KR20050114190A - 표면세정용 승화성 고체입자 분사용 노즐 및 이를 이용한세정방법 - Google Patents

표면세정용 승화성 고체입자 분사용 노즐 및 이를 이용한세정방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 노즐 및 피세정물의 표면에서 극저온의 스노우에 의해 성에가 발생되는 것을 방지할 수 있는 승화성 고체입자 분사용 노즐에 관한 것으로, 세정매체 공급원으로부터 유입되는 세정매체를 승화성 고체입자를 포함하는 스노우 상태로 상변화시키는 세정매체 블록; 상기 세정매체 블록으로부터 유입되는 세정매체 스노우를 단열팽창에 의해 성장시켜 피세정물의 표면으로 분사하는 노즐 블록; 캐리어가스 공급원으로부터 유입되는 캐리어가스를 상기 노즐 블록에 공급하여 상기 세정매체 스노우와 혼합하는 캐리어가스 블록; 및 캐리어가스 공급원으로부터 공급되는 캐리어가스의 적어도 일부를 가열하는 히터를 포함하는 구성이다. 또한, 본 발명은 장비 구성시 노즐까지 공급되어지는 라인 즉, CO2 저장탱크에서 솔레노이드밸브를 거쳐 유량조절밸브의 감압을 통해 생성되어지는 드라이아이스 미립자와 일부 액체 CO2가 분사 노즐에 유입된 후 캐리어가스인 N2 또는 정화된 공기와 혼합되어 분사되어지는 구조를 이룬다. 본 발명은 솔레노이드밸브의 설치를 통해 CO2의 공급을 자동으로 제어할 수 있고, 아울러 캐리어가스 블록 또는 노즐 블록의 출구측 단부에 열전대 센서를 추가로 장착함으로써 자동화 장비 구성시 노즐에서 드라이아이스의 분사 유무를 확인할 수 있게 된다.

Description

표면세정용 승화성 고체입자 분사용 노즐 및 이를 이용한 세정방법{Nozzle for Injecting Sublimable Solid Particles Entrained in Gas for Cleaning Surface and Method for Cleaning Surface using the Nozzle}
본 발명은 피세정물의 표면으로 CO2 스노우나 Ar 스노우와 같은 승화성 고체입자를 분사하는 노즐에 관한 것이고, 구체적으로는 노즐 및 피세정물의 표면에서 극저온의 스노우에 의해 성에가 발생되는 것을 방지할 수 있는 승화성 고체입자 분사용 노즐에 관한 것이다.
소위 CO2 스노우라 불리는 고체 입자와 가스가 혼재된 상태의 이산화탄소를 이용하여 반도체 웨이퍼나 LCD(Liquid Crystal Display) 기판과 같은 피세정물의 표면에 손상을 입히지 않고도 피세정물의 표면으로부터 미세한 오염물 입자를 제거할 수 있다는 것이 알려져 있다.
CO2 스노우의 경우 노즐 내에 구비된 벤튜리를 통과하면서 고체 입자가 생성된 다음 성장하여 피세정물의 표면으로 분사되며, 고체 입자가 피세정물에 충돌할 때의 충격 에너지에 의해 피세정물의 표면으로부터 미세한 오염물 입자를 제거한다. N2와 같은 불활성 가스(통상, 캐리어 가스라고 한다)를 이용하여 CO2 스노우를 가속함으로써 CO2 스노우의 충격 에너지를 증대시키기도 한다. 피세정물의 표면에 충돌하여 오염물을 제거한 CO2 스노우는 곧바로 승화됨으로써 피세정물의 표면에 잔존물을 남기지도 않는 장점도 있다. CO2 뿐만 아니라 Ar 등과 같은 승화성 고체 입자를 이용하여 이러한 방식의 세정을 행할 수 있다.
그러나, 이와 같은 CO2 스노우를 이용한 세정에 있어서, CO2 스노우의 온도가 -60℃ 이하로 매우 낮기 때문에 노즐의 표면 및 피세정물의 표면에서 공기 중의 수분이 응결되어 성에가 발생되는 문제가 있다. 성에가 발생되면 공기 중의 오염물이 기판의 표면에 잔류될 수 있으며, 이는 반도체 웨이퍼나 LCD 기판과 같이 매우 정밀한 세정이 요구되는 상황에서는 치명적이다.
이에 따라, 통상적으로는 노즐과 피세정물을 밀폐된 챔버 내에 수용하고 챔버 내부를 고온 건조한 환경으로 유지하여 성에가 발생되는 것을 방지하고 있다. 이 경우 건조한 환경에서 정전기가 발생되어 피세정물의 표면으로부터 이탈된 오염물 입자가 피세정물의 표면에 재부착될 우려가 있기 때문에 정전기의 발생을 방지하기 위한 별도의 기구를 필요로 한다. 이는 세정 환경을 제한하고 많은 부속 기구를 필요로 하므로 바람직하지 않다.
상기와 같은 사정을 감안하여 안출된 본 발명은, 별도의 환경 제어가 없이도 노즐 및 피세정물의 표면에 성에가 발생되는 것을 방지할 수 있는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐 및 이를 이용한 표면세정방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 세정매체 공급원으로부터 유입되는 세정매체를 승화성 고체입자를 포함하는 스노우 상태로 상변화시는 세정매체 블록; 상기 세정매체 블록으로부터 유입되는 세정매체 스노우를 단열팽창에 의해 성장시켜 피세정물의 표면으로 분사하는 노즐 블록; 캐리어가스 공급원으로부터 유입되는 캐리어가스를 세정매체 스노우와 혼합하는 캐리어가스 블록; 및 캐리어가스 공급원으로부터 공급되는 캐리어가스의 적어도 일부를 가열하는 히터를 포함한다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 분사노즐은 세정매체 블록의 입구측에 설치되어 세정매체 블록의 출구로 공급되는 세정매체의 유량을 제어하기 위한 유량조절밸브를 더 포함한다.
상기 노즐 블록은 상기 세정매체 블록으로부터 유입되는 세정매체 스노우를 단열팽창시켜 성장시키는 벤튜리와; 상기 벤튜리를 감싸도록 형성되고 캐리어가스 블록으로부터 유입되는 캐리어가스의 적어도 일부가 유입되는 성에방지 통로를 더 가진다. 캐리어가스 블록으로부터 상기 노즐 블록의 벤튜리 및 성에방지통로로 각각 공급되는 캐리어가스의 비는 9:1 내지 7:3이다.
히터는 캐리어가스 공급원, 캐리어가스 공급원으로부터 캐리어가스 블록으로 캐리어가스가 공급되는 경로 또는 캐리어가스 블록 중 적어도 어느 일측에 설치될 수 있다. 그렇지 않으면, 히터는 노즐 블록의 성에방지통로에 설치된다.
본 발명을 멀티 노즐에 적용할 경우, 본 발명에 따른 분사노즐은 세정매체 공급원과 연결되는 입구와, 세정매체를 승화성 고체입자를 포함하는 스노우 상태로 상변화시키도록 병렬로 배치되는 다수의 오리피스로 이루어지는 출구를 가지는 세정매체 블록; 세정매체 블록의 오리피스에 의해 형성된 세정매체 스노우가 유입되는 다수의 입구와, 각 입구로 유입된 세정매체 스노우를 단열팽창시켜 성장시키기 위한 다수의 벤튜리와, 벤튜리에 의해 성장한 세정매체 스노우를 피세정물의 표면으로 분사하도록 각 벤튜리와 소통하는 다수의 출구를 가지는 노즐 블록; 캐리어가스 공급원과 연결되는 입구와, 캐리어가스가 세정매체 스노우와 혼합되도록 노즐 블록의 다수의 입구와 소통하는 출구를 가지는 캐리어가스 블록; 및 캐리어가스 공급원으로부터 공급되는 캐리어가스를 가열하기 위한 히터를 포함한다.
본 발명의 멀티노즐 역시, 세정매체 블록의 입구측에 설치되어 세정매체 블록의 출구로 공급되는 세정매체의 유량을 제어하기 위한 유량조절밸브를 더 포함할 수 있다.
노즐 블록의 각 벤튜리는 직렬로 배열되는 제 1 벤튜리 및 제 2 벤튜리로 이루어져 세정매체 스노우를 두 번에 걸쳐 성장시킨다. 바람직하게는, 제 1 벤튜리와 제 2 벤튜리 사이에 세정매체 스노우와 캐리어가스의 혼합을 촉진하기 위하여 일정한 내경을 가지는 중간 통로가 설치된다.
캐리어가스 블록과 세정매체 블록의 배치에 있어서, 캐리어가스 블록이 노즐 블록의 입구측에 설치되고, 세정매체 블록은 상기 노즐 블록의 상측에 설치되며, 세정매체 블록의 오리피스와 소통하는 노즐 블록의 입구는 벤튜리의 드로틀 후단과 소통할 수 있다. 대안적으로, 캐리어가스 블록이 상기 세정매체 블록을 둘러싸도록 형성되어 노즐 블록의 전방에 결합될 수도 있다.
노즐 블록은 벤튜리를 감싸도록 형성되고 캐리어가스 블록의 출구와 소통하는 성에방지통로를 더 가진다. 여기서, 캐리어가스 블록으로부터 상기 노즐 블록의 벤튜리 및 성에방지통로로 각각 공급되는 캐리어가스의 비는 9:1 내지 7:3이다.
히터는 노즐 블록의 성에방지통로에 설치될 수도 있고, 그렇지 않으면 히터는 캐리어가스 공급원, 캐리어가스 공급원으로부터 캐리어가스 블록으로 캐리어가스가 공급되는 경로 또는 캐리어가스 블록 중 적어도 어느 일측에 설치될 수 있다.
세정매체 블록 또는 노즐 블록의 출구측 단부에는 CO2 공급 유무를 확인하기 위한 열전대 센서가 더 구비되고, 이 열전대 센서가 CO2 분사시 발생되는 온도변화를 감지함으로써 본 발명의 노즐에서 CO2 공급 유무를 확인할 수 있게 된다.
본 발명의 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐은 그 입구측에 솔레노이드밸브를 추가로 설치하여 전기적 신호에 따른 개·폐 작용을 통해 CO2의 공급을 제어할 수 있다.
상술한 모든 경우에 있어서, 세정매체는 CO2 또는 Ar이고, 캐리어가스는 N2 또는 공기인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 또다른 양태는 세정매체를 승화성 고체입자를 포함하는 스노우 상태로 상변화시킨 다음 캐리어가스와 혼합하여 단열팽창시켜 피세정물의 표면으로 분사하는 승화성 고체입자를 이용한 표면세정방법에 있어서, 세정매체와 캐리어가스가 혼합되기 전에 캐리어 가스의 적어도 일부를 가열하는 단계를 포함하는 승화성 고체입자를 이용한 표면세정방법을 제공한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.
a. 싱글 노즐
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐을 도시한다. 도 1의 노즐은 승화성 고체입자의 출구가 하나인 싱글 노즐이다.
도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 싱글 노즐은 세정매체 블록(110)과, 유량조절밸브(120)와, 캐리어가스 블록(130)과, 노즐 블록(140) 및 히터(150)를 포함한다. 여기서, 세정매체는 본 발명의 노즐을 이용하여 피세정물의 표면 세정에 사용될 수 있는 승화성의 CO2, Ar 등의 물질을 통칭한다.
세정매체 블록(110)은 대략 원통관 형상의 부재로서, 후단에 형성된 입구는 관로를 통해 CO2 탱크와 같은 세정매체 공급원(미도시)에 연결된다. 세정매체 블록(110)의 전단에 형성되는 출구는 미세한 직경을 가지는 오리피스(112)로 이루어진다. 바람직하게는, 오리피스(112)는 세정매체 블록(110)의 전방으로 길게 바늘처럼 돌출된다. 그리고, 세정매체 블록(110)의 입구에 가까운 일측에 유량조절밸브(120)가 설치됨으로써, 출구로 공급되는 세정매체의 공급 유량을 제어할 수 있다. 대안적으로 유량조절밸브(120)는 세정매체 블록(110)의 입구에 연결되는 관로 상에 설치될 수도 있다.
캐리어가스 블록(130)은 세정매체 블록(110)의 외주를 감싸며, 그 입구는 관로를 통해 캐리어가스 공급원(미도시)과 연결된다. 그리고, 캐리어가스 블록(130)의 출구는, 후술하는 바와 같이, 세정매체 블록(110)의 출구와 함께 노즐 블록(140)의 입구와 소통한다. 바람직하게는, 캐리어가스 블록(130)의 출구는 세정매체 블록(110)의 출구, 즉 오리피스(112)보다 약간 후방으로 치우친다. 캐리어가스로는 질소(N2)와 같은 불활성가스 또는 정화된 공기가 이용될 수 있다.
노즐 블록(140)은 그 입구가 세정매체 블록(110)의 출구 및 캐리어가스 블록(130)의 출구와 동시에 소통하도록 세정매체 블록(110) 및 캐리어가스 블록(130)의 전측에 결합된다. 따라서, 세정매체 블록(110)을 통해 공급되는 세정매체와 캐리어가스 블록(130)을 통해 공급되는 캐리어가스는 노즐 블록(140)의 입구에서 혼합된다. 노즐 블록(140)의 출구는 피세정물의 표면을 향하며, 입구와 출구 사이에 세정매체 입자, 즉 CO2 스노우를 성장시키기 위한 벤튜리(142)를 가진다.
또한, 노즐 블록(140)은 벤튜리(142)의 둘레로 형성되는 성에방지 통로(144)를 가진다. 이 성에방지 통로(144)는 별도의 입구 및 출구를 가지며, 성에방지통로(144)의 입구는 캐리어가스 블록(130)의 출구와 소통하여 캐리어가스 블록(130)으로부터 노즐 블록(140)으로 공급되는 캐리어가스 중 일부가 성에방지통로(144)로 유입되고, 출구는 노즐 블록(140)의 본 출구 둘레로 형성된다. 캐리어가스 블록(130)으로부터 노즐 블록(140)의 입구를 통해 벤튜리(142)로 공급되는 캐리어가스와 성에방지통로(144)로 공급되는 캐리어가스의 비는 9:1 내지 7:3 바람직하게는 8:2다.
히터(150)는 코일 형상을 가지는 전열선으로서 성에방지통로(144), 바람직하게는 통로(144)의 입구측에 설치된다. 이에 따라 성에방지통로(144)를 따라 흐르는 캐리어가스는 히터(150)에 의해 약 100 내지 200℃로 가열된 상태로 분사된다.
대안적으로, 히터(150)는 캐리어가스 공급원, 캐리어가스 블록(130) 또는 캐리어가스 공급원으로부터 캐리어가스 블록(130)으로 캐리어가스가 공급되는 경로 중 어느 일측에 설치될 수도 있다. 이 경우, 고온으로 가열된 캐리어가스는 성에방지통로(144) 뿐만 아니라 벤튜리(142)로도 공급된다. 이와 같이, 고온의 캐리어가스가 노즐 블록(140)의 벤튜리(144)로 공급되는 경우에도 CO2 스노우의 분사속도가 매우 빠르기 때문에 스노우 입자는 고온의 캐리어가스에 의해 녹기 전에 피세정물의 표면에 도달함으로써 세정효과를 충분히 발휘할 수 있다. 또한, 이 경우 성에방지통로(144)가 필요없으므로 구성이 보다 간단해질 수 있다. 그러나, 고온의 캐리어가스가 CO2 스노우와 혼합되지 않는 것이 벤튜리(144)에서의 입자 성장 등을 고려할 때 전체적인 세정 성능 측면에서는 더 유리할 것으로 판단되므로 도 1의 실시예가 더 바람직한 것으로 볼 수 있다.
이와 같은 구성을 가지는 본 발명의 싱글 노즐을 이용한 피세정물의 표면 세정은 다음과 같이 이루어진다.
세정매체인 CO2는 세정매체 공급원으로부터 세정매체 블록(110)으로 공급된다. 세정매체 블록(110)에 설치된 유량조절밸브(120)를 통해 세정매체의 유량을 제어함으로써 세정 능력을 떨어뜨리지 않고도 세정매체의 소모량을 최소화할 수 있다. 세정매체는 세정매체 블록(110)의 출구 오리피스(112)를 통해 노즐 블록(140)의 입구로 빠져나올 때 감압에 의한 단열팽창으로 가스와 고체 입자가 혼재된 스노우 상태로 변화된다.
캐리어가스는 캐리어가스 공급원으로부터 캐리어가스 블록(130)을 통해 노즐 블록(140)으로 공급되고, 노즐 블록(140)의 입구에서 CO2 스노우와 혼합된다. CO2 스노우와 캐리어가스가 혼합됨으로써 CO2 스노우는 가속되고, 벤튜리(142)를 통과하면서 팽창되어 스노우 중의 고체 입자가 성장한다. 벤튜리(142)를 통과한 CO2 스노우는 노즐 블록(140)의 출구를 통해 피세정물의 표면으로 분사되고, 운동에너지가 충격 에너지로 변화되면서 피세정물의 표면으로부터 오염물을 제거한다.
동시에, 캐리어가스 블록(130)으로부터 공급되는 캐리어가스 중 일부는 노즐 블록(140)의 성에방지통로(144)를 따라 흐르며, 이 때 성에방지통로(144)에 설치된 히터에 의해 대략 100 내지 200℃로 가열된다. 고온의 캐리어 가스가 극저온인 CO2 스노우가 통과하는 벤튜리(142)와 노즐 블록(140)의 표면 사이에서 흐르므로 노즐의 표면에서 성에가 발생되지 않는다. 또한, 노즐이 피세정물의 표면을 따라 이동할 때, CO2 스노우의 둘레로 피세정물의 표면에 분사되는 고온의 캐리어가스가 CO2 스노우에 의한 세정 전후에 피세정물의 표면을 가열, 건조시키므로 피세정물의 표면에서도 성에가 발생되지 않는다.
한편, 본 발명의 노즐에는 세정매체 공급원으로부터 공급되는 CO2의 분사 유무를 확인할 수 있도록 열전대 센서(160 또는 160a)를 설치할 수 있다. 이러한 열전대 센서(160 또는 160a)의 설치는, 실제 온도가 대략 -70℃에 육박하는 CO2에 의해 동결되는 것을 방지하기 위해 세정매체 블록(110)의 측단부나 또는 노즐 블록(140)의 일측에 설치할 수 있다. 그 예로서 도 1에 도시된 바를 참조하면, 상기 세정매체 블록(110) 측단부에 설치하는 경우, 열전대 센서(160)는 벤튜리(142)의 내측으로 이어지는 상기 세정매체 블록(110)의 출구측 단부, 즉 오리피스(112)의 외표면에 고정함이 바람직하다. 또한, 상기 노즐 블록(140)의 일측에 설치하는 경우에 있어서는 열전대 센서(160a)를 상기 성에방지통로(144)의 내부, 즉 벤튜리(142)의 외표면 상에 고정함이 바람직하다. 도면상에 도시하지는 않았지만, 열전대 센서(160 또는 160a)의 설치는 고정용 핀이나 벨트 등과 같은 소정의 체결수단을 이용할 수 있다.
이와같이 하여 상기 세정매체 블록(110) 또는 노즐블록(140) 단부에 열전대 센서(160 또는 160a)가 설치되고, 상기 세정매체 블록(110)을 통한 CO2의 공급 및 캐리어가스 블록(130)을 통한 N2의 공급이 이루어지는 과정에서 오리피스(112) 또는 벤튜리(142)의 표면에 고정된 열전대 센서(160 또는 160a)가 온도의 변화를 감지하게 되는 것이다. 이때, 실제로 열전대 센서(160 또는 160a)에 의해 감지되는 온도는 대략 -50℃ ∼ 0℃ 정도로 감지된다.
이와 같이 본 발명의 노즐에서는 CO2의 공급이 없을 때는 열전대 센서(160 또는 160a)에 의해 감지되는 온도가 0℃ 이상을 유지하다가, 막상 CO2의 공급이 이루어지면 세정매체 블록(110)의 주변 온도가 급감하면서 열전대 센서(160 또는 160a)에 의해 감지되는 온도가 0℃ 이하로 떨어지게 된다. 따라서, 본 발명의 노즐은 열전대 센서에 의해 감지되는 온도 변화를 통해 CO2 분사 유무를 확인할 수가 있는 것이다.
본 발명의 분사 노즐은 상술한 도 1의 형태를 변형하여 도 2와 같은 구조로 제공할 수 있다. 첨부된 도 2는 도 1에 따른 싱글노즐의 변형된 형태로서, 도 2a는 측방향의 종단면 구성을, 도 2b는 횡단면 구성을 각각 도시하고 있다. 이에 도시된 싱글노즐은 도 1과 달리 다수의 블록으로 구분되지 않고 하나의 노즐 블록(180)으로 이루어짐이 바람직하다. 이러한 노즐 블록(180)은 이의 입구로부터 출구측 단부에 이르기까지 세정매체(CO2 또는 Ar)의 분사를 위한 통로(181, 이하 '제1 통로' 라 한다)를 가지며, 이 제1 통로(181)는 CO2 스노우의 성장을 위해 입구로부터 출구에 이르기까지 도 1의 벤튜리(142)와 같이 벤튜리 형태로 구성할 수 있다. 이 경우, 제1 통로(181)에는 적어도 하나 이상의 벤튜리부를 구성할 수 있다. 또한, 제1 통로(180)는 도 2a에 도시된 바와 같이 그 입구(181)를 상대적으로 넓은 하나의 통로로 형성하고 출구(181b)는 반대로 좁은 다수의 통로로 구성할 수 있다.
본 변형예에서 노즐 블록(180)은 그 입구측이 캐리어가스 공급원(미도시)과 연결되며, 이를 통해 캐리어가스(→)인 N2 또는 공기(CDA; Clean dry air)가 유입된다. 또한, 노즐 블록(180)의 입구측 단부로부터 일정 거리만큼 이격되어진 표면에는 세정매체 공급원(미도시)과 연결되는 세정매체 유입구(182)가 형성되고, 이 유입구(182)를 통해 세정매체인 CO2(-->)가 공급된다. 세정매체 유입구(182)는 노즐 블록(180)의 내부로 연장하여 제1 통로(181)와 연결되며, CO2는 제1 통로(181) 안으로 유입된다. 제1 통로(181)의 외측으로 상기 노즐 블록(180)의 내주연은 캐리어가스(→)의 분사를 위해 통로(183, 이하 '제2 통로' 라 한다)로 이루어진다.
또한, 노즐 블록(180)의 입구측에는 캐리어가스의 유동을 안내하기 위한 가이드(184)가 구비된다. 이 가이드(184)는 외측 방향인 상기 노즐 블록(180)의 내주연부로 향하여 제2 통로(183)로 이어지며, 캐리어가스 공급원으로부터 공급되는 대부분의 N2 또는 공기(→)는 상기 가이드(184)에 의해 제2 통로(183) 안으로 유입되어 노즐 블록(180)의 출구를 향해 유동하게 된다. 도 2a 및 도 2b에 도시하는 바와 같이, 가이드(184)는 그 중앙이 일정 크기로 천공되어진 형태로서 이는 제1 통로(181)와 연통하며, 이를 통해 캐리어가스(→)인 N2 또는 공기의 일부가 유입되어 상기 세정매체 유입구로부터 운반된 CO2(-->)와 혼합된 상태로 노즐 블록(180)의 출구를 통해 외부로 분출되는 것이다.
도 2a의 미설명된 부호 "182a"는 '오리피스'로서, 전술한 바와 같이 세정매체인 CO2를 승화성 고체입자를 포함하는 스노우 상태로 상변화시키는 역할을 하게 되며, 이는 다수개로 이루어져 이들 간에 병렬로 배치된 형태로 제공될 수도 있다.
한편, 노즐 블록의 출구측 단부에는 세정매체 공급원으로부터 공급되는 CO2의 분사 유무를 확인할 수 있도록 상기 도 1과 같이 별도의 열전대 센서(185)를 추가로 설치할 수 있다. 또한, 상기 제2 통로의 경우 도면에 도시하지는 않았지만 상기 도 1의 성에방지통로(144)의 기능을 제공하기 위해 별도의 히터를 추가로 설치할 수 있다.
b. 멀티 노즐 1
도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐을 도시하고, 도 4는 도 2의 Ⅲ-Ⅲ선을 따른 단면구성을 도시한다. 도 3 및 도 4의 실시예는 참조에 의해 본 발명의 명세서에 그 내용이 포함되는 본 출원인의 WO02/075799 A1(명칭 '표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐')에 개시된 멀티 노즐에 본 발명의 기술적 사상을 부가한 것이다.
도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 멀티 노즐은 세정매체 블록(210), 캐리어가스 블록(230), 노즐 블록(240) 및 히터(250)를 포함한다. 노즐 블록(240)은 제 1 벤튜리 블록(240a)과 제 2 벤튜리 블록(240c)을 가지거나 또는 제 1 및 제 2 벤튜리 블록(240a, 240c) 사이에 개재되는 중간 블록(240b)을 더 가질 수도 있다(본 실시예에서는 중간 블록을 포함한다). 캐리어가스 블록(230)의 출구측으로부터 노즐 블록(240)의 제 1 벤튜리 블록(240a)이 결합되고, 중간 블록(240b), 제 2 벤튜리 블록(240c)이 차례로 배치된다. 세정매체 블록(210)은 제 1 벤튜리 블록(240a)의 상부에 놓인다.
캐리어가스 블록(230)에 있어서, 입구는 캐리어가스 공급원(202)과 연결되고, 입구에서부터 출구까지 대략 부채꼴로 확장된다.
노즐 블록(240)의 제 1 및 제 2 벤튜리 블록(240a, 240c)은 폭방향으로 평행하게 배치되는 다수의 벤튜리(242a, 242c)를 가진다. 중간 블록(240b)의 경우 제 1 벤튜리 블록(240a)의 벤튜리(242a)와 제 2 벤튜리 블록(240c)의 벤튜리(242c)를 연결하도록 일정한 내경을 가지는 다수의 통로(242b)를 가진다. 필요에 따라, 도면에서와 같이, 중간 블록의 통로들의 입구측이 하나의 공통 공간으로 형성될 수도 있다.
그리고, 노즐 블록(240)의 벤튜리(242a, 242c) 및 통로(242b) 둘레를 따라 연장하는 성에방지통로(244)가 형성된다(도 4의 단면도 참조). 성에방지통로(244)의 입구는 캐리어가스 블록(230)의 출구와 소통되며, 벤튜리(242a) 및 성에방지통로(244)로 공급되는 캐리어가스의 비는 9:1 내지 7:3, 바람직하게는 8:2다. 제조상의 문제를 고려하여 다수의 성에방지통로(244)가 노즐 블록(240)의 외주를 따라 배열되는 것이 바람직하다.
세정매체 블록(210)의 경우, 입구가 세정매체 공급원(204)과 연결되고, 입구측에 가까운 관로 상에 유량조절밸브(220)가 설치된다. 출구는 입구에 대해 직각으로 형성되고, 캐리어가스 블록(230)과 마찬가지로 부채꼴로 확장되며, 제 1 벤튜리 블록(240a)의 각 벤튜리(242a)의 드로틀 하단과 소통하는 다수의 오리피스(212)를 가진다. 제조상의 문제를 고려하여, 제 1 벤튜리 블록(240a)의 상면에 형성되는 세정매체 입구(246)가 오리피스들(212)의 역할을 대신할 수 있다.
히터(250)는 노즐 블록(240)의 성에방지 통로(244)에 설치된다. 다수의 성에방지통로(244)가 구비될 경우 히터도(250) 다수개가 성에방지통로(244)에 각각 구비되는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 노즐은 전술한 싱글노즐, 즉 도 1에 도시된 바와 마찬가지로 CO2의 분사 유무를 확인할 수 있도록 열전대 센서(260 또는 260a)를 구비할 수 있다. 이러한 열전대 센서(260 또는 260a)의 설치는 CO2에 의해 동결되는 것을 방지하기 위해 도 4에 도시한 바와 같이 세정매체 블록(110)의 출구측 단부 또는 벤튜리 블록(240a 또는 240c)의 단부에 고정되도록 함이 바람직하며, 도시하지는 않았지만 고정핀 또는 벨트 등의 소정의 체결수단을 이용하여 고정할 수 있다. 이와 같이 하여 본 발명의 노즐은 세정매체 블록(110) 또는 벤튜리 블록(240a 또는 240c)의 단부에 설치된 열전대 센서(260 또는 260a)에 의해 감지되는 온도변화를 통해 CO2 분사 유무를 확인할 수가 있는 것이다.
이와 같은 구성을 가지는 본 발명의 멀티 노즐의 작용은 다음과 같다.
캐리어가스는 캐리어가스 공급원(202)으로부터 캐리어가스 블록(230)을 통해 노즐 블록(240)으로 공급된다. 제 1 벤튜리 블록(240a)의 각 벤튜리(242a)를 통과하면서 캐리어가스는 가속되며, 세정매체 블록(210)의 오리피스(212)를 통해 공급되는 세정매체는 CO2 스노우로 변하여 캐리어가스와 혼합된 다음 중간 블록(240b) 및 제 2 벤튜리 블록(240c)을 거쳐 피세정물의 표면으로 분사된다. CO2 스노우는 제 1 벤튜리 블록(240a)의 벤튜리(242a)에서 1차로 단열팽창된 다음 중간 블록(240b)의 통로(242b)를 통과하면서 입자가 성장하고 캐리어가스와 완전히 혼합되며, 제 2 벤튜리 블록(240c)의 벤튜리(242c)를 통과하면서 2차로 단열팽창되어 스노우 입자의 크기는 최대화될 수 있다.
동시에 캐리어가스 블록(230)으로부터 노즐 블록(240)의 성에방지통로(244)로 공급된 캐리어가스는 히터(250)에 의해 100 내지 200℃의 고온으로 가열되어 노즐 블록(240)을 통과하여 피세정물의 표면으로 분사된다.
c. 멀티 노즐 2
도 5는 본 발명의 또다른 실시예를 도시하고, 도 6은 도 4의 Ⅴ-Ⅴ선을 따른 단면구성을 도시한다. 도 5 및 도 6의 실시예는 도 3 및 도 4의 멀티노즐을 변형한 것이다.
즉, 도 3 및 도 4의 멀티 노즐에서 세정매체 블록(210')을 제 1 벤튜리 블록(240a)의 상부에서 제 1 벤튜리 블록(240a)의 입구측으로 이동시키고 캐리어가스 블록(230')을 세정매체 블록(210')의 외주를 둘러싸도록 설치함으로써 도 5 및 도 6의 실시예가 이루어진다. 이와 같은 도 5 및 도 6의 실시예의 세정매체 블록(210') 및 캐리어가스 블록(230')의 결합 관계는 싱글 노즐의 경우와 유사하다.
세정매체 블록(210')의 출구는 캐리어가스 블록(230')의 출구측에 위치하며 소정간격으로 평행하게 형성된 다수의 오리피스(212')로 이루어진다. 이에 따라, 세정매체 블록(210')의 오리피스(212')로부터 캐리어가스 블록(230')의 출구측 공간으로 토출되는 세정매체는 압력강하에 의한 단열팽창으로 스노우 상태로 변환된다.
캐리어가스 블록(230')의 입구는 블록(230')의 양측에 각각 하나씩 형성되어 캐리어가스 공급원(미도시)으로부터 공급되는 캐리어가스는 캐리어가스 블록(230')의 양측으로 공급된다. 그리고, 캐리어가스 블록(230')의 출구는 세정매체 블록(210')의 출구를 감싸는 공간으로 형성되어 있고, 노즐 블록(240)의 제 1 벤튜리블록(240a)의 벤튜리들(242a) 및 성에방지통로(244)와 소통한다. 성에방지통로(244)는 싱글 노즐의 경우와 유사하게 세정매체 블록(210')의 출구보다 상류측에서 캐리어가스 블록(230')의 출구측 공간과 소통한다. 이에 따라, 세정매체는 성에방지통로(244)로 유입되지 않고, 캐리어가스만 성에방지통로(244)로 공급된다.
한편, 제 1 벤튜리 블록(240a), 중간 블록(240b), 제 2 벤튜리 블록(240c) 및 성에방지통로(244)로 이루어지는 노즐 블록(240) 및 히터(250)의 구성은 도 3 및 도 4의 실시예와 동일하다. 따라서, 이에 대한 설명은 도 3 및 도 4의 실시예에 대한 설명으로 대신한다.
본 실시예에서 노즐은 도 1 및 도 3에 도시된 바와 같이 CO2의 분사 유무를 확인할 수 있는 열전대 센서(260' 또는 260'a)를 구비할 수 있으며, 이러한 열전대 센서(260' 또는 260'a)의 설치는 CO2에 의해 동결되는 것을 방지하기 위해 바람직하게는 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이 세정매체 블록(210')의 출구측 단부 또는 벤튜리 블록(240a 또는 240c)의 단부에 고정하게 된다. 물론, 도면으로 도시하지는 않았지만 열전대 센서(260' 또는 260'a)의 설치는 고정핀 또는 벨트 등의 체결수단을 이용하여 고정할 수 있다. 이와 같이 하여 본 발명의 노즐은 세정매체 블록(210') 또는 벤튜리 블록(240a 또는 240c)의 단부에 설치된 열전대 센서(260' 또는 260'a)에 의해 감지되는 온도변화를 통해 CO2 분사 유무를 확인할 수 있게 된다.
이상의 각기 다른 실시예로 도시한 본 발명의 분사 노즐은 도 7과 같은 구성으로부터 작동한다.
도 7은 상기 도 1 내지 도 6의 실시예를 통해 설명된 본 발명에 따른 분사 노즐의 작동 또는 사용상태를 개략 도시한 것으로, CO2 저장탱크(10)로부터 고압의 CO2 세정매체가 냉각기(30)에 공급되면 냉각기(30)는 이 CO2를 여과(filtering)하여 액체 CO2 로 상변화시킨 후 분사 노즐에 공급하게 된다. 이때, 액체 CO2의 공급 유량은 분사 노즐의 입구측에 구비된 유량조절밸브(120 또는 220)에 의해 조절되고, 이 유량조절밸브(120 또는 220)의 조절량에 따라 소량의 드라이아이스 미립자가 캐리어가스 공급원(20)으로부터 제공되는 질소(N2) 또는 공기와 함께 노즐 내부로 공급되는 것이다. 또한, 상기 도 1 내지 도 6의 실시예에서 설명하는 바와 같이 분사 노즐의 출구측에 설치된 열전대 센서(160, 160a, 260, 260a, 260',260'a)를 통해 CO2의 분사 유무를 확인할 수 있게 된다.
한편, 도 7에 도시하는 바와 같이, 본 발명의 분사 노즐은 액체 CO2를 공급하게 되는 상기 냉각기(30)와의 사이에 솔레노이드밸브(180)를 설치할 수 있다. 이러한 솔레노이드밸브(180)의 설치는, 전기적 신호에 의한 상기 솔레노이드밸브(180)의 개·폐 작용을 통해 액체 CO2의 공급을 제어될 수 있게 된다.
이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였다. 그러나, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 이하의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상의 요지를 벗어나지 않고 얼마든지 다양하게 변경실시할 수 있을 것이다.
상기된 바와 같이, 본 발명에 따른 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐은 고온의 캐리어가스를 노즐을 통해 직접 또는 노즐의 표면을 따라 분사함으로써 노즐 표면 및 피세정물의 표면에서 성에가 발생되는 것을 방지할 수 있다.
이와 같이, 성에가 발생될 우려가 없으므로 통상의 대기 중에서 세정작업을 실시할 수 있으며, 이에 따라 세정 환경을 건조하게 유지하기 위한 챔버 및 정전기 방지를 위한 각종 장비들이 필요없어 장치의 구성을 크게 단순화할 수 있을 뿐만 아니라, 승화성 고체입자를 이용한 세정 작업을 보다 폭넓고 자유롭게 실시할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 분사 노즐로서 단일 노즐에의 적용예를 도시한 단면도.
도 2a는 도 1에 따른 단일 노즐의 변형예로서, 측방향 구조를 보인 종단면도
도 2b는 도 2a에 따른 단일 노즐의 횡단면도
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 분사 노즐로서 멀티 노즐에의 적용예를 도시한 사시도.
도 4는 도 3의 Ⅲ-Ⅲ선을 따라 취한 단면도.
도 5는 멀티 노즐의 변형례를 도시한 사시도.
도 6은 도 5의 Ⅴ-Ⅴ선을 따라 취한 단면도.
도 7은 본 발명에 따른 분사 노즐의 사용 상태도.
* 도면의 주요 부분에 대한 설명 *
110 : 세정매체 블록 112 : 오리피스
120 : 유량조절밸브 130 : 캐리어가스 블록
140,180 : 노즐 블록 142 : 벤튜리
144 : 성에방지블록 150 : 히터
160, 160a, 185, 260, 260a, 260',260'a : 열전대 센서
170 : 솔레노이드밸브 181 : 제1 통로
182 : 세정매체 유입구 183 : 제2 통로
184 : 가이드

Claims (23)

  1. 세정매체 공급원으로부터 유입되는 세정매체를 승화성 고체입자를 포함하는 스노우 상태로 상변화시키는 세정매체 블록;
    상기 세정매체 블록으로부터 유입되는 세정매체 스노우를 단열팽창에 의해 성장시켜 피세정물의 표면으로 분사하는 노즐 블록;
    캐리어가스 공급원으로부터 유입되는 캐리어가스를 상기 노즐블록에 공급하여 세정매체 스노우와 혼합하는 캐리어가스 블록; 및
    캐리어가스 공급원으로부터 공급되는 캐리어가스의 적어도 일부를 가열하는 히터를 포함하는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 세정매체 공급원으로부터 유입되는 세정매체의 유량을 제어하기 위한 유량조절밸브를 더 포함하는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 노즐 블록은 상기 세정매체 블록으로부터 유입되는 세정매체 스노우를 단열팽창시켜 성장시키는 벤튜리와; 상기 벤튜리를 감싸도록 형성되고 상기 캐리어가스 블록으로부터 유입되는 캐리어가스의 적어도 일부가 유입되는 성에방지 통로를 더 가지는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 히터는 캐리어가스 공급원, 캐리어가스 공급원으로부터 상기 캐리어가스 블록으로 캐리어가스가 공급되는 경로 또는 상기 캐리어가스 블록 중 적어도 어느 일측에 설치되는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  5. 제 3 항에 있어서, 상기 노즐 블록의 성에방지통로에 히터가 설치되는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  6. 제 3 항에 있어서, 상기 캐리어가스 블록으로부터 상기 노즐 블록의 벤튜리 및 성에방지통로로 각각 공급되는 캐리어가스의 비는 9:1 내지 7:3인 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 세정매체는 CO2 또는 Ar인 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  8. 제 1 항에 있어서, 캐리어가스는 N2 또는 공기인 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  9. 세정매체 공급원과 연결되는 입구와, 세정매체를 승화성 고체입자를 포함하는 스노우 상태로 상변화시키도록 병렬로 배치되는 다수의 오리피스로 이루어지는 출구를 가지는 세정매체 블록;
    상기 세정매체 블록의 오리피스에 의해 형성된 세정매체 스노우가 유입되는 다수의 입구와, 상기 각 입구로 유입된 세정매체 스노우를 단열팽창시켜 성장시키기 위한 다수의 벤튜리와, 상기 벤튜리에 의해 성장한 세정매체 스노우를 피세정물의 표면으로 분사하도록 각 벤튜리와 소통하는 다수의 출구를 가지는 노즐 블록;
    캐리어가스 공급원과 연결되는 입구와, 캐리어가스가 세정매체 스노우와 혼합되도록 상기 노즐 블록의 다수의 입구와 소통하는 출구를 가지는 캐리어가스 블록; 및
    캐리어가스 공급원으로부터 공급되는 캐리어가스를 가열하기 위한 히터를 포함하는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 노즐 블록의 각 벤튜리는 직렬로 배열되는 제 1 벤튜리 및 제 2 벤튜리로 이루어진 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 제 1 벤튜리와 제 2 벤튜리 사이에 세정매체 스노우와 캐리어가스의 혼합을 촉진하기 위하여 일정한 내경을 가지는 중간 통로가 설치되는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  12. 제 9 항에 있어서, 상기 캐리어가스 블록이 상기 노즐 블록의 입구측에 설치되고, 상기 세정매체 블록은 상기 노즐 블록의 상측에 설치되며, 상기 세정매체 블록의 오리피스와 소통하는 상기 노즐 블록의 입구는 벤튜리의 드로틀 후단과 소통하는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  13. 제 9 항에 있어서, 상기 캐리어가스 블록이 상기 세정매체 블록을 둘러싸도록 형성되어 상기 노즐 블록의 전방에 결합되는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  14. 제 9 항에 있어서, 상기 노즐 블록은 상기 벤튜리를 감싸도록 형성되고 상기 캐리어가스 블록의 출구와 소통하는 성에방지통로를 더 가지는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  15. 제 1 항 또는 제 9 항에 있어서, CO2 분사시 발생되는 온도 변화를 감지하여 상기 CO2 공급 유무를 확인하는 열전대 센서를 더 구비한 것을 특징으로 하는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 열전대 센서는 세정매체 블록 또는 노즐 블록의 출구측 단부에 위치되는 것을 특징으로 하는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  17. 제 16 항에 있어서, 전기적 신호에 따른 개·폐 작용을 통해 CO2의 공급을 제어하기 위한 솔레노이드밸브를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  18. 제 1 항에 있어서, 상기 세정매체 블록, 노즐 블록 및 캐리어가스 블록을 상호 일체화하여 하나의 노즐 블록으로 구성한 것을 특징으로 하는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  19. 제 18 항에 있어서, 상기 노즐 블록은,
    이의 중앙에 입구로부터 출구에 이르는, 세정매체의 유동을 위한 제1 통로; 상기 제1 통로의 외측으로 노즐 블록의 내주연을 따라 형성되는, 캐리어가스의 유동을 위한 제2 통로; 및 세정매체의 공급을 위해 상기 노즐 블록의 표면에서 제2 통로로 연장되는 세정매체 유입구;를 포함하되, 상기 세정매체 유입구는 세정매체를 승화성 고체입자를 포함하는 스노우 상태로 상변화시키기 위해 상기 제1 통로와의 연결 단부가 오리피스 형태로 이루어지고, 상기 제1 통로는 세정매체를 단열팽창시켜 성장시키기 위해 그 내부가 적어도 하나 이상의 벤튜리 형태로 된 것을 특징으로 하는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  20. 제 19 항에 있어서, 상기 노즐 블록은,
    이의 입구부에 캐리어가스의 유동을 안내하기 위한 가이드를 구비하되, 이 가이드는 외측으로 상기 제2 통로와 연결되고 그 중앙이 천공되어 상기 제1 통로와 연통된 것을 특징으로 하는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  21. 제 20 항에 있어서, 상기 노즐 블록은,
    이의 출구측 단부 또는 피세정물의 표면에서 상기 극저온의 세정매체 스노우에 의해 성에가 발생되는 것을 방지하기 위해 상기 제2 통로에 히터를 설치하는 것을 특징으로 하는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  22. 제 21 항에 있어서, 상기 노즐 블록은,
    이의 출구측 단부에는 세정매체 공급원으로부터 공급되는 CO2의 분사 유무를 확인할 수 있도록 열전대 센서가 구비되는 것을 특징으로 하는 표면세정용 승화성 고체입자 분사노즐.
  23. 세정매체를 승화성 고체입자를 포함하는 스노우 상태로 상변화시키는 단계;
    상기 세정매체와 캐리어가스가 혼합되기 전의 캐리어가스의 적어도 일부를 가열하는 단계;
    상기 상변화된 세정매체 스노우를 캐리어가스와 혼합하여 단열 팽창시키는 단계; 및
    상기 단열 팽창된 세정매체 및 캐리어가스의 혼합물을 피세정물의 표면으로 분사하는 단계; 를 포함하는 승화성 고체입자를 이용한 표면세정방법.
KR1020040114260A 2004-05-31 2004-12-28 표면세정용 승화성 고체입자 분사용 노즐 및 이를 이용한세정방법 KR100725242B1 (ko)

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KR1020040114260A KR100725242B1 (ko) 2004-05-31 2004-12-28 표면세정용 승화성 고체입자 분사용 노즐 및 이를 이용한세정방법
US11/136,732 US7442112B2 (en) 2004-05-31 2005-05-25 Nozzle for spraying sublimable solid particles entrained in gas for cleaning surface
CNB2005100730166A CN100406131C (zh) 2004-05-31 2005-05-27 用于清洁表面的喷嘴及使用该喷嘴清洁表面的方法
TW094117686A TWI296224B (en) 2004-05-31 2005-05-30 Nozzle for spraying sublimable solid particles entrained in gas for cleaning surface and method of cleaning surface using the same
US12/061,833 US7762869B2 (en) 2004-05-31 2008-04-03 Nozzle for spraying sublimable solid particles entrained in gas for cleaning surface

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KR1020040114260A KR100725242B1 (ko) 2004-05-31 2004-12-28 표면세정용 승화성 고체입자 분사용 노즐 및 이를 이용한세정방법

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CN (1) CN100406131C (ko)
TW (1) TWI296224B (ko)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100751041B1 (ko) * 2006-09-08 2007-08-21 주식회사 케이씨텍 휴대용 건식세정장치
KR100756640B1 (ko) * 2006-07-10 2007-09-07 주식회사 케이씨텍 고체 분사노즐 및 대용량 고체 분사노즐
WO2014113220A1 (en) * 2013-01-15 2014-07-24 Applied Materials, Inc Cryogenic liquid cleaning apparatus and methods
KR101506654B1 (ko) * 2007-12-20 2015-03-27 레이브 엔.피., 인크. 노즐용 유체 분사 조립체
KR101616870B1 (ko) * 2015-04-17 2016-04-29 유상호 반도체 제조 공정에서의 승화성 고체 미립자 세정 모듈 장치
KR20180047658A (ko) * 2016-11-01 2018-05-10 주식회사 케이씨텍 이산화탄소 분사노즐
KR20190079067A (ko) * 2017-12-27 2019-07-05 (주) 엔피홀딩스 일체형 유체 분사장치
KR102312841B1 (ko) * 2021-03-16 2021-10-14 여정동 건식세정장치용 노즐 바 및 이를 갖는 세정유닛

Families Citing this family (97)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040101948A (ko) * 2004-05-31 2004-12-03 (주)케이.씨.텍 표면세정용 승화성 고체입자 분사용 노즐 및 이를 이용한 세정방법
DE102005005638B3 (de) * 2005-02-05 2006-02-09 Cryosnow Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen, Aktivieren oder Vorbehandeln von Werkstücken mittels Kohlendioxidschnee-Strahlen
JP2007275836A (ja) * 2006-04-11 2007-10-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 出入り口払い落とし装置
US7673638B1 (en) * 2006-06-16 2010-03-09 Western Digital Technologies, Inc. System and method to monitor particles removed from a component
DE102007018338B4 (de) * 2007-04-13 2010-09-23 Technische Universität Berlin Vorrichtung und Verfahren zum Partikelstrahlen mittels gefrorener Gaspartikel
US20090139539A1 (en) * 2007-11-29 2009-06-04 Joel Heimlich Method and apparatus for cleaning
JP5267286B2 (ja) * 2008-04-23 2013-08-21 新東工業株式会社 ノズル、ノズルユニット及びブラスト加工装置
US8313581B2 (en) * 2008-08-08 2012-11-20 Philip Bear Industrial cleaning system and methods related thereto
JP2010045138A (ja) * 2008-08-11 2010-02-25 Murata Machinery Ltd ノズル
US8731841B2 (en) 2008-10-31 2014-05-20 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for therapeutic delivery with frozen particles
US8858912B2 (en) 2008-10-31 2014-10-14 The Invention Science Fund I, Llc Frozen compositions and methods for piercing a substrate
US20100111857A1 (en) 2008-10-31 2010-05-06 Boyden Edward S Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles
US8551505B2 (en) 2008-10-31 2013-10-08 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for therapeutic delivery with frozen particles
US8788211B2 (en) 2008-10-31 2014-07-22 The Invention Science Fund I, Llc Method and system for comparing tissue ablation or abrasion data to data related to administration of a frozen particle composition
US9060934B2 (en) 2008-10-31 2015-06-23 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles
US8545855B2 (en) 2008-10-31 2013-10-01 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles
US8545857B2 (en) 2008-10-31 2013-10-01 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for administering compartmentalized frozen particles
US9072688B2 (en) 2008-10-31 2015-07-07 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for therapeutic delivery with frozen particles
US9060926B2 (en) 2008-10-31 2015-06-23 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for therapeutic delivery with frozen particles
US8725420B2 (en) 2008-10-31 2014-05-13 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles
US8731840B2 (en) 2008-10-31 2014-05-20 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for therapeutic delivery with frozen particles
US8762067B2 (en) 2008-10-31 2014-06-24 The Invention Science Fund I, Llc Methods and systems for ablation or abrasion with frozen particles and comparing tissue surface ablation or abrasion data to clinical outcome data
US8603496B2 (en) 2008-10-31 2013-12-10 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for biological remodeling with frozen particle compositions
US9056047B2 (en) 2008-10-31 2015-06-16 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for delivery of frozen particle adhesives
US9050070B2 (en) 2008-10-31 2015-06-09 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles
US9050317B2 (en) 2008-10-31 2015-06-09 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for therapeutic delivery with frozen particles
US8603495B2 (en) 2008-10-31 2013-12-10 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for biological remodeling with frozen particle compositions
US9060931B2 (en) 2008-10-31 2015-06-23 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for delivery of frozen particle adhesives
US8485861B2 (en) 2008-10-31 2013-07-16 The Invention Science Fund I, Llc Systems, devices, and methods for making or administering frozen particles
US9072799B2 (en) 2008-10-31 2015-07-07 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles
US8793075B2 (en) 2008-10-31 2014-07-29 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for therapeutic delivery with frozen particles
US8409376B2 (en) 2008-10-31 2013-04-02 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles
US8721583B2 (en) 2008-10-31 2014-05-13 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles
US8551506B2 (en) 2008-10-31 2013-10-08 The Invention Science Fund I, Llc Compositions and methods for administering compartmentalized frozen particles
US8187057B2 (en) * 2009-01-05 2012-05-29 Cold Jet Llc Blast nozzle with blast media fragmenter
GB0903682D0 (en) 2009-03-04 2009-04-15 Dyson Technology Ltd A fan
DE102009058211B4 (de) * 2009-12-15 2013-09-05 Venjakob Maschinenbau Gmbh & Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen, Aktivieren und Vorbehandeln eines Werkstücks mittels Kohlendioxidschneepartikeln
US8451578B1 (en) 2010-02-12 2013-05-28 Western Digital Technologies, Inc. Hard drive particle cleaning system and method
US8360827B1 (en) * 2010-03-09 2013-01-29 Coughtry Richard J Road marking removal system and method
TW201130606A (en) * 2010-03-12 2011-09-16 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Grit blasting device
JP5364029B2 (ja) * 2010-04-13 2013-12-11 株式会社カワタ ノズル装置
US8389066B2 (en) * 2010-04-13 2013-03-05 Vln Advanced Technologies, Inc. Apparatus and method for prepping a surface using a coating particle entrained in a pulsed waterjet or airjet
US10486260B2 (en) 2012-04-04 2019-11-26 Hypertherm, Inc. Systems, methods, and devices for transmitting information to thermal processing systems
GB2482547A (en) 2010-08-06 2012-02-08 Dyson Technology Ltd A fan assembly with a heater
PT2446792E (pt) * 2010-10-29 2015-02-18 Gruppo Cimbali Spa Peça de extremidade substituível para uma boca de descarga de vapor de uma máquina de café
US8881950B2 (en) * 2010-11-01 2014-11-11 Nordson Corporation Multiple component dispensing cartridge, mixing nozzle and method for reducing contact between fluids
CN102085452A (zh) * 2010-11-29 2011-06-08 中国环境科学研究院 一种用于选择性非催化还原脱硝工艺的还原剂雾化喷枪
KR101872671B1 (ko) * 2011-03-10 2018-07-02 에어 워터 가부시키가이샤 드라이아이스 스노우 분사 장치
US9309060B2 (en) * 2011-06-08 2016-04-12 Illinois Tool Works Inc. Conveying and alignment nozzle
KR101282739B1 (ko) * 2011-08-04 2013-07-05 (주)하이레벤 태양광 발전설비의 효율향상설비
KR101283878B1 (ko) * 2011-08-04 2013-07-08 (주)하이레벤 이상유동을 이용하는 태양광 발전설비의 효율향상설비
WO2013019005A2 (ko) * 2011-08-04 2013-02-07 (주)하이레벤 이상유동을 이용하는 태양광 발전설비의 효율향상설비
JP2013059711A (ja) * 2011-09-12 2013-04-04 Japan Display East Inc 洗浄方法
US8883565B2 (en) * 2011-10-04 2014-11-11 Infineon Technologies Ag Separation of semiconductor devices from a wafer carrier
CN102437021A (zh) * 2011-11-30 2012-05-02 上海华力微电子有限公司 化学机械研磨中的清洗方法
JP6115930B2 (ja) * 2012-03-12 2017-04-19 国立研究開発法人産業技術総合研究所 多段分割流路型混合器
US20150332071A1 (en) 2012-04-04 2015-11-19 Hypertherm, Inc. Configuring Signal Devices in Thermal Processing Systems
GB2500903B (en) 2012-04-04 2015-06-24 Dyson Technology Ltd Heating apparatus
US11783138B2 (en) 2012-04-04 2023-10-10 Hypertherm, Inc. Configuring signal devices in thermal processing systems
CN102601091B (zh) * 2012-04-12 2015-05-20 上海千山远东制药机械有限公司 一种可调节喷针水压平衡的洗瓶机喷针架
GB2501301B (en) 2012-04-19 2016-02-03 Dyson Technology Ltd A fan assembly
WO2014098487A1 (ko) * 2012-12-18 2014-06-26 포항공과대학교 산학협력단 건식 박리 장치, 건식 박리를 위한 고속 입자 빔을 생성하는 노즐 및 고속 입자 빔을 이용한 건식 박리 방법.
KR101305256B1 (ko) * 2012-12-18 2013-09-06 포항공과대학교 산학협력단 초고속 균일 나노 입자 생성 노즐, 생성 장치 및 생성 방법
KR101272785B1 (ko) * 2012-12-18 2013-06-11 포항공과대학교 산학협력단 고속 입자 빔을 이용한 액막 제거 방법
US10253787B2 (en) * 2013-02-01 2019-04-09 Eaton Intelligent Power Limited Self-aligning jet pump assembly
KR101524205B1 (ko) * 2013-03-20 2015-06-01 테크린 주식회사 스노우 세정기용 스노우 건
JP6159595B2 (ja) * 2013-06-28 2017-07-05 日本液炭株式会社 ドライアイス噴射用ノズル及びドライアイス噴射装置
KR101514279B1 (ko) * 2013-10-15 2015-04-22 한국생산기술연구원 히팅부가 구비된 분사호스를 포함하는 유체분사장치
WO2015059941A1 (ja) * 2013-10-21 2015-04-30 株式会社不二製作所 ブラスト加工方法及びブラスト加工装置
US10792788B2 (en) 2013-10-22 2020-10-06 Tosoh Smd, Inc. Optimized textured surfaces and methods of optimizing
US10786924B2 (en) 2014-03-07 2020-09-29 Hypertherm, Inc. Waterjet cutting head temperature sensor
CN104084393B (zh) * 2014-07-15 2017-02-15 兰州理工大学温州泵阀工程研究院 一种气液全混合自脉冲清洗装置
CN104528329A (zh) * 2014-12-12 2015-04-22 芜湖新兴铸管有限责任公司 水渣喷扫装置
US10081091B2 (en) 2015-06-12 2018-09-25 Postech Academy-Industry Foundation Nozzle, device, and method for high-speed generation of uniform nanoparticles
KR20160147482A (ko) * 2015-06-15 2016-12-23 삼성전자주식회사 가스 혼합부를 갖는 반도체 소자 제조 설비
CN105035770A (zh) * 2015-06-16 2015-11-11 镇江港和新型建材有限公司 物料输送器
CN105215004B (zh) * 2015-10-14 2017-05-10 江苏金龙科技股份有限公司 电脑针织横编机的剪刀清洁机构
CN105483620B (zh) * 2015-11-27 2018-03-30 京东方科技集团股份有限公司 喷嘴部件、蒸镀装置及制作有机发光二极管器件的方法
CN106269330A (zh) * 2016-09-19 2017-01-04 北京安好嘉兴科技开发有限公司 喷射装置
CN106362888A (zh) * 2016-11-25 2017-02-01 无锡市白马机械设备有限公司 加热型清洗喷枪
DE102016123814A1 (de) * 2016-12-08 2018-06-14 Air Liquide Deutschland Gmbh Anordnung und Verfahren zum Behandeln einer Oberfläche
CA2999011C (en) 2017-03-24 2020-04-21 Vln Advanced Technologies Inc. Compact ultrasonically pulsed waterjet nozzle
JP2019046986A (ja) * 2017-09-04 2019-03-22 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
CN108007606A (zh) * 2018-01-17 2018-05-08 普聚智能系统（苏州）有限公司 一种干冰传输监测装置及其监测方法
DE102019108289A1 (de) * 2019-03-29 2020-10-01 acp systems AG Vorrichtung zum Erzeugen eines CO2-Schnee-Strahls
CN109986651B (zh) * 2019-04-10 2021-02-05 山东理工大学 一种种薯分块装置的分块方法
CN110142160A (zh) * 2019-05-15 2019-08-20 厦门理工学院 一种阵列式干冰喷头及气固混合物产生方法
EP3822023B1 (de) * 2019-11-15 2024-05-15 Egger PowAir Cleaning GmbH Vorrichtung zur trockeneisbehandlung von oberflächen sowie verfahren zur behandlung von oberflächen
EP4084930A1 (en) 2019-12-31 2022-11-09 Cold Jet LLC Method and apparatus for enhanced blast stream
CN113123067A (zh) * 2020-01-10 2021-07-16 博西华电器（江苏）有限公司 手持洗衣机洗涤方法及手持洗衣机
CN111604326B (zh) * 2020-05-27 2022-03-04 日清五金塑胶(深圳)有限公司 干冰清洗机的喷头增压结构
CN112023740B (zh) * 2020-07-10 2022-03-01 湘潭大学 一种用于颗粒破碎的气固混合器
CN112547332B (zh) * 2020-11-30 2021-09-14 浙江机电职业技术学院 一种高压清洗机喷嘴组件
CN114111143B (zh) * 2021-10-26 2023-03-10 北京建筑大学 一种造雪机用雾化装置及其雾化方法
TW202348359A (zh) * 2022-02-21 2023-12-16 美商冷卻噴射公司 用於最小化噴砂噴嘴內及出口處之積冰的方法和設備
US20230366126A1 (en) * 2022-05-10 2023-11-16 Gerald Henrici Apparatus and method of orifice inspection and carbon dioxide cleaning thereof
CN115283369A (zh) * 2022-09-06 2022-11-04 林峡 一种二氧化碳状态控制系统及方法

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4389820A (en) * 1980-12-29 1983-06-28 Lockheed Corporation Blasting machine utilizing sublimable particles
US4631250A (en) * 1985-03-13 1986-12-23 Research Development Corporation Of Japan Process for removing covering film and apparatus therefor
US4806171A (en) * 1987-04-22 1989-02-21 The Boc Group, Inc. Apparatus and method for removing minute particles from a substrate
JPH0622224B2 (ja) * 1988-03-05 1994-03-23 大阪酸素工業株式会社 パーティクルが少ないか又は含まない液化二酸化炭素の供給
US5054249A (en) * 1988-11-23 1991-10-08 Rankin George J Method and apparatus for liquid-abrasive blast cleaning
US5018667A (en) * 1989-02-08 1991-05-28 Cold Jet, Inc. Phase change injection nozzle
US5125979A (en) * 1990-07-02 1992-06-30 Xerox Corporation Carbon dioxide snow agglomeration and acceleration
US5315793A (en) * 1991-10-01 1994-05-31 Hughes Aircraft Company System for precision cleaning by jet spray
US5209028A (en) * 1992-04-15 1993-05-11 Air Products And Chemicals, Inc. Apparatus to clean solid surfaces using a cryogenic aerosol
US5409418A (en) * 1992-09-28 1995-04-25 Hughes Aircraft Company Electrostatic discharge control during jet spray
US5294261A (en) * 1992-11-02 1994-03-15 Air Products And Chemicals, Inc. Surface cleaning using an argon or nitrogen aerosol
US5445553A (en) * 1993-01-22 1995-08-29 The Corporation Of Mercer University Method and system for cleaning a surface with CO2 pellets that are delivered through a temperature controlled conduit
JP2828891B2 (ja) 1993-01-27 1998-11-25 住友重機械工業株式会社 表面洗浄方法および表面洗浄装置
US5512106A (en) * 1993-01-27 1996-04-30 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Surface cleaning with argon
US5377911A (en) 1993-06-14 1995-01-03 International Business Machines Corporation Apparatus for producing cryogenic aerosol
US5364474A (en) * 1993-07-23 1994-11-15 Williford Jr John F Method for removing particulate matter
US5390450A (en) * 1993-11-08 1995-02-21 Ford Motor Company Supersonic exhaust nozzle having reduced noise levels for CO2 cleaning system
US5456629A (en) * 1994-01-07 1995-10-10 Lockheed Idaho Technologies Company Method and apparatus for cutting and abrading with sublimable particles
US5846338A (en) * 1996-01-11 1998-12-08 Asyst Technologies, Inc. Method for dry cleaning clean room containers
US5616067A (en) * 1996-01-16 1997-04-01 Ford Motor Company CO2 nozzle and method for cleaning pressure-sensitive surfaces
US5937469A (en) * 1996-12-03 1999-08-17 Intel Corporation Apparatus for mechanically cleaning the edges of wafers
US5822818A (en) * 1997-04-15 1998-10-20 Hughes Electronics Solvent resupply method for use with a carbon dioxide cleaning system
FR2762667B1 (fr) * 1997-04-28 1999-05-28 Air Liquide Dispositif et procede de traitement thermique
KR100504629B1 (ko) * 1997-07-11 2005-08-03 워터제트 테크놀로지 인코퍼레이티드 고속 입자 스트림을 생성하기 위한 방법 및 장치
DE19807917A1 (de) * 1998-02-25 1999-08-26 Air Liquide Gmbh Verfahren und Einrichtung zur Erzeugung eines zweiphasigen Gas-Partikel-Strahls, insbesondere mit CO¶2¶-Trockeneispartikeln
FR2783735B1 (fr) * 1998-09-29 2000-12-15 Patrick Loubeyre Dispositif pour la decontamination des surfaces au moyen d'un jet compose d'air, d'une matiere de projection a grains fins et d'un liquide
KR100294496B1 (ko) 1999-01-29 2001-07-12 김순택 음극선관용 훼이스 패널 세정장치
JP4578644B2 (ja) * 1999-10-13 2010-11-10 大陽日酸株式会社 ドライアイススノー噴射洗浄装置と洗浄方法
KR100419299B1 (ko) * 2001-02-28 2004-02-19 (주)케이.씨.텍 표면 세정을 위한 승화성 고체 입자 분사용 노즐
US6773581B2 (en) * 2001-10-18 2004-08-10 General Atomics System and method for solids transport in hydrothermal processes
KR20040101948A (ko) * 2004-05-31 2004-12-03 (주)케이.씨.텍 표면세정용 승화성 고체입자 분사용 노즐 및 이를 이용한 세정방법

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100756640B1 (ko) * 2006-07-10 2007-09-07 주식회사 케이씨텍 고체 분사노즐 및 대용량 고체 분사노즐
KR100751041B1 (ko) * 2006-09-08 2007-08-21 주식회사 케이씨텍 휴대용 건식세정장치
KR101506654B1 (ko) * 2007-12-20 2015-03-27 레이브 엔.피., 인크. 노즐용 유체 분사 조립체
WO2014113220A1 (en) * 2013-01-15 2014-07-24 Applied Materials, Inc Cryogenic liquid cleaning apparatus and methods
KR101616870B1 (ko) * 2015-04-17 2016-04-29 유상호 반도체 제조 공정에서의 승화성 고체 미립자 세정 모듈 장치
KR20180047658A (ko) * 2016-11-01 2018-05-10 주식회사 케이씨텍 이산화탄소 분사노즐
KR20190079067A (ko) * 2017-12-27 2019-07-05 (주) 엔피홀딩스 일체형 유체 분사장치
KR102312841B1 (ko) * 2021-03-16 2021-10-14 여정동 건식세정장치용 노즐 바 및 이를 갖는 세정유닛

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