JPH0622224B2 - パーティクルが少ないか又は含まない液化二酸化炭素の供給 - Google Patents
パーティクルが少ないか又は含まない液化二酸化炭素の供給Info
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- F17C2227/0388—Localisation of heat exchange separate
- F17C2227/039—Localisation of heat exchange separate on the pipes
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- F17C2265/00—Effects achieved by gas storage or gas handling
- F17C2265/01—Purifying the fluid
- F17C2265/012—Purifying the fluid by filtering
Description
【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明は、パーティクルの少ない液化炭酸ガスの供給方
法及びその液化炭酸ガスを使用しての被洗浄物の表面上
のパーティクル等を除去する方法に関する。
法及びその液化炭酸ガスを使用しての被洗浄物の表面上
のパーティクル等を除去する方法に関する。
発明が解決すべき課題 半導体工業に使用されるウェーハーは、最近は超小型化
され、線と線との間隔はサブミクロン以下となってい
る。従って、ウェーハー上にパーティクルが存在すると
短絡を起こす。それがためウェーハーを排除しなければ
ならない。
され、線と線との間隔はサブミクロン以下となってい
る。従って、ウェーハー上にパーティクルが存在すると
短絡を起こす。それがためウェーハーを排除しなければ
ならない。
液体CO2は溶剤としてすぐれた性質を有し、被洗浄物
の表面のパーティクル等を容易に除去することができる
ことは知られている。しかしながら、本発明者は市販の
5ナイン(N)高純度液化CO2中には以下の表−1に
示すような多量のパーティクルが混入していることを発
見した。
の表面のパーティクル等を容易に除去することができる
ことは知られている。しかしながら、本発明者は市販の
5ナイン(N)高純度液化CO2中には以下の表−1に
示すような多量のパーティクルが混入していることを発
見した。
このようなCO2のドライアイススノーによるウェーハ
ー等洗浄では、パーティクルを除去すると同時にパーテ
ィクルを新たに付着させてしまう為使用できなかった。
ー等洗浄では、パーティクルを除去すると同時にパーテ
ィクルを新たに付着させてしまう為使用できなかった。
課題を解決すべき手段 一般に液化CO2中のパーティクルはフィルターで除去
するのが一般的である。液化CO2を液体のままフィル
ターに通じてみた結果を表−2に示す。すなわち液化C
O2中のパーティクルはフィルターではほとんど除去で
きない。
するのが一般的である。液化CO2を液体のままフィル
ターに通じてみた結果を表−2に示す。すなわち液化C
O2中のパーティクルはフィルターではほとんど除去で
きない。
そこで本発明者は液化CO2を蒸発させた後ガス状にて
フィルターを通した結果を表−3に示す。液化CO2と
は異なり、CO2ガスの状態イはパーティクルをほぼ 1
00%除去できることを発見した。
フィルターを通した結果を表−3に示す。液化CO2と
は異なり、CO2ガスの状態イはパーティクルをほぼ 1
00%除去できることを発見した。
すなわち液化CO2を一度蒸発させた後CO2ガスとし
てフィルターに通じパーティクルをほぼ100 %除去した
後、再液化すればパーティクルの少い液化CO2を得る
ことが出来る。
てフィルターに通じパーティクルをほぼ100 %除去した
後、再液化すればパーティクルの少い液化CO2を得る
ことが出来る。
本発明は上記発見に基づいてなされた。
本発明は、液化CO2を蒸発させ、CO2ガスとした
後、そのCO2ガスをフィルターに通しCO2ガス中の
パーティクルを除去した後、冷却して再液化を行ない、
そのパーティクルの少い又はパーティクルを含まない液
化CO2をノズルより噴出させ、微細なドライアイスス
ノーを含むCO2ガス及び/又は液化CO2を吹きつけ
ることにより被洗浄物の表面上のパーティクル等を除去
する方法に関する。
後、そのCO2ガスをフィルターに通しCO2ガス中の
パーティクルを除去した後、冷却して再液化を行ない、
そのパーティクルの少い又はパーティクルを含まない液
化CO2をノズルより噴出させ、微細なドライアイスス
ノーを含むCO2ガス及び/又は液化CO2を吹きつけ
ることにより被洗浄物の表面上のパーティクル等を除去
する方法に関する。
本発明の方法を第1図により説明する。第1図にパーテ
ィクルの少い液化炭酸ガスの供給方法を示す。
ィクルの少い液化炭酸ガスの供給方法を示す。
液化CO2貯槽1よりの液化CO2は蒸発器2によりC
O2ガスとなりフィルター3によりパーティクルを除去
された後、液化器4により再液化されニードル弁5、フ
ィルター6を通りノズル7より噴出された微細なドライ
アイススノーとなりウェーハー等上に吹きつけられ、ウ
ェーハー等上のパーティクルを除去する。
O2ガスとなりフィルター3によりパーティクルを除去
された後、液化器4により再液化されニードル弁5、フ
ィルター6を通りノズル7より噴出された微細なドライ
アイススノーとなりウェーハー等上に吹きつけられ、ウ
ェーハー等上のパーティクルを除去する。
フィルター3以後の配管、弁、ノズルはパーティクルの
発生を抑える為、内面が平滑で清浄な電解又は化学研磨
管を使用する。
発生を抑える為、内面が平滑で清浄な電解又は化学研磨
管を使用する。
CO2貯槽1の代りに、市販のCO2収用容器(ガス取
り用又は液取り用)を使用しても良い。
り用又は液取り用)を使用しても良い。
本発明において被洗浄物とはウェーハー、コンパクトデ
ィスク、レーザーディスク、レンズ等である。
ィスク、レーザーディスク、レンズ等である。
一般に、ウェーハー等の表面に液体CO2を吹きつける
とウェーハー等に急冷され表面に露ができて、ウェーハ
ー等は水で濡れる。これはこのような水を乾燥するのに
時間がかかり、又このような水分の附着によってウェー
ハー等の表面が汚れる可能性もある。このような不備を
避けるためにウェーハー等をN2雰囲気の室に置き、液
化CO2を吹きかけても良い。又ウェーハー等を電気ヒ
ーターによって加熱しても良い。上記両方の手段を同時
に採用しても良い。
とウェーハー等に急冷され表面に露ができて、ウェーハ
ー等は水で濡れる。これはこのような水を乾燥するのに
時間がかかり、又このような水分の附着によってウェー
ハー等の表面が汚れる可能性もある。このような不備を
避けるためにウェーハー等をN2雰囲気の室に置き、液
化CO2を吹きかけても良い。又ウェーハー等を電気ヒ
ーターによって加熱しても良い。上記両方の手段を同時
に採用しても良い。
このパーティクルの少い液化CO2を清浄な容器に充填
し供給すれば同一の目的を達成できるように思われる
が、この場合液化CO2保存タンクの内面を複合電解研
磨した後超純水洗浄をする必要があり、容器の製作に多
くの費用がかかり実際的でない。第1図に示す様にウェ
ーハー洗浄を行う現場に液化器4を設置しそのまま液化
CO2を供給すれば費用もかかわらず実際的である。液
化器4を電解研磨管にて製作するのは容易である。本方
法によりウェーハー洗浄等に使用するパーティクルの少
い液化CO2を現場にて安く供給できる。
し供給すれば同一の目的を達成できるように思われる
が、この場合液化CO2保存タンクの内面を複合電解研
磨した後超純水洗浄をする必要があり、容器の製作に多
くの費用がかかり実際的でない。第1図に示す様にウェ
ーハー洗浄を行う現場に液化器4を設置しそのまま液化
CO2を供給すれば費用もかかわらず実際的である。液
化器4を電解研磨管にて製作するのは容易である。本方
法によりウェーハー洗浄等に使用するパーティクルの少
い液化CO2を現場にて安く供給できる。
第1図は本発明方法を実施するための好ましい態様の装
置を示す。 1……液化CO2貯槽、2……CO2蒸発器 3……フィルター、4……液化器 5……ニードル弁、6……フィルター 7……ノズル
置を示す。 1……液化CO2貯槽、2……CO2蒸発器 3……フィルター、4……液化器 5……ニードル弁、6……フィルター 7……ノズル
Claims (4)
- 【請求項1】液化CO2を蒸発させ、CO2ガスとした
後、そのCO2ガスをフイルターに通してCO2ガス中
のパーティクルを除去した後、冷却して再液化すること
によって得られたパーティクルの少ない又はパーティク
ルを含まない液化CO2を使用して被洗浄物の表面上の
パーティクル等を除去する方法。 - 【請求項2】特許請求の範囲第1項記載のパーティクル
の少ない又はパーティクルを含まない液化CO2をノズ
ルより噴出させ、ドライアイススノーを含むCO2ガス
及び/又は液化CO2を吹きつけることにより被洗浄物
の表面上のパーティクル等を除去する方法。 - 【請求項3】その被洗浄物が窒素雰囲気中で保持された
状態でドライアイススノーを吹きつける特許請求の範囲
第2項記載の方法。 - 【請求項4】その被洗浄物が加熱された状態で、ドライ
アイススノーを吹きつける特許請求の範囲第2又は3項
記載の方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63051870A JPH0622224B2 (ja) | 1988-03-05 | 1988-03-05 | パーティクルが少ないか又は含まない液化二酸化炭素の供給 |
US07/308,856 US4972677A (en) | 1988-03-05 | 1989-02-09 | Method of cleaning wafers or the like |
EP89302176A EP0332356B1 (en) | 1988-03-05 | 1989-03-03 | Supply of carbon dioxide |
DE8989302176T DE68906293T2 (de) | 1988-03-05 | 1989-03-03 | Zufuhr von kohlendioxid. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63051870A JPH0622224B2 (ja) | 1988-03-05 | 1988-03-05 | パーティクルが少ないか又は含まない液化二酸化炭素の供給 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01225322A JPH01225322A (ja) | 1989-09-08 |
JPH0622224B2 true JPH0622224B2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=12898914
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63051870A Expired - Lifetime JPH0622224B2 (ja) | 1988-03-05 | 1988-03-05 | パーティクルが少ないか又は含まない液化二酸化炭素の供給 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4972677A (ja) |
EP (1) | EP0332356B1 (ja) |
JP (1) | JPH0622224B2 (ja) |
DE (1) | DE68906293T2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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