JP2006040960A - 磁気ランダムアクセスメモリ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 磁気ランダムアクセスメモリは、記録層30と固定層10と記録層及び固定層間に設けられた中間非磁性層20とを有する磁気抵抗素子1を備えた磁気ランダムアクセスメモリである。記録層は、中間非磁性層上に形成された第1の強磁性層31と、第1の強磁性層上に形成された第1の非磁性層32と、第1の非磁性層上に形成され、第1の非磁性層を介して第1の強磁性層と第1の磁気結合により磁気的に結合する第2の強磁性層33と、第2の強磁性層上に形成された第2の非磁性層34と、第2の非磁性層上に形成され、第2の非磁性層を介して第2の強磁性層と第2の磁気結合により磁気的に結合する第3の強磁性層35とを具備する。第1の磁気結合が反強磁性結合であり、かつ第2の磁気結合が強磁性結合である場合、又は、第1の磁気結合が強磁性結合であり、かつ第2の磁気結合が反強磁性結合である場合のどちらかである。
【選択図】 図1
Description
第1の実施形態は、磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM:Magnetic Random Access Memory)において記憶素子として機能するMTJ(Magnetic Tunneling Junction)素子(磁気抵抗素子)の記録層が3層の強磁性層で形成されたものである。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリのMTJ素子の断面図を示す。図2及び図3は、本発明の第1の実施形態に係るMTJ素子を構成する記録層の磁気結合状態の模式図を示す。以下に、本発明の第1の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリのMTJ素子の概要について説明する。
図4は、本発明の第1の実施形態に係るMTJ素子において、記録層をNiFe/Ru/NiFe構造にした場合のRuの膜厚と交換結合エネルギーとの関係を示す。図5は、本発明の第1の実施形態に係るMTJ素子において、Cuの膜厚と交換結合エネルギーとの関係を示す。以下に、本発明の第1の実施形態に係るMTJ素子を構成する各層の材料について説明する。
第1及び第2の非磁性層32,34は、例えば、Cu,Ag,Au,Pt,Pd,Ta,Os,Re,Ru,Ir,Rh等のいずれかで形成するか、又はこれらを含む合金で形成することが望ましい。
固定層10及び第1乃至第3の強磁性層31,33,35は、例えば、NiFe,CoFe等で形成されている。この他、固定層10及び第1乃至第3の強磁性層31,33,35は、Fe,Co,Ni又はそれらの合金、スピン分極率の大きいマグネタイト、CrO2,RXMnO3-y(R;希土類、X;Ca,Ba,Sr)等の酸化物の他、NiMnSb,PtMnSb等のホイスラー合金等で形成してもよい。さらに、これら磁性体には、強磁性を失わないかぎり、Ag,Cu,Au,Al,Mg,Si,Bi,Ta,B,C,O,N,Pd,Pt,Zr,Ir,W,Mo,Nb等の非磁性元素が多少含まれていてもよい。
トンネルバリア層20は、例えば、AlOx,SiO2,MgO,AlN,Bi2O3,MgF2,CaF2,SrTiO2,AlLaO3等の様々な誘電体で形成することも可能である。
上述した図2乃至図5を用いて、本発明の第1の実施形態に係る記録層における非磁性層の膜厚について説明する。
記録層30における第1乃至第3の強磁性層31,33,35の膜厚X1,X2,X3は、記録層30からの漏洩磁界を低減するように規定することが望ましい。従って、第1乃至第3の強磁性層31,33,35の膜厚X1,X2,X3は、上記第1及び第2の磁気結合における2つの磁気結合状態により、次のようにそれぞれ規定される。
上記MTJ素子1の形状は、図1に示すように、固定層10,トンネルバリア層20及び記録層30の幅が同じになっており、全ての層の側面が一致している。これは、MTJ素子1の各層を一括加工しているからである。
図6は、本発明の第1の実施形態に係るMTJ素子の変形例1の断面図を示す。
図7は、本発明の第1の実施形態に係るMTJ素子の変形例2の断面図を示す。
図8は、本発明の第1の実施形態に係るMTJ素子の変形例3の断面図を示す。
図9は、本発明の第1の実施形態に係るMTJ素子の変形例4の断面図を示す。
図10(a),(b)は、本発明の第1の実施形態に係るMTJ素子の変形例5の平面図を示す。ここでは、変形例1又は変形例2のようなMTJ素子が2つの幅W1,W2を有する場合を例にあげる。
図11は、本発明の第1の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリのメモリセルの平面図を示す。
(a)書き込み動作
図14は、本発明の第1の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリにおける書き込み動作の説明図を示す。図15(a)乃至図15(e)は、図14における書き込み動作のサイクル毎の磁化模式図を示す。図16(a),(b)は、本発明の第1の実施形態に係るMTJ素子に“0”,“1”状態が書き込まれた状態の図を示す。
まず、初期状態では、図14(a)に示すように、ビット線42及びワード線42はともにOFFしており、両者には書き込み電流I1,I2が流れていない無通電状態となっている。
次に、第1サイクルでは、図14(b)に示すように、ビット線42はOFF状態のままで書き込み電流I1は流さずに、ワード線42をONして書き込み電流I2を流す。
次に、第2サイクルでは、図14(c)に示すように、ワード線42に書き込み電流I2を流したまま、ビット線42もONして書き込み電流I1を流す。
次に、第3サイクルでは、図14(d)に示すように、ビット線42に書き込み電流I1を流したまま、ワード線42をOFFして書き込み電流I2を流すのをやめる。
次に、第4サイクルでは、図14(e)に示すように、ワード線42と同様に、ビット線42をOFFして書き込み電流I1を流すのをやめる。
MTJ素子1に書き込まれたデータは、次のような方法で読み出される。
第2の実施形態は、第1の実施形態におけるMTJ素子の記録層をさらに多層にしたものであり、記録層を4層の強磁性層で形成したものである。
図17は、本発明の第2の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリのMTJ素子の断面図を示す。図18及び図19は、本発明の第2の実施形態に係るMTJ素子を構成する記録層の磁気結合状態の模式図を示す。以下に、本発明の第2の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリのMTJ素子の概要について説明する。
第4の強磁性層37は、上記第1乃至第3の強磁性層31,33,35と同様の材料で形成され、第3の非磁性層36は、上記第1及び第2の非磁性層32,34と同様の材料で形成されるため、説明は省略する。
上述した図18及び図19を用いて、本発明の第2の実施形態に係る記録層における非磁性層の膜厚について説明する。
記録層30における第1乃至第4の強磁性層31,33,35,37の膜厚X1,X2,X3,X4は、第1の実施形態と同様に、記録層30からの漏洩磁界を低減するように規定することが望ましい。従って、第1乃至第4の強磁性層31,33,35,37の膜厚X1,X2,X3,X4は、次のようにそれぞれ規定される。
上記MTJ素子1の形状は、図17に示すように、固定層10,トンネルバリア層20及び記録層30の幅が同じになっており、全ての層の側面が一致している。これは、MTJ素子1の各層を一括加工しているからである。
図20は、本発明の第2の実施形態に係るMTJ素子の変形例1の断面図を示す。
図21は、本発明の第2の実施形態に係るMTJ素子の変形例2の断面図を示す。
Claims (5)
- 記録層と固定層と前記記録層及び前記固定層間に設けられた中間非磁性層とを有する磁気抵抗素子を備えた磁気ランダムアクセスメモリであって、
前記記録層は、
前記中間非磁性層上に形成された第1の強磁性層と、
前記第1の強磁性層上に形成された第1の非磁性層と、
前記第1の非磁性層上に形成され、前記第1の非磁性層を介して前記第1の強磁性層と第1の磁気結合により磁気的に結合する第2の強磁性層と、
前記第2の強磁性層上に形成された第2の非磁性層と、
前記第2の非磁性層上に形成され、前記第2の非磁性層を介して前記第2の強磁性層と第2の磁気結合により磁気的に結合する第3の強磁性層と
を具備し、
前記第1の磁気結合が反強磁性結合であり、かつ前記第2の磁気結合が強磁性結合である場合、又は、前記第1の磁気結合が強磁性結合であり、かつ前記第2の磁気結合が反強磁性結合である場合のどちらかである
ことを特徴とする磁気ランダムアクセスメモリ。 - 前記強磁性結合における磁気相互作用の大きさの絶対値は、前記反強磁性結合における磁気相互作用の大きさの絶対値よりも弱いことを特徴とする請求項1に記載の磁気ランダムアクセスメモリ。
- 前記第1及び第2の非磁性層は、材質が異なることを特徴とする請求項1に記載の磁気ランダムアクセスメモリ。
- 前記第1の非磁性層の膜厚は、前記第2の非磁性層の膜厚と異なることを特徴とする請求項1に記載の磁気ランダムアクセスメモリ。
- 前記磁気抵抗素子を挟むように配置された第1及び第2の書き込み配線をさらに具備し、
前記磁気抵抗素子の磁化容易軸方向は、前記第1又は第2の書き込み配線の延在方向に対して30乃至60度傾いている
ことを特徴とする請求項1に記載の磁気ランダムアクセスメモリ。
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