６０内に有機ＥＬ素子２０が封止さ
れている。この有機ＥＬ素子２０の透明陽極２１と金属
陰極２３との間に所定電圧が印加されると、有機化合物
層２２に含まれる発光層が発光し、発光光が透明陽極２
１及び透明基板１０を介して取り出される。なお、有機
ＥＬ素子２０は、波長安定性に優れる特性がある。
【００１２】透明陽極２１は、４００ｎｍ〜７００ｎｍ
の可視光の波長領域において、少なくとも５０パーセン
ト以上、好ましくは７０パーセント以上の光透過率を有
するものが好ましい。透明陽極２１を構成するための材
料としては、酸化錫、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）、酸
化亜鉛インジウムなどの透明電極材料として公知の化合
物のほか、金や白金など仕事関数が大きい金属からなる
薄膜を用いてもよい。また、ポリアニリン、ポリチオフ
ェン、ポリピロールまたはこれらの誘導体などの有機化
合物でもよい。透明導電膜については、沢田豊監修「透
明導電膜の新展開」シーエムシー刊（１９９９年）に詳
細に記載されており、本発明に適用することができる。
また、透明陽極２１は、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレーティング法などにより、透明基板１０
上に形成することができる。
の可視光の波長領域において、少なくとも５０パーセン
ト以上、好ましくは７０パーセント以上の光透過率を有
するものが好ましい。透明陽極２１を構成するための材
料としては、酸化錫、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）、酸
化亜鉛インジウムなどの透明電極材料として公知の化合
物のほか、金や白金など仕事関数が大きい金属からなる
薄膜を用いてもよい。また、ポリアニリン、ポリチオフ
ェン、ポリピロールまたはこれらの誘導体などの有機化
合物でもよい。透明導電膜については、沢田豊監修「透
明導電膜の新展開」シーエムシー刊（１９９９年）に詳
細に記載されており、本発明に適用することができる。
また、透明陽極２１は、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレーティング法などにより、透明基板１０
上に形成することができる。
【００１３】有機化合物層２２は、発光層のみからなる
単層構造であってもよいし、発光層の外に、ホール注入
層、ホール輸送層、電子注入層、電子輸送層等のその他
の層を適宜有する積層構造であってもよい。有機化合物
層２２の具体的な構成（電極を含む）としては、陽極／
ホール注入層／ホール輸送層／発光層／電子輸送層／陰
極、陽極／発光層／電子輸送層／陰極、陽極／ホール輸
送層／発光層／電子輸送層／陰極などが挙げられる。ま
た、発光層、ホール輸送層、ホール注入層、電子注入層
を複数設けてもよい。
単層構造であってもよいし、発光層の外に、ホール注入
層、ホール輸送層、電子注入層、電子輸送層等のその他
の層を適宜有する積層構造であってもよい。有機化合物
層２２の具体的な構成（電極を含む）としては、陽極／
ホール注入層／ホール輸送層／発光層／電子輸送層／陰
極、陽極／発光層／電子輸送層／陰極、陽極／ホール輸
送層／発光層／電子輸送層／陰極などが挙げられる。ま
た、発光層、ホール輸送層、ホール注入層、電子注入層
を複数設けてもよい。
【００１４】金属陰極２３は、仕事関数の低いＬｉ、Ｋ
などのアルカリ金属、Ｍｇ、Ｃａなどのアルカリ土類金
属、及びこれらの金属とＡｇやＡｌなどとの合金や混合
物等の金属材料から形成されるのが好ましい。陰極にお
ける保存安定性と電子注入性とを両立させるために、上
記材料で形成した電極を仕事関数が大きく導電性の高い
Ａｇ、Ａｌ、Ａｕなどで更に被覆してもよい。なお、金
属陰極２３も透明陽極２１と同様に、真空蒸着法、スパ
ッタ法、イオンプレーティング法などの公知の方法で形
成することができる。
などのアルカリ金属、Ｍｇ、Ｃａなどのアルカリ土類金
属、及びこれらの金属とＡｇやＡｌなどとの合金や混合
物等の金属材料から形成されるのが好ましい。陰極にお
ける保存安定性と電子注入性とを両立させるために、上
記材料で形成した電極を仕事関数が大きく導電性の高い
Ａｇ、Ａｌ、Ａｕなどで更に被覆してもよい。なお、金
属陰極２３も透明陽極２１と同様に、真空蒸着法、スパ
ッタ法、イオンプレーティング法などの公知の方法で形
成することができる。
【００１５】ＳＬＡ３０は、複数のセルフォックレンズ
で構成されている。セルフォックレンズは、断面の半径
方向に屈折率分布をもつ棒状の厚肉レンズである。セル
フォックレンズに入射された光は、光軸に対して正弦波
状に蛇行しながら進行し、感光体４０表面上で結像して
露光スポット７０を結ぶように感光体４０に向けて出力
される。
で構成されている。セルフォックレンズは、断面の半径
方向に屈折率分布をもつ棒状の厚肉レンズである。セル
フォックレンズに入射された光は、光軸に対して正弦波
状に蛇行しながら進行し、感光体４０表面上で結像して
露光スポット７０を結ぶように感光体４０に向けて出力
される。
【００１６】次に、透明陽極及び金属陰極の配置につい
て説明する。図２に示すように、透明基板１０上には、
主走査方向に複数の有機ＥＬ素子２０を配列した素子列
を副走査方向に所定間隔隔てて複数配列した素子列郡２
４が構成されるように各有機ＥＬ素子２０が配置されて
いる。
て説明する。図２に示すように、透明基板１０上には、
主走査方向に複数の有機ＥＬ素子２０を配列した素子列
を副走査方向に所定間隔隔てて複数配列した素子列郡２
４が構成されるように各有機ＥＬ素子２０が配置されて
いる。
【００１７】金属陰極２３は、各素子列の主走査方向に
配列された有機ＥＬ素子２０についての共通電極とさ
れ、透明基板１０上には有機ＥＬ素子の配置レイアウト
に応じて、主走査方向にライン状に形成された複数の陰
極ライン２３1〜２３mが副走査方向に所定間隔隔てて形
成されている。一方、透明陽極２１は、副走査方向位置
が異なる有機ＥＬ素子２０についての共通電極とされ、
透明基板１０上には有機ＥＬ素子の配置レイアウトに応
じて、複数の陰極ライン２３1〜２３mと交差するように
複数の陽極ライン２１1〜２１nが主走査方向に所定間隔
隔てて形成されている。
配列された有機ＥＬ素子２０についての共通電極とさ
れ、透明基板１０上には有機ＥＬ素子の配置レイアウト
に応じて、主走査方向にライン状に形成された複数の陰
極ライン２３1〜２３mが副走査方向に所定間隔隔てて形
成されている。一方、透明陽極２１は、副走査方向位置
が異なる有機ＥＬ素子２０についての共通電極とされ、
透明基板１０上には有機ＥＬ素子の配置レイアウトに応
じて、複数の陰極ライン２３1〜２３mと交差するように
複数の陽極ライン２１1〜２１nが主走査方向に所定間隔
隔てて形成されている。
【００１８】なお、本実施の形態では、各陰極ライン２
３1〜２３mが走査電極、各陽極ライン２１1〜２１mがデ
ータ電極に対応するように金属陰極２３及び透明陽極２
１を形成した場合を例に用いたが、逆に、陽極ラインを
走査電極、陰極ラインをデータ電極とするように形成し
てもよい。
３1〜２３mが走査電極、各陽極ライン２１1〜２１mがデ
ータ電極に対応するように金属陰極２３及び透明陽極２
１を形成した場合を例に用いたが、逆に、陽極ラインを
走査電極、陰極ラインをデータ電極とするように形成し
てもよい。
【００１９】これらの陽極ライン２１1〜２１nと陰極ラ
イン２３1〜２３mとの間に電圧が印加されると、陽極ラ
イン２１1〜２１nと陰極ライン２３1〜２３mとが交差す
る部分に積層された有機化合物層２２に含まれる発光層
から発光し、この発光光が透明基板１０側から取り出さ
れる。
イン２３1〜２３mとの間に電圧が印加されると、陽極ラ
イン２１1〜２１nと陰極ライン２３1〜２３mとが交差す
る部分に積層された有機化合物層２２に含まれる発光層
から発光し、この発光光が透明基板１０側から取り出さ
れる。
【００２０】ここで、陽極ライン２１1〜２１nは、より
詳しくは、副走査方向に対して所定角度θを成すように
傾斜して形成されており、陰極ライン２３1〜２３m間に
おいて、同一の陽極ラインを共通する有機ＥＬ素子２０
同士は主走査方向の位置が互いに異なり、主走査方向の
位置が略同一になるのは、互いに異なる陽極ラインを用
いる有機ＥＬ素子２０同士とされている。すなわち、副
走査したときに、互いに異なる陽極ラインを用いる有機
ＥＬ素子２０の露光位置が略同一となるようになってい
る。また、陽極ライン２１1〜２１nは、１主走査ライン
を構成する各画素と１対１に対応するように設けられて
おり、陰極ライン２３1〜２３m各々を共通に用いた有機
ＥＬ素子２０で構成された各素子列で１主走査ラインを
隙間なく露光するようになっている。
詳しくは、副走査方向に対して所定角度θを成すように
傾斜して形成されており、陰極ライン２３1〜２３m間に
おいて、同一の陽極ラインを共通する有機ＥＬ素子２０
同士は主走査方向の位置が互いに異なり、主走査方向の
位置が略同一になるのは、互いに異なる陽極ラインを用
いる有機ＥＬ素子２０同士とされている。すなわち、副
走査したときに、互いに異なる陽極ラインを用いる有機
ＥＬ素子２０の露光位置が略同一となるようになってい
る。また、陽極ライン２１1〜２１nは、１主走査ライン
を構成する各画素と１対１に対応するように設けられて
おり、陰極ライン２３1〜２３m各々を共通に用いた有機
ＥＬ素子２０で構成された各素子列で１主走査ラインを
隙間なく露光するようになっている。
【００２１】以上のように構成された露光装置１におい
ては、有機ＥＬ素子２０の発光光はＳＬＡ３０によって
集光されて感光体４０に照射され、同一の陰極ラインを
共通に用いた有機ＥＬ素子２０で構成された素子列で１
主走査ラインを露光すると共に、露光装置１を感光体４
０に対して副走査方向に相対移動して、該主走査ライン
を異なる素子列により多重露光する。このとき、主走査
ライン中の各画素については、陽極ライン２１1〜２１n
を副走査方向に対して傾斜して設けたことにより、互い
に異なる陽極ラインを用いた有機ＥＬ素子２０により多
重露光される。
ては、有機ＥＬ素子２０の発光光はＳＬＡ３０によって
集光されて感光体４０に照射され、同一の陰極ラインを
共通に用いた有機ＥＬ素子２０で構成された素子列で１
主走査ラインを露光すると共に、露光装置１を感光体４
０に対して副走査方向に相対移動して、該主走査ライン
を異なる素子列により多重露光する。このとき、主走査
ライン中の各画素については、陽極ライン２１1〜２１n
を副走査方向に対して傾斜して設けたことにより、互い
に異なる陽極ラインを用いた有機ＥＬ素子２０により多
重露光される。
【００２２】このように、異なる陰極ラインを用いた複
数の素子列で１主走査ラインが多重露光されるので、有
機ＥＬ素子２０毎のばらつきの影響を低減することがで
きると共に、この多重露光の際に、異なる陽極ラインを
用いた有機ＥＬ素子２０により同一画素が露光されるの
で、陽極ライン（データ電極）の特性やドライバのバラ
ツキに起因する副走査方向の筋ムラを低減することがで
きる。また、陽極ライン（データ電極）を副走査方向に
対して所定角度θだけ傾けて配置するだけでよく、複雑
な制御システムも必要としない。
数の素子列で１主走査ラインが多重露光されるので、有
機ＥＬ素子２０毎のばらつきの影響を低減することがで
きると共に、この多重露光の際に、異なる陽極ラインを
用いた有機ＥＬ素子２０により同一画素が露光されるの
で、陽極ライン（データ電極）の特性やドライバのバラ
ツキに起因する副走査方向の筋ムラを低減することがで
きる。また、陽極ライン（データ電極）を副走査方向に
対して所定角度θだけ傾けて配置するだけでよく、複雑
な制御システムも必要としない。
【００２３】なお、本実施の形態は、陽極ライン２１1
〜２１nを副走査方向に対して傾斜して設けて、互いに
異なる陰極ライン間で、互いに異なる陽極ラインを用い
る有機ＥＬ素子２０同士が同一の主走査方向に位置とす
ることが本質であり、上記構成に限定されるものではな
い。例えば、上記では、陽極ライン２１1〜２１nを、１
主走査ラインを構成する各画素と１対１に対応するよう
に設けた場合を例に説明したが、本発明はこれに限定さ
れるものではない。例えば、図３に示すように、副走査
方向に対して所定角度θだけ傾斜させた陽極ライン間の
間隔を図２の２倍にし、２画素毎に１本の陽極ラインを
設けて、陰極ライン２３2k-1（ｋ：１以上の整数）を用
いた有機ＥＬ素子２０で構成された素子列で、陰極ライ
ン２３2kを用いた有機ＥＬ素子２０で構成された素子列
による露光スポット間を埋めるようにし、２本の素子列
で１主走査ラインを補間し合って隙間なく露光するよう
にしてもよい。この場合、陰極ライン２３2k-1及び陰極
ライン２３2k+1を用いた素子列で同一画素を多重露光
し、陰極ライン２３2k-1及び陰極ライン２３2k+1を用い
た素子列で同一画素を多重露光するが、各陰極ラインに
おいて同一画素を露光する有機ＥＬ素子の陽極ラインが
異なることは言うまでもない。
〜２１nを副走査方向に対して傾斜して設けて、互いに
異なる陰極ライン間で、互いに異なる陽極ラインを用い
る有機ＥＬ素子２０同士が同一の主走査方向に位置とす
ることが本質であり、上記構成に限定されるものではな
い。例えば、上記では、陽極ライン２１1〜２１nを、１
主走査ラインを構成する各画素と１対１に対応するよう
に設けた場合を例に説明したが、本発明はこれに限定さ
れるものではない。例えば、図３に示すように、副走査
方向に対して所定角度θだけ傾斜させた陽極ライン間の
間隔を図２の２倍にし、２画素毎に１本の陽極ラインを
設けて、陰極ライン２３2k-1（ｋ：１以上の整数）を用
いた有機ＥＬ素子２０で構成された素子列で、陰極ライ
ン２３2kを用いた有機ＥＬ素子２０で構成された素子列
による露光スポット間を埋めるようにし、２本の素子列
で１主走査ラインを補間し合って隙間なく露光するよう
にしてもよい。この場合、陰極ライン２３2k-1及び陰極
ライン２３2k+1を用いた素子列で同一画素を多重露光
し、陰極ライン２３2k-1及び陰極ライン２３2k+1を用い
た素子列で同一画素を多重露光するが、各陰極ラインに
おいて同一画素を露光する有機ＥＬ素子の陽極ラインが
異なることは言うまでもない。
【００２４】このように所定画素毎に陽極ラインを設け
る場合の陽極ラインの副走査方向に対する傾斜角度θ
は、有機ＥＬ素子２０の配置レイアウトに応じて適宜設
定すればよく、陽極ラインをｊ画素毎（ｊ：１以上の整
数）に設け、複数本の素子列で１主走査ラインを補間し
合って隙間なく露光する場合、有機ＥＬ素子２０の主走
査方向の配列ピッチ（陽極ラインの配列ピッチに対応）
をｐｘ、（副走査方向の配列ピッチ（陰極ラインの配列
ピッチに対応）をｐｙとして、ｔａｎθ＝ｐｘ／（ｊ×
ｐｙ）を満たすように設定される。
る場合の陽極ラインの副走査方向に対する傾斜角度θ
は、有機ＥＬ素子２０の配置レイアウトに応じて適宜設
定すればよく、陽極ラインをｊ画素毎（ｊ：１以上の整
数）に設け、複数本の素子列で１主走査ラインを補間し
合って隙間なく露光する場合、有機ＥＬ素子２０の主走
査方向の配列ピッチ（陽極ラインの配列ピッチに対応）
をｐｘ、（副走査方向の配列ピッチ（陰極ラインの配列
ピッチに対応）をｐｙとして、ｔａｎθ＝ｐｘ／（ｊ×
ｐｙ）を満たすように設定される。
【００２５】なお、有機ＥＬ素子の主走査方向の配列ピ
ッチｐｘは、有機ＥＬ素子の主走査方向寸法の整数倍で
ある必要はなく、画質に影響を与えない範囲であれば、
異なる素子列で１主走査ラインを補間しあって露光する
際に、互いの露光スポットの一部が重なるようにしても
よいし、或いは互いの露光スポット間に若干の隙間があ
ってもよい。また、有機ＥＬ素子の副走査方向の配列ピ
ッチｐｙについては、露光装置を感光体に対して副走査
方向に相対的に移動させるときの移動量で副走査方向の
画像解像度を調整可能であるので、任意に設定可能であ
る。
ッチｐｘは、有機ＥＬ素子の主走査方向寸法の整数倍で
ある必要はなく、画質に影響を与えない範囲であれば、
異なる素子列で１主走査ラインを補間しあって露光する
際に、互いの露光スポットの一部が重なるようにしても
よいし、或いは互いの露光スポット間に若干の隙間があ
ってもよい。また、有機ＥＬ素子の副走査方向の配列ピ
ッチｐｙについては、露光装置を感光体に対して副走査
方向に相対的に移動させるときの移動量で副走査方向の
画像解像度を調整可能であるので、任意に設定可能であ
る。
【００２６】また、上記では、陽極ライン陽極ライン２
１1〜２１nを陰極ライン２３1〜２３mに渡って副走査方
向に対する傾斜角度θを一定にして設けた場合を例に説
明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例
えば、図４に示すように、陰極ラインと交差する毎に陽
極ライン２１1〜２１nの副走査方向に対する傾斜方向を
切り替えて、副走査方向に対してθ1、θ2だけ傾斜した
構成が繰り返されるように、陽極ライン２１1〜２１nを
ジグザグに配列してもよい。
１1〜２１nを陰極ライン２３1〜２３mに渡って副走査方
向に対する傾斜角度θを一定にして設けた場合を例に説
明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例
えば、図４に示すように、陰極ラインと交差する毎に陽
極ライン２１1〜２１nの副走査方向に対する傾斜方向を
切り替えて、副走査方向に対してθ1、θ2だけ傾斜した
構成が繰り返されるように、陽極ライン２１1〜２１nを
ジグザグに配列してもよい。
【００２７】＜第２の実施の形態＞なお、本発明は、上
述した第１の実施の形態に限定されず、以下に示す構成
であってもよい。なお、以下の説明では、上述した部位
と同じ部位には同一の符号を付し、また重複する説明に
ついては省略する。
述した第１の実施の形態に限定されず、以下に示す構成
であってもよい。なお、以下の説明では、上述した部位
と同じ部位には同一の符号を付し、また重複する説明に
ついては省略する。
【００２８】図５に示すように、第２の実施の形態に係
わる露光装置は、第１の実施の形態で説明した露光装置
において、陰極ライン２３1〜２３mを主走査方向に対し
て所定角度θを成すように傾斜して形成したものであ
る。このような露光装置は、例えば、走査電極としての
陰極ライン２３1〜２３mに対して、データ電極としての
陽極ライン２１1〜２１nとが直交するように形成すると
共に、陽極ラインが副操作方向に対して所定角度θだけ
傾斜させるために、陰極ラインおよび陽極ラインの全体
が回転角度θだけ回転することで構成することができ
る。なお、図５では、一例として、陽極ライン２１1〜
２１nを互いに間隔を設けて２画素毎に１本の陽極ライ
ンを配置した場合を示しているが、１主走査ラインを構
成する各画素と１対１に設けてもよい。
わる露光装置は、第１の実施の形態で説明した露光装置
において、陰極ライン２３1〜２３mを主走査方向に対し
て所定角度θを成すように傾斜して形成したものであ
る。このような露光装置は、例えば、走査電極としての
陰極ライン２３1〜２３mに対して、データ電極としての
陽極ライン２１1〜２１nとが直交するように形成すると
共に、陽極ラインが副操作方向に対して所定角度θだけ
傾斜させるために、陰極ラインおよび陽極ラインの全体
が回転角度θだけ回転することで構成することができ
る。なお、図５では、一例として、陽極ライン２１1〜
２１nを互いに間隔を設けて２画素毎に１本の陽極ライ
ンを配置した場合を示しているが、１主走査ラインを構
成する各画素と１対１に設けてもよい。
【００２９】このように、陰極ラインおよび陽極ライン
の全体を回転させて、陽極ラインが副操作方向に対して
所定角度θだけ傾斜させることによっても、第１の実施
の形態と同様に、異なる陰極ラインを用いた複数の素子
列で１主走査ラインが多重露光されるので、有機ＥＬ素
子毎のばらつきの影響を低減することができると共に、
この多重露光の際に、異なる陽極ラインを用いた有機Ｅ
Ｌ素子により同一画素が露光されるので、陽極ライン
（データ電極）の特性やドライバのバラツキに起因する
副走査方向の筋ムラを低減することができる。
の全体を回転させて、陽極ラインが副操作方向に対して
所定角度θだけ傾斜させることによっても、第１の実施
の形態と同様に、異なる陰極ラインを用いた複数の素子
列で１主走査ラインが多重露光されるので、有機ＥＬ素
子毎のばらつきの影響を低減することができると共に、
この多重露光の際に、異なる陽極ラインを用いた有機Ｅ
Ｌ素子により同一画素が露光されるので、陽極ライン
（データ電極）の特性やドライバのバラツキに起因する
副走査方向の筋ムラを低減することができる。
【００３０】なお、上記第１及び第２の実施の形態で
は、１つの素子列郡のみを備えている露光装置を例に示
したが、複数の素子列郡を備えてもよい。例えば、図６
のように、２つの素子列郡２４Ａ、２５Ｂを主走査方向
にｐｘ／２だけずらして配置すれば、各素子列郡におい
て上記と同様に同一画素を多重露光すると共に、素子列
郡２４Ａによる露光スポット間の隙間を素子列郡２４Ｂ
で埋めるように露光でき、より高解像度の画像形成が可
能となる。
は、１つの素子列郡のみを備えている露光装置を例に示
したが、複数の素子列郡を備えてもよい。例えば、図６
のように、２つの素子列郡２４Ａ、２５Ｂを主走査方向
にｐｘ／２だけずらして配置すれば、各素子列郡におい
て上記と同様に同一画素を多重露光すると共に、素子列
郡２４Ａによる露光スポット間の隙間を素子列郡２４Ｂ
で埋めるように露光でき、より高解像度の画像形成が可
能となる。
【００３１】また、上記では、同一色の発光光を出力す
る１種類の有機ＥＬ素子２０のみを用いる場合を前提に
説明したが、複数の発光光を出力する複数種類の有機Ｅ
Ｌ素子を用いてもよい。例えば、図７に示すように、赤
（Ｒ）の発光光を出力する有機ＥＬ素子２０Ｒで構成さ
れた素子列郡２４Ｒ、緑（Ｇ）の発光光を出力する有機
ＥＬ素子２０Ｇで構成された素子列郡２４Ｇ、青（Ｂ）
の発光光を出力する有機ＥＬ素子２０Ｂで構成された素
子列郡２４Ｂを同一透明基盤上に形成すれば、カラー画
像形成に対応可能となる。なお、ＲＧＢ以外の色（或い
は波長）の発光光を出力する有機ＥＬ素子を用いてもよ
い。
る１種類の有機ＥＬ素子２０のみを用いる場合を前提に
説明したが、複数の発光光を出力する複数種類の有機Ｅ
Ｌ素子を用いてもよい。例えば、図７に示すように、赤
（Ｒ）の発光光を出力する有機ＥＬ素子２０Ｒで構成さ
れた素子列郡２４Ｒ、緑（Ｇ）の発光光を出力する有機
ＥＬ素子２０Ｇで構成された素子列郡２４Ｇ、青（Ｂ）
の発光光を出力する有機ＥＬ素子２０Ｂで構成された素
子列郡２４Ｂを同一透明基盤上に形成すれば、カラー画
像形成に対応可能となる。なお、ＲＧＢ以外の色（或い
は波長）の発光光を出力する有機ＥＬ素子を用いてもよ
い。
【００３２】また、上記では、有機ＥＬ素子２０の発光
部形状は陰極ラインと陽極ラインの交差領域の形状によ
って定まり、露光スポットの形状もこの交差領域の形状
に依存してしまう。このため、図８に示すように、透明
陽極２１と有機化合物層２２との間に、二酸化ケイ素な
どの電気絶縁性を有する材料を薄膜形成して絶縁層２５
を設け、この絶縁層２５をフォトリソグラフィーにより
パターニングして正方形など所望の形状の開口部を形成
して、有機ＥＬ素子２０の発光部形状を所望の形状と
し、露光スポットの形状を制御してもよい。なお、絶縁
層２５は、有機化合物層２２と金属陰極２３との間に設
けてもよい。また、図６に示すように、透明基板１０と
透明陽極２１との間に、所望の形状の開口を有するマス
クを用いる等して、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｒ等の金属、或いは
光を遮る機能を有する材料による遮光層２６を形成して
も同様の効果がある。なお、遮光層２６は、透明陽極２
１と有機化合物層２２との間、或いは有機化合物層２２
と金属陰極２３との間、或いは、有機ＥＬ素子形成面と
対向する透明基板１０の表面に設けてもよい。また、有
機発光層２６を形成する際に、所望形状の開口を有する
マスクを用いるなどして、有機発光層２６の形状を所望
形状にしてもよい。
部形状は陰極ラインと陽極ラインの交差領域の形状によ
って定まり、露光スポットの形状もこの交差領域の形状
に依存してしまう。このため、図８に示すように、透明
陽極２１と有機化合物層２２との間に、二酸化ケイ素な
どの電気絶縁性を有する材料を薄膜形成して絶縁層２５
を設け、この絶縁層２５をフォトリソグラフィーにより
パターニングして正方形など所望の形状の開口部を形成
して、有機ＥＬ素子２０の発光部形状を所望の形状と
し、露光スポットの形状を制御してもよい。なお、絶縁
層２５は、有機化合物層２２と金属陰極２３との間に設
けてもよい。また、図６に示すように、透明基板１０と
透明陽極２１との間に、所望の形状の開口を有するマス
クを用いる等して、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｒ等の金属、或いは
光を遮る機能を有する材料による遮光層２６を形成して
も同様の効果がある。なお、遮光層２６は、透明陽極２
１と有機化合物層２２との間、或いは有機化合物層２２
と金属陰極２３との間、或いは、有機ＥＬ素子形成面と
対向する透明基板１０の表面に設けてもよい。また、有
機発光層２６を形成する際に、所望形状の開口を有する
マスクを用いるなどして、有機発光層２６の形状を所望
形状にしてもよい。
【００３３】また、上記では、発光素子として有機ＥＬ
素子を用いた場合を例に説明したが、無機ＥＬ素子を用
いてもよい。また、本発明は、発光素子として発光機能
を有する液晶素子を用いた露光装置にも容易に適用可能
である。
素子を用いた場合を例に説明したが、無機ＥＬ素子を用
いてもよい。また、本発明は、発光素子として発光機能
を有する液晶素子を用いた露光装置にも容易に適用可能
である。
【００３４】
【発明の効果】上記に示したように、本発明は、データ
電極の特性やドライバのバラツキに起因する副走査方向
の筋ムラを低減することができ、且つ簡単な構成で実現
できるという優れた効果を有する。
電極の特性やドライバのバラツキに起因する副走査方向
の筋ムラを低減することができ、且つ簡単な構成で実現
できるという優れた効果を有する。
【図１】 本発明の第１の実施の形態に係わる露光装置
の構成を示す断面図である。
の構成を示す断面図である。
【図２】 本発明の第１の実施の形態に係る露光装置の
有機ＥＬ素子、及び電極の配置関係を模式的に表す平面
図である。
有機ＥＬ素子、及び電極の配置関係を模式的に表す平面
図である。
【図３】 本発明の第１の実施の形態に係る有機ＥＬ素
子、及び電極の配置関係の別の一例を模式的に表す平面
図である。
子、及び電極の配置関係の別の一例を模式的に表す平面
図である。
【図４】 本発明の第１の実施の形態に係る有機ＥＬ素
子、及び電極の配置関係の別の一例を模式的に表す平面
図である。
子、及び電極の配置関係の別の一例を模式的に表す平面
図である。
【図５】 本発明の第２の実施の形態に係る露光装置の
有機ＥＬ素子、及び電極の配置関係を模式的に表す平面
図である。
有機ＥＬ素子、及び電極の配置関係を模式的に表す平面
図である。
【図６】 本発明のその他の実施の形態に係わる露光装
置の複数の素子列郡を有する場合の有機ＥＬ素子、及び
電極の配置関係を模式的に表す平面図である。
置の複数の素子列郡を有する場合の有機ＥＬ素子、及び
電極の配置関係を模式的に表す平面図である。
【図７】 本発明のその他の実施の形態に係わる露光装
置の複数の素子列郡を有する場合の有機ＥＬ素子、及び
電極の配置関係を模式的に表す平面図である。
置の複数の素子列郡を有する場合の有機ＥＬ素子、及び
電極の配置関係を模式的に表す平面図である。
【図８】 透明陽極と有機化合物層の間に絶縁層を装荷
して各有機ＥＬ素子を所望の形状（矩形）に形成した場
合を示す透明基板の上面図（Ａ）及び露光装置の断面図
（Ｂ）である。
して各有機ＥＬ素子を所望の形状（矩形）に形成した場
合を示す透明基板の上面図（Ａ）及び露光装置の断面図
（Ｂ）である。
【図９】 透明基板と透明陽極の間に遮光層を形成して
各有機ＥＬ素子を所望の形状（矩形）に形成した場合を
示す露光装置の断面図である。
各有機ＥＬ素子を所望の形状（矩形）に形成した場合を
示す露光装置の断面図である。
１ 露光装置
１０ 透明基板
２０、２０Ｒ、２０Ｇ、２０Ｂ 有機ＥＬ素子
２１ 透明陽極
２２ 有機化合物層
２３ 金属陰極
２４、２４Ａ、２４Ｂ、２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂ 素
子列郡 ２５ 絶縁層 ２６ 遮光層 ４０ 感光体
子列郡 ２５ 絶縁層 ２６ 遮光層 ４０ 感光体
Claims (3)
- 【請求項１】 主走査方向に対応する方向のライン状の
走査電極を副走査方向に複数備えると共に、前記副走査
方向に対応する方向のデータ電極を主走査方向に複数備
え、前記走査電極及び前記データ電極の交差位置に、該
走査電極及び該データ電極による電圧印加を受けて発光
する発光素子が形成された露光装置において、 副走査したときに、異なるデータ電極に形成された発光
素子による露光位置が略同一位置になるように、前記複
数のデータ電極各々を前記副走査方向に対して所定の角
度を有するように設けた、 ことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記走査電極を前記主走査方向に対して
所定の角度を有するように設けた、 ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。 - 【請求項３】 前記発光素子が、有機電界発光素子、又
は無機電界発光素子、又は発光機能を有する液晶素子で
ある、 ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の露光装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001380449A JP2003182137A (ja) | 2001-12-13 | 2001-12-13 | 露光装置 |
| US10/318,388 US6781617B2 (en) | 2001-12-13 | 2002-12-13 | Exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001380449A JP2003182137A (ja) | 2001-12-13 | 2001-12-13 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003182137A true JP2003182137A (ja) | 2003-07-03 |
Family
ID=27591506
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001380449A Pending JP2003182137A (ja) | 2001-12-13 | 2001-12-13 | 露光装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6781617B2 (ja) |
| JP (1) | JP2003182137A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7564474B2 (en) | 2004-08-04 | 2009-07-21 | Seiko Epson Corporation | Line head module and image forming apparatus |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005161694A (ja) * | 2003-12-03 | 2005-06-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
| WO2007092886A2 (en) | 2006-02-08 | 2007-08-16 | Hill-Rom Services, Inc. | User module for a patient support |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11188912A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Noritsu Koki Co Ltd | 露光用プリントヘッドの発光状態検査方法 |
| JP4233196B2 (ja) * | 2000-06-14 | 2009-03-04 | 富士フイルム株式会社 | 露光装置 |
| US6538682B2 (en) * | 2000-12-28 | 2003-03-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Exposure device |
-
2001
- 2001-12-13 JP JP2001380449A patent/JP2003182137A/ja active Pending
-
2002
- 2002-12-13 US US10/318,388 patent/US6781617B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7564474B2 (en) | 2004-08-04 | 2009-07-21 | Seiko Epson Corporation | Line head module and image forming apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20030146969A1 (en) | 2003-08-07 |
| US6781617B2 (en) | 2004-08-24 |
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