JP2005347722A - 表面洗浄用昇華性固体粒子噴射用ノズル及びこれを用いた洗浄方法(NozzleforinjectingsublimablesolidparticlesentrainedingasforcleaningasurfaceandMethodforCleaningSurfaceusingtheNozzle) - Google Patents
表面洗浄用昇華性固体粒子噴射用ノズル及びこれを用いた洗浄方法(NozzleforinjectingsublimablesolidparticlesentrainedingasforcleaningasurfaceandMethodforCleaningSurfaceusingtheNozzle) Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 洗浄媒体供給源から流入される洗浄媒体を、昇華性固体粒子を含むスノー状態に相変化させる洗浄媒体ブロック110と、前記洗浄媒体ブロック110から流入される洗浄媒体スノーを断熱膨張により成長させて被洗浄物の表面に噴射するノズルブロック140と、キャリアガス供給源から流入されるキャリアガスを前記ノズルブロック140に供給し、前記洗浄媒体スノーと混合するキャリアガスブロック130、及びキャリアガス供給源から供給されるキャリアガスの少なくとも一部を加熱するヒーター150を含む。
【選択図】 図1
Description
図1は、本発明の実施例1による表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズルを示している。図1のノズルは、昇華性固体粒子の出口が一つであるシングルノズルである。
図2は、本発明の実施例2による表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズルを示して、図3は、図2のIII-III線断面構成を示してしる。図2及び図3の実施例は、本明細書に参照としてその内容が含まれる、本出願人によるWO 02/075799 A1(発明の名称:表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズル)に開示されたマルチノズルに本発明の技術的思想を付加したものである。
図4は、本発明のまた他の実施例を示して、図5は、図4のV-V線断面構成を示している。図4及び図5の実施例は、図2及び図3のマルチノズルを変形したものである。
112・・・オリフィス
120・・・流量調節バルブ
130・・・キャリアガスブロック
140・・・ノズルブロック
142・・・ベンチュリ
144・・・結氷防止ブロック
150・・・ヒーター
Claims (15)
- 洗浄媒体供給源から流入される洗浄媒体を、昇華性固体粒子を含むスノー状態に相変化させる洗浄媒体ブロック、
前記洗浄媒体ブロックから流入される洗浄媒体スノーを断熱膨張により成長させて被洗浄物の表面に噴射するノズルブロック、
キャリアガス供給源から流入されるキャリアガスを洗浄媒体スノーと混合させるために前記ノズルブロックに供給するキャリアガスブロック、及び
キャリアガス供給源から供給されるキャリアガスの少なくとも一部を加熱するヒーターを含む、
表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズル。 - 前記洗浄媒体供給源から流入される洗浄媒体の流量を制御するための流量調節バルブをさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズル。
- 前記ノズルブロックは、前記洗浄媒体ブロックから流入される洗浄媒体スノーを断熱膨張させて成長させるベンチュリと、前記ベンチュリを包み込むように形成されて、前記キャリアガスブロックから流入されるキャリアガスの少なくとも一部が流入される結氷防止通路をさらに有することを特徴とする、請求項1に記載の表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズル。
- 前記ヒーターは、キャリアガス供給源、キャリアガス供給源から前記キャリアガスブロックにキャリアガスが供給される経路及び前記キャリアガスブロックの少なくとも一側に設けられることを特徴とする、請求項1に記載の表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズル。
- 前記ノズルブロックの結氷防止通路にヒーターが設置されることを特徴とする、請求項3に記載の表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズル。
- 前記キャリアガスブロックから前記ノズルブロックのベンチュリ及び結氷防止通路に各々供給されるキャリアガスの比は、9:1乃至7:3であることを特徴とする、請求項3に記載の表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズル。
- 前記洗浄媒体は、CO2またはArであることを特徴とする、請求項1に記載の表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズル。
- 前記キャリアガスは、N2または空気であることを特徴とする、請求項1に記載の表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズル。
- 洗浄媒体供給源と連結される入口と、洗浄媒体を昇華性固体粒子を含むスノー状態に相変化させるために並列に配置される複数のオリフィスからなる出口とを有する洗浄媒体ブロック、
洗浄媒体ブロックのオリフィスにより形成された洗浄媒体スノーが流入される複数の入口と、前記各入口に流入された洗浄媒体スノーを断熱膨張させて成長させるための複数のベンチュリと、ベンチュリにより成長した洗浄媒体スノーを被洗浄物の表面に噴射するための、各ベンチュリと疎通する複数の出口とを有するノズルブロック、
キャリアガス供給源と連結される入口と、キャリアガスが洗浄媒体スノーと混合されるよう、ノズルブロックの複数の入口と疎通する出口とを有するキャリアガスブロック、及び
キャリアガス供給源から供給されるキャリアガスを加熱するためのヒーターを含む、
表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズル。 - 前記ノズルブロックの各ベンチュリは、直列に配列される第1ベンチュリ及び第2ベンチュリからなることを特徴とする、請求項9に記載の表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズル。
- 前記第1ベンチュリと第2ベンチュリとの間に、洗浄媒体スノーとキャリアガスとの混合を促進するために、一定な内径を有する中間通路が設けられることを特徴とする、請求項10に記載の表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズル。
- 前記キャリアガスブロックが前記ノズルブロックの入口側に設けられて、前記洗浄媒体ブロックは、前記ノズルブロックの上側に設けられて、前記洗浄媒体ブロックのオリフィスと疎通する前記ノズルブロックの入口は、ベンチュリのスロットル後端と疎通することを特徴とする、請求項9に記載の表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズル。
- 前記キャリアガスブロックが前記洗浄媒体ブロックを囲むように形成され前記ノズルブロックの前方に結合されることを特徴とする、請求項9に記載の表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズル。
- 前記ノズルブロックは、前記ベンチュリを包み込むように形成されて、前記キャリアガスブロックの出口と疎通する結氷防止通路をさらに有することを特徴とする、請求項9に記載の表面洗浄用昇華性固体粒子噴射ノズル。
- 洗浄媒体を昇華性固体粒子を含むスノー状態に相変化させた後、キャリアガスと混合し断熱膨張させて被洗浄物の表面に噴射する、昇華性固体粒子を用いた表面洗浄方法において、
洗浄媒体とキャリアガスとが混合される前にキャリアガスの少なくとも一部を加熱する段階を含むことを特徴とする、
昇華性固体粒子を用いた表面洗浄方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005347722A true JP2005347722A (ja) | 2005-12-15 |
JP4053026B2 JP4053026B2 (ja) | 2008-02-27 |
Family
ID=35425992
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004175724A Active JP4053026B2 (ja) | 2004-05-31 | 2004-06-14 | 表面洗浄用昇華性固体粒子噴射用ノズル及びこれを用いた洗浄方法(NozzleforinjectingsublimablesolidparticlesentrainedingasforcleaningasurfaceandMethodforCleaningSurfaceusingtheNozzle) |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7442112B2 (ja) |
JP (1) | JP4053026B2 (ja) |
KR (2) | KR20040101948A (ja) |
CN (1) | CN100406131C (ja) |
TW (1) | TWI296224B (ja) |
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KR20040101948A (ko) | 2004-12-03 |
CN1706558A (zh) | 2005-12-14 |
US20050266777A1 (en) | 2005-12-01 |
US20090039178A1 (en) | 2009-02-12 |
TWI296224B (en) | 2008-05-01 |
KR100725242B1 (ko) | 2007-06-04 |
JP4053026B2 (ja) | 2008-02-27 |
CN100406131C (zh) | 2008-07-30 |
US7762869B2 (en) | 2010-07-27 |
TW200607600A (en) | 2006-03-01 |
US7442112B2 (en) | 2008-10-28 |
KR20050114190A (ko) | 2005-12-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061003 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071120 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071204 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101214 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4053026 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101214 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111214 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121214 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121214 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131214 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
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|
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