JP2006005304A - 希土類系ボンド磁石用組成物及びそれを用いて得られる希土類系ボンド磁石 - Google Patents
希土類系ボンド磁石用組成物及びそれを用いて得られる希土類系ボンド磁石 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】希土類−遷移金属系磁石粉末と、ポリフェニレンサルファイド(PPS)樹脂とを含有するリサイクル性に優れた希土類系ボンド磁石用組成物であって、上記PPS樹脂の少なくとも70重量%は、溶融粘度(300℃、剪断速度600s−1で測定)が200poise以上の架橋型PPSであることを特徴とする希土類系ボンド磁石用組成物などによって提供する。
【選択図】なし
Description
本発明において用いられる希土類−遷移金属系磁石粉末は、SmまたはNdの少なくとも一種を含有する希土類磁石粉末であって、SmCo5系磁石粉末、Sm2Co17系磁石粉末、Sm−Fe−N系磁石粉末、Nd−Fe−B系磁石粉末、又はこれらの混合物が挙げられる。
希土類−遷移金属系磁石粉末を被覆するのに用いられる表面処理剤は、燐酸系化合物、シリカ系化合物、又はトリアジンチオール誘導体から選ばれる少なくとも一種である。
本発明において用いられるポリフェニレンサルファイド樹脂は、ベンゼン環と硫黄原子とが交互に結合した構造の熱可塑性樹脂であり、希土類磁石粉末のバインダーとして機能する成分である。
これは希土類磁石粉末の成分が何らかの働きで直鎖PPSの分子鎖を切断するためと推定される。そのため直鎖型PPSを主成分とした磁石用組成物では、その初期材を射出成形してなる成形体で強度低下が大きく、さらに副生したスプルーやランナー部分の余剰品を再生したリターン材では、極端な場合、成形すらできなくなっていた。
架橋型PPSの形状は、パウダー状、ビーズ、ペレット状のいずれでもよく、磁石粉末と均一に混合される点でパウダー状が好ましい。
熱可塑性樹脂としては、例えば6ナイロン、6,6ナイロン、4,6ナイロン、11ナイロン、12ナイロン、芳香族系ナイロンなどのポリアミド樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂;ポリアセタール樹脂;ポリエーテルエーテルケトン樹脂;液晶ポリマ−;これらの樹脂の単量体単位と他種モノマーとの共重合体;ならびにこれらの樹脂を脂肪酸などで変性したものが挙げられる。
本発明において、樹脂バインダーであるPPS樹脂が、磁粉の鉄、コバルト、マンガンなどの重金属イオンにより接触酸化劣化するのを防止するために重金属不活性化剤を使用することができる。
重金属不活性化剤を用いれば、これら重金属イオンとキレート化合物を形成してポリマー中のハイドロパーオキサイドの重金属イオンによる接触分解を防止できるものと考えられる。
前述の特開平09−129427号公報(特許文献4)には、希土類磁石粉末とPPS樹脂と酸化防止剤とからなる希土類ボンド磁石組成物が記載され、たとえば、実施例にNd−Fe−B系磁石粉末とPPS樹脂とヒドラジン系酸化防止剤とからなる希土類ボンド磁石が高い機械強度を有することが開示されている。しかしながら、本発明の重金属不活性化剤の代わりに上記酸化防止剤を使用すると、初期材機械強度は確かに改善するものの、リターン材強度は大幅に低下し、表面処理を行ってもその効果が消失することから、ここで生起するメカニズムは相違していると考えられる。
本発明における希土類系ボンド磁石用組成物には、必要に応じて、上記重金属不活性化剤以外の添加剤として滑剤、安定剤などを添加することができる。
本発明の希土類系ボンド磁石用組成物は、必要により希土類−遷移金属系磁石粉末を表面処理した後、ポリフェニレンサルファイド樹脂成分が全量架橋型PPSであるか、あるいは、樹脂成分全体の70重量%以上が架橋型PPSで、直鎖型PPSおよび/またはセミ直鎖型PPSであるPPS樹脂に対して、必要に応じて重金属不活性化剤、その他の添加剤を、均一に混合することにより調製される。
上記希土類系ボンド磁石用組成物は、加熱溶融された後、所望の形状に成形することができる。成形法としては、例えば射出成形法、押出成形法および圧縮成形法が挙げられ、これらの中では、射出成形法が好ましい。射出成形法により、本発明の希土類系ボンド磁石を得ることができる。
・Sm2Co17系磁石粉末((株)三徳製)
・SmFeMnN合金粉末(住友金属鉱山(株)製)
・等方性NdFeB系磁石粉末MQP−B(マグネクエンチインターナショナル製)
・異方性NdFeB系磁石粉末1(住友特殊金属(株)製 HDDR−B)
・異方性NdFeB系磁石粉末2(愛知製鋼(株)製 MFP13)
<フェライト粉末>
・ストロンチウムフェライト(戸田工業(株)製FA700)
<表面処理剤>
・燐酸系化合物:リン酸
・シリカ系化合物:メチルシリケートオリゴマー、MKCシリケートMS51(三菱化学製)
・トリアジンチオール誘導体:2、4、6−トリメルカプト−s−トリアジン((株)東亜電化製)
<架橋型PPS樹脂>
・ポリフェニレンサルファイド:(株)トープレン製、商品名:K−1、溶融粘度350Poise(溶融粘度は300℃、600s−1で測定した。以下同じ。)
・ポリフェニレンサルファイド:(株)トープレン製、商品名:K−4、溶融粘度2000Poise
・ポリフェニレンサルファイド:(株)東ソー製、商品名:サスティール#140、溶融粘度380Poise
・ポリフェニレンサルファイド:(株)東ソー製、商品名:サスティールB−042、溶融粘度620Poise
<セミ直鎖型PPS樹脂>
・ポリフェニレンサルファイド:(株)トープレン製、商品名:T−2、溶融粘度600Poise
<直鎖型PPS樹脂>
・ポリフェニレンサルファイド:(株)トープレン製、商品名:H−1、溶融粘度100Poise
・ポリフェニレンサルファイド:(株)トープレン製、商品名:LR−03、溶融粘度300Poise
・ポリフェニレンサルファイド:呉羽化学(株)製、商品名:フォートロンW−214、溶融粘度1800Poise
・ポリフェニレンサルファイド:(株)トープレン製、LD−10、溶融粘度10000Poise
<重金属不活性化剤>
・サリチル酸誘導体1: 3−(N−サリチロイル)アミノ−1,2,4−トリアゾール、旭電化工業(株)製、商品名:CDA−1、融点317℃
・サリチル酸誘導体2: デカメチレンカルボン酸ジサリチロイルヒドラジド、旭電化工業(株)製、商品名CDA−6、融点212℃
・ヒドラジン誘導体1: 2’,3−ビス−[[3−[3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオニル]]プロピオノヒドラジド、チバ・スペシャルティ・ケミカル(株) 製、商品名IRGANOX MD1024、融点226℃
・ヒドラジン誘導体2: 三井東圧ファイン(株)製、商品名Qunox、融点227℃
・シュウ酸誘導体1: Eastman Kodak(株)製、商品名Eastman Inhibitor OABH、融点320℃
・シュウ酸誘導体2: Uniroyal Chemicals製、商品名Naugard XL−1、融点178℃
・複合物1: 旭電化工業(株)製、商品名 ZS−27、融点65℃
・複合物2: 旭電化工業(株)製、商品名 ZS−90、融点110℃
磁石用組成物を射出成形した後、成形体の曲げ強さを評価した。成形体の曲げ強さは、島津製作所製オートグラフAG−5000Eを用いて、標点間距離10mm、ヘッドスピード2mm/minの試験条件で評価を行った。
Sm2Co17系磁石粉末にシリカ被膜を施した。シリカ被覆処理は、Sm2Co17系磁石粉末1kgを、三菱化学製 MKCシリケートMS51を50g、水0.35gを混合した溶液に混合して真空中で100℃に加熱して乾燥した。
架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−1を使用した。重金属不活性化剤には、旭電化工業(株)製 3−(N−サリチロイル)アミノ−1,2,4−トリアゾール(商品名CDA−1)を使用した。
磁粉の容積率を56.7%として、PPS樹脂と重金属不活性化剤をPPS樹脂に対して0.5重量%使用して配合し、プラストミル((株)東洋精機製作所製)で混練した。
樹脂の粘度は、キャピログラフ試験器で測定した。
次に、得られた混練物を射出成形機((株)日本製鋼所製J−35M)に投入し、ノズル温度310℃、金型温度130℃の条件で、幅8mm×厚さ2mm×長さ15mmの成形体に射出成形し初期材を得た。
次に一度射出成形した成形体を粉砕して、再度同じ条件で射出成形を行い、リターン材を得た。
この結果、初期材の曲げ強さは84.0MPaで、リターン材が80.2MPaであり、強度の低下が少なかった。表1に、磁粉の表面処理の種類とPPS樹脂の種類と測定した粘度、重金属不活性化剤の種類と成形体の曲げ強さ(初期材、リターン材)を示す。
Sm2Co17系磁石粉末に燐酸塩被膜を施した。燐酸塩被膜の被覆処理は、Sm2Co17系磁石粉末1kgを、85%リン酸23.1gと2−プロパノール1.57kgを混合した溶液に混合して、真空中で150℃に加熱して乾燥して、行った。
架橋型PPS樹脂としては、(株)東ソー製のサスティール#140を使用した。重金属不活性化剤には、旭電化工業(株)製 デカメチレンカルボン酸ジサリチロイルヒドラジド(商品名CDA−6)を使用した。
実施例1と同様にして、性能を評価した。初期材の曲げ強さは85.7MPaで、リターン材が85.0MPaで低下がほとんどなかった。
Sm2Co17系磁石粉末に、実施例2と同様にして燐酸塩被膜を施した。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−4を使用した。重金属不活性化剤に旭電化工業(株)CDA−1使用した。
初期材の曲げ強さは88.0MPaで、リターン材が88.3MPaで低下がなかった。
Sm2Co17系磁石粉末に、実施例4と同様にトリアジンチオール誘導体被膜を施した。PPS樹脂としては、架橋型PPS樹脂(株)トープレン製のK−4を70重量%とセミ直鎖型PPS樹脂(株)トープレン製のT−2を30重量%混ぜたものを使用した。重金属不活性化剤は、添加しなかった。
初期材の曲げ強さは68.7MPaで、リターン材が58.9MPaで低下が少なかった。
Sm2Co17系磁石粉末に表面処理を施さずに用いた。PPS樹脂としては、架橋型PPS樹脂(株)東ソー製のサスティール#140を60重量%とセミ直鎖型PPS樹脂(株)トープレン製のT−2を40重量%混ぜたものを使用した。
重金属不活性化剤には、三井東圧ファイン(株)製のヒドラジン誘導体のQunoxを使用した。初期材の曲げ強さは69.3MPaで、リターン材が64.0MPaで低下が少なかった。
Sm2Co17系磁石粉末に、実施例2と同様にしてリン酸塩被膜を施した。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−1を使用した。重金属不活性化剤は使用していない。初期材の曲げ強さは、63.2MPaでリターン材が48.5MPaで低下が少なかった。
Sm2Co17系磁石粉末に表面処理を施さずに用いた。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−1を使用した。重金属不活性化剤には、旭電化工業(株) CDA−1を使用した。
初期材の曲げ強さは、72.1MPaで、リターン材が55.6MPaで低下が少なかった。
Sm2Co17系磁石粉末に表面処理を施さずに用いた。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−4を使用した。重金属不活性化剤は、旭電化工業(株) CDA−6を使用した。
初期材の曲げ強さは77.1MPaで、リターン材が56.4MPaで低下が少なかった。
Sm2Co17系磁石粉末に、実施例2と同様にして燐酸塩被膜を施した。これにストロンチウムフェライトとして戸田工業(株)製FA700を混合した。架橋型PPS樹脂(株)としては、東ソー製のサスティール#140を使用した。重金属不活性化剤は、旭電化工業(株) CDA−6を使用した。初期材の曲げ強さは、82.5MPaでリターン材が76.6MPaで低下が少なかった。
Sm2Co17系磁石粉末に実施例1と同様にしてシリカ被膜を施した。直鎖型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のLR−03を使用した。重金属不活性化剤には、旭電化工業(株)CDA−1を使用した。
初期材の曲げ強さは64.1MPaで、リターン材が38.2MPaでリサイクルをすることによって低下した。
Sm2Co17系磁石粉末に、実施例2と同様にしてリン酸塩被膜を施した。直鎖型PPS樹脂としては、呉羽化学製の直鎖型フォートロンW−214を使用した。重金属不活性化剤にIRGANOX MD1024を使用した。
初期材の曲げ強さは、61.2MPaで、リターン材が35.5MPaでリサイクルをすることによって低下した。
Sm2Co17系磁石粉末に表面処理を施さずに用いた。直鎖型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のLR−03を使用した。重金属不活性化剤は使用していない。
初期材の曲げ強さは64.1MPaで、リターン材が38.4MPaで、リサイクルをすることによって低下した。
Sm2Co17系磁石粉末に表面処理を施さずに用いた。直鎖型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のLD−10を使用した。重金属不活性化剤は、旭電化工業(株) CDA−1を使用した。
初期材の曲げ強さは、77.2MPaでリターン材が31.0MPaで、リサイクルをすることによって大きく低下した。
Sm2Co17系磁石粉末にシリカ被膜を施した。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−1を使用した。重金属不活性化剤は、Uniroyal Chemicals製のシュウ酸誘導体Naugard XL−1を使用した。
初期材の曲げ強さは61.3MPaで、リターン材が43.5MPaであった。実施例1と比較して、重金属不活性化剤の融点が178℃なのでやや強度が低くなった。
SmFeMnN合金粉末に実施例1と同様にしてシリカ被膜を施した。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−1を使用した。重金属不活性化剤には、旭電化工業(株) CDA−6使用した。初期材の曲げ強さは62.1MPaで、リターン材が59.1MPaで低下が少なかった。結果を表2に示す(以下同じ)。
SmFeMnN合金粉末(同上)に実施例1と同様にしてシリカ被膜を施した。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−4を使用した。重金属不活性化剤にIRGANOX MD1024を使用した。
初期材の曲げ強さは65.4MPaで、リターン材が62.5MPaで低下が少なかった。
SmFeMnN合金粉末に、実施例2と同様にして燐酸塩被膜を施した。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−1を使用した。重金属不活性化剤にIRGANOX MD1024を使用した。
初期材の曲げ強さは69.8MPaで、リターン材が58.7MPaで低下が少なかった。
SmFeMnN合金粉末に、実施例2と同様にして燐酸塩被膜を施した。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−4を使用した。重金属不活性化剤は、旭電化工業(株)CDA−6を使用した。初期材の曲げ強さは、67.0MPaで、リターン材が65.5MPaで低下が少なかった。
SmFeMnN合金粉末に、トリアジンチオール誘導体被膜を施した。PPS樹脂としては、架橋型PPS樹脂(株)東ソー製のサスティールB−042を55重量%とセミ直鎖型PPS樹脂(株)トープレン製のT−2を45重量%混ぜたものを使用した。重金属不活性化剤は、添加しなかった。
初期材の曲げ強さは63.5MPaで、リターン材が49.5MPaで低下が少なかった。
SmFeMnN合金粉末に表面処理は施さずに用いた。
PPS樹脂としては、架橋型PPS樹脂((株)トープレン製のK−4を90重量%と直鎖型PPS樹脂(株)トープレン製のH−1を10重量%混ぜたものを使用した。重金属不活性化剤は、Eastman Kodak製のシュウ酸誘導体のEastman Inhibitor OABHを使用した。
初期材の曲げ強さは、62.1MPaでリターン材が58.2MPaで低下が少なかった。
SmFeMnN合金粉末に実施例1と同様にしてシリカ被膜を施した。PPS樹脂としては、架橋型PPS樹脂(株)東ソー製のサスティール#140を85重量%と直鎖型PPS樹脂(株)トープレン製のLR−03を15重量%混ぜたものを使用した。重金属不活性化剤は、Eastman Kodak製のシュウ酸誘導体のEastman Inhibitor OABHを使用した。初期材の曲げ強さは、72.2MPaでリターン材が70.9MPaで低下が少ない。
実施例1と同様にして表面処理を施したSmFeMnN合金粉末と、表面処理を施していないストロンチウムフェライト(戸田工業(株)製FA700)を混合した。
架橋型PPS樹脂(株)としては、東ソー製のサスティール#140を使用した。重金属不活性化剤は、重金属不活性化剤にIRGANOX MD1024を使用した。初期材の曲げ強さは、78.5MPaで、リターン材が70.1MPaで低下が少なかった。
SmFeMnN合金粉末に表面処理を施さずに用いた。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−1を使用した。重金属不活性化剤は、旭電化工業(株) CDA−6を使用した。
初期材の曲げ強さは、62.3MPaで、リターン材が52.1MPaで低下が少なかった。
SmFeMnN合金粉末に実施例1と同様にしてシリカ被膜を施した。直鎖型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のLR−03を使用した。重金属不活性化剤は使用していない。
初期材の曲げ強さは48.1MPaで、リターン材が31.5MPaでリサイクルをすることによって低下した。
SmFeMnN合金粉末に、実施例2と同様にしてリン酸塩被膜を施した。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のH−1を使用した。重金属不活性化剤にIRGANOX MD1024を使用した。
初期材の曲げ強さは57.1MPaで、リターン材が44.1MPaでリサイクルをすることによって低下していた。
SmFeMnN合金粉末に、実施例2と同様にしてリン酸塩被膜を施した。直鎖型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のLR−03を使用した。重金属不活性化剤は、旭電化工業(株) CDA−1を使用した。
初期材の曲げ強さは59.8MPaで、リターン材が47.5MPaでリサイクルをすることによって低下していた。
SmFeMnN合金粉末に表面処理を施さずに用いた。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−1を使用した。重金属不活性化剤は、旭電化工業(株) CDA−1を使用した。
初期材の曲げ強さは、64.5MPaで、リターン材が44.6MPaでリサイクルをすることによって低下していた。
SmFeMnN合金粉末に表面処理を施さずに用いた。直鎖型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のLR−03を使用した。重金属不活性化剤は添加しなかった。
初期材の曲げ強さは48.5MPaで、リターン材が33.3MPaでリサイクルをすることによって低下していた。
SmFeMnN合金粉末にトリアジンチオール誘導体被膜を施した。PPS樹脂としては、架橋型PPS樹脂(株)東ソー製のサスティール#140を40重量%と、セミ直鎖型PPS樹脂(株)トープレン製のT−2を60重量%混ぜたものを使用した。重金属不活性化剤は、旭電化工業(株) CDA−6を使用した。
初期材の曲げ強さは58.4MPaで、リターン材が35.2MPaでリサイクルをすることによって低下していた。
SmFeMnN合金粉末に表面処理を施さないか、トリアジンチオール誘導体被膜を施した。直鎖型PPS樹脂として、呉羽化学(株)製のフォートロンW−213を使用した。重金属不活性化剤は添加しないか、旭電化工業(株) CDA−6を使用した。
初期材の曲げ強さは48.5MPaで、リターン材が33.3MPaでリサイクルをすることによって低下していた。
SmFeMnN合金粉末にシリカ被膜を施した。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−1を使用した。重金属不活性化剤は、旭電化工業(株) ZS−27を使用した。
初期材の曲げ強さが60MPa未満であるか、リサイクル性(R/V強度比)が70%以下に低下した。
等方性NdFeB系磁石粉末MQP−Bにトリアジンチオール誘導体被膜を施した。トリアジンチオール誘導体被膜の被覆処理は、磁石粉末MQP−B1kgに、2,4,6−トリメルカプト−s−トリアジン5gをエタノール 200gに混合した溶液に混合して真空中で100℃に加熱して乾燥した。
架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−1を使用した。重金属不活性化剤にはチバ・スペシャルティ・ケミカル(株)製 2’、3−ビス−[[3−[3、5ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオニル]]プロピオノヒドラジド(商品名IRGANOX MD1024)を使用した。初期材の曲げ強さは、60.4MPaでリターン材が61.2MPaで低下がなかった。結果を表3に示す(以下同じ)。
等方性NdFeB系磁石粉末MQP−Bに表面処理を施さずに用いた。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のH−1を使用した。重金属不活性化剤にIRGANOX MD1024を使用した。
初期材の曲げ強さは68.2MPaでリターン材が58.2MPaで低下が少なかった。
等方性NdFeB系磁石粉末MQP−Bに、実施例2と同様にしてリン酸塩誘導体被膜を施した。直鎖型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のLR−03を使用した。重金属不活性化剤は使用していない。
初期材の曲げ強さは54.4MPaで、リターン材が44.6MPaでリサイクルをすることによって低下した。
等方性NdFeB系磁石粉末MQP−Bに、トリアジンチオール誘導体被膜を施した。直鎖型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のLR−03を使用した。重金属不活性化剤にIRGANOX MD1024を使用した。
初期材の曲げ強さは57.1MPaで、リターン材が44.1MPaでリサイクルをすることによって低下した。
異方性NdFeB系磁石粉末にシリカ被膜を施した。異方性NdFeB系磁石粉末としては、住友特殊金属(株)製 HDDR−Bを用いた。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−4を使用した。重金属不活性化剤には、旭電化工業(株) CDA−6を使用した。
初期材の曲げ強さは65.0MPaで、リターン材が64.8MPaで低下が少なかった。
異方性NdFeB系磁石粉末に、トリアジンチオール被膜を施した。異方性NdFeB系磁石粉末としては、愛知製鋼(株)製 MFP13を用いた。PPS樹脂としては、架橋型PPS樹脂((株)トープレン製の−K−1を95重量%と、セミ直鎖型PPS樹脂(株)トープレン製のT−2を5重量%混ぜたものを使用した。重金属不活性化剤は、三井東圧ファイン(株)製のヒドラジン誘導体のQunoxを使用した。初期材の曲げ強さは、70.2MPaでリターン材が64.5MPaで低下が少なかった。
異方性NdFeB系磁石粉末には表面処理を施さずに用いた。異方性NdFeB系磁石粉末としては、住友特殊金属(株)製HDDR−Bを用いた。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−1を使用した。重金属不活性化剤は、旭電化工業(株)CDA−1を使用した。
初期材の曲げ強さは65.7MPaで、リターン材が58.2MPaであった。
異方性NdFeB系磁石粉末にシリカ被膜を施した。異方性NdFeB系磁石粉末としては、住友特殊金属(株)製 HDDR−Bを用いた。直鎖型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のLD−10を使用した。重金属不活性化剤にIRGANOX MD10244を使用した。
初期材の曲げ強さは49.8MPaで、リターン材が34.8MPaでリサイクルをすることによって低下していた。
異方性NdFeB系磁石粉末に表面処理を施さずに用いた。異方性NdFeB系磁石粉末としては、住友特殊金属(株)製HDDR−Bを用いた。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−1を使用した。重金属不活性化剤は添加しなかった。
初期材の曲げ強さは52.1MPaで、リターン材が37.3MPaでリサイクルをすることによって低下していた。
異方性NdFeB系磁石粉末に表面処理を施さずに用いた。異方性NdFeB系磁石粉末としては、住友特殊金属(株)製HDDR−Bを用いた。PPS樹脂としては、架橋型PPS樹脂((株)トープレン製のK−1)を60重量%と、直鎖型PPS樹脂(呉羽化学製のW−124)を40重量%混ぜたものを使用した。重金属不活性化剤にIRGANOX MD1024を使用した。
初期材の曲げ強さは60.1MPaで、リターン材が38.2MPaでリサイクルをすることによって低下していた。
異方性NdFeB系磁石粉末には表面処理を施さずに用いた。異方性NdFeB系磁石粉末としては、住友特殊金属(株)製HDDR−Bを用いた。架橋型PPS樹脂としては、(株)トープレン製のK−1を使用した。重金属不活性化剤は、旭電化工業(株)ZS−90を使用した。
初期材の曲げ強さは62.3MPaで、リターン材が43.9MPaであった。比較例17に比べて初期材とリターン材の曲げ強さが向上しているものの、実施例23に比べると重金属不活性化剤の融点が110℃と低いので、やや強度が低くなったものと思われる。
Claims (10)
- 希土類−遷移金属系磁石粉末と、ポリフェニレンサルファイド(PPS)樹脂とを含有するリサイクル性に優れた希土類系ボンド磁石用組成物であって、
上記PPS樹脂の少なくとも70重量%は、溶融粘度(300℃、剪断速度600s−1で測定)が200poise以上の架橋型PPSであることを特徴とする希土類系ボンド磁石用組成物。 - PPS樹脂が直鎖型及び/又はセミ直鎖型PPSを含有する場合は、直鎖型及び/又はセミ直鎖型PPSの含有量が樹脂全体の30重量%以下であることを特徴とする請求項1に記載の希土類系ボンド磁石用組成物。
- 希土類−遷移金属系磁石粉末の表面が、表面処理剤により被覆されていることを特徴とする請求項1に記載の希土類系ボンド磁石用組成物。
- 表面処理剤が、燐酸系化合物、シリカ系化合物、又はトリアジンチオール誘導体から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項3に記載の希土類系ボンド磁石用組成物。
- さらに、重金属不活性化剤を含有することを特徴とする請求項1に記載の希土類系ボンド磁石用組成物。
- 重金属不活性化剤が、シュウ酸誘導体、サリチル酸誘導体、又はヒドラジン誘導体から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項5に記載の希土類系ボンド磁石用組成物。
- 重金属不活性化剤の融点が、200℃以上であることを特徴とする請求項6に記載の希土類系ボンド磁石用組成物。
- 希土類−遷移金属系磁石粉末が、SmまたはNdの少なくとも一種の希土類元素を含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の希土類系ボンド磁石用組成物。
- リサイクル性の指標である成形体の強度比R/V(V:初期曲げ強度、R:リサイクル時の曲げ強度)が70%以上であることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の希土類系ボンド磁石用組成物。
- 請求項1〜9のいずれかに記載の希土類系ボンド磁石用組成物を射出成形して得られる希土類系ボンド磁石。
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