JP2005346088A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2005346088A5
JP2005346088A5 JP2005165266A JP2005165266A JP2005346088A5 JP 2005346088 A5 JP2005346088 A5 JP 2005346088A5 JP 2005165266 A JP2005165266 A JP 2005165266A JP 2005165266 A JP2005165266 A JP 2005165266A JP 2005346088 A5 JP2005346088 A5 JP 2005346088A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
liquid crystal
display device
crystal display
thin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005165266A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP4142672B2 (ja
JP2005346088A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020040041139A external-priority patent/KR101043675B1/ko
Application filed filed Critical
Publication of JP2005346088A publication Critical patent/JP2005346088A/ja
Publication of JP2005346088A5 publication Critical patent/JP2005346088A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4142672B2 publication Critical patent/JP4142672B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2005165266A 2004-06-05 2005-06-06 液晶表示装置及びその製造方法 Expired - Fee Related JP4142672B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040041139A KR101043675B1 (ko) 2004-06-05 2004-06-05 반투과형 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2005346088A JP2005346088A (ja) 2005-12-15
JP2005346088A5 true JP2005346088A5 (uk) 2006-11-24
JP4142672B2 JP4142672B2 (ja) 2008-09-03

Family

ID=35448474

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005165266A Expired - Fee Related JP4142672B2 (ja) 2004-06-05 2005-06-06 液晶表示装置及びその製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7528909B2 (uk)
JP (1) JP4142672B2 (uk)
KR (1) KR101043675B1 (uk)
CN (1) CN100529932C (uk)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101057779B1 (ko) * 2004-06-05 2011-08-19 엘지디스플레이 주식회사 반투과형 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법
KR101076426B1 (ko) * 2004-06-05 2011-10-25 엘지디스플레이 주식회사 반투과형 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법
WO2007040194A1 (ja) * 2005-10-05 2007-04-12 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Ｔｆｔ基板及びｔｆｔ基板の製造方法
JP5245028B2 (ja) * 2006-04-24 2013-07-24 ゴールドチャームリミテッド 液晶表示装置およびその製造方法
US8294854B2 (en) * 2006-05-01 2012-10-23 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display comprising a reflection region having first, second and third recesses and method for manufacturing the same
JP2007333808A (ja) * 2006-06-12 2007-12-27 Mitsubishi Electric Corp アクティブマトリクス表示装置
TWI303487B (en) * 2006-06-13 2008-11-21 Au Optronics Corp Method for manufactruring an array substate of a transflective liquid crystal display
KR101250789B1 (ko) 2006-06-30 2013-04-08 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치의 제조방법
KR101261605B1 (ko) * 2006-07-12 2013-05-06 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법
CN100426520C (zh) * 2006-10-09 2008-10-15 友达光电股份有限公司 晶体管结构及具有该结构的控制单元
CN100444012C (zh) * 2006-11-10 2008-12-17 北京京东方光电科技有限公司 一种薄膜晶体管液晶显示器像素结构及其制造方法
KR100917654B1 (ko) * 2006-11-10 2009-09-17 베이징 보에 옵토일렉트로닉스 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 박막트랜지스터 액정 디스플레이 화소 구조 및 그 제조방법
CN100432812C (zh) * 2006-11-10 2008-11-12 北京京东方光电科技有限公司 一种薄膜晶体管液晶显示器像素结构及其制造方法
CN100524781C (zh) * 2006-12-13 2009-08-05 北京京东方光电科技有限公司 一种薄膜晶体管液晶显示器像素结构及其制造方法
KR101389219B1 (ko) * 2006-12-29 2014-04-24 엘지디스플레이 주식회사 프린지 필드형 액정표시패널 및 그 제조 방법
KR100793577B1 (ko) * 2007-01-04 2008-01-14 삼성에스디아이 주식회사 반투과형 액정 표시 장치
KR101415560B1 (ko) * 2007-03-30 2014-07-07 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법
US7432187B1 (en) * 2007-05-14 2008-10-07 Eastman Kodak Company Method for improving current distribution of a transparent electrode
CN101217152B (zh) * 2008-01-09 2010-06-16 友达光电股份有限公司 像素结构及其制造方法
TWI361330B (en) * 2008-11-03 2012-04-01 Au Optronics Corp Method for forming pixel structure of transflective liquid crystal display device
KR101593538B1 (ko) * 2009-04-09 2016-02-29 삼성디스플레이 주식회사 박막트랜지스터 기판의 제조 방법과 이에 의한 박막트랜지스터 기판
CN101750827B (zh) * 2010-01-20 2011-07-20 友达光电股份有限公司 主动元件阵列基板
KR101394938B1 (ko) 2011-05-03 2014-05-14 엘지디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법
KR101870986B1 (ko) * 2011-09-19 2018-06-26 엘지디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 어레이 기판 제조방법
KR101894328B1 (ko) * 2011-10-06 2018-09-03 엘지디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법
TWI649606B (zh) * 2013-06-05 2019-02-01 日商半導體能源研究所股份有限公司 顯示裝置及電子裝置
CN105633100B (zh) * 2016-03-17 2018-11-02 深圳市华星光电技术有限公司 薄膜晶体管阵列面板及其制作方法
CN105826249B (zh) 2016-04-11 2019-08-06 京东方科技集团股份有限公司 金属层制作方法、功能基板及其制作方法、以及显示装置
CN108254979A (zh) * 2016-12-29 2018-07-06 南京瀚宇彩欣科技有限责任公司 显示面板及其制作方法
CN107515498B (zh) 2017-09-18 2020-06-05 上海天马微电子有限公司 阵列基板和显示面板
CN115698837A (zh) * 2021-05-21 2023-02-03 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、对向基板、显示面板

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2771820B2 (ja) 1988-07-08 1998-07-02 株式会社日立製作所 アクティブマトリクスパネル及びその製造方法
US5162933A (en) 1990-05-16 1992-11-10 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Active matrix structure for liquid crystal display elements wherein each of the gate/data lines includes at least a molybdenum-base alloy layer containing 0.5 to 10 wt. % of chromium
KR940004322B1 (ko) 1991-09-05 1994-05-19 삼성전자 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
US5317433A (en) 1991-12-02 1994-05-31 Canon Kabushiki Kaisha Image display device with a transistor on one side of insulating layer and liquid crystal on the other side
DE4339721C1 (de) 1993-11-22 1995-02-02 Lueder Ernst Verfahren zur Herstellung einer Matrix aus Dünnschichttransistoren
JP2674516B2 (ja) * 1994-07-21 1997-11-12 日本電気株式会社 アクティブマトリクス基板およびその製造方法
TW321731B (uk) 1994-07-27 1997-12-01 Hitachi Ltd
JP3866783B2 (ja) 1995-07-25 2007-01-10 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置
KR0156202B1 (ko) 1995-08-22 1998-11-16 구자홍 액정표시장치 및 그 제조방법
JPH09113931A (ja) 1995-10-16 1997-05-02 Sharp Corp 液晶表示装置
JP3625598B2 (ja) 1995-12-30 2005-03-02 三星電子株式会社 液晶表示装置の製造方法
JP2002141512A (ja) 2000-11-06 2002-05-17 Advanced Display Inc 薄膜のパターニング方法およびそれを用いたｔｆｔアレイ基板およびその製造方法
JP2002182239A (ja) 2000-12-12 2002-06-26 Toshiba Corp 反射型平面表示装置用アレイ基板
KR100858297B1 (ko) * 2001-11-02 2008-09-11 삼성전자주식회사 반사-투과형 액정표시장치 및 그 제조 방법
TW562962B (en) * 2002-01-15 2003-11-21 Chi Mei Optoelectronics Corp Liquid crystal display device
JP3722116B2 (ja) * 2002-01-23 2005-11-30 セイコーエプソン株式会社 反射型電気光学装置、および電子機器
JP2003255378A (ja) 2002-03-05 2003-09-10 Sanyo Electric Co Ltd 液晶表示装置
KR100878236B1 (ko) 2002-06-12 2009-01-13 삼성전자주식회사 금속 패턴의 형성 방법 및 이를 이용한 박막 트랜지스터기판의 제조 방법
JP4063733B2 (ja) 2002-07-10 2008-03-19 Ｎｅｃ液晶テクノロジー株式会社 半透過型液晶表示装置及びその製造方法
JP4035094B2 (ja) 2002-07-31 2008-01-16 エルジー．フィリップス エルシーデー カンパニー，リミテッド 反射透過型液晶表示装置及びその製造方法
JP4117169B2 (ja) 2002-09-09 2008-07-16 Ｎｅｃ液晶テクノロジー株式会社 液晶表示装置及びその製造方法
KR101116816B1 (ko) * 2004-06-05 2012-02-28 엘지디스플레이 주식회사 반투과형 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법
KR101080481B1 (ko) * 2004-06-05 2011-11-04 엘지디스플레이 주식회사 반투과형 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005346088A5 (uk)
WO2015186619A1 (ja) 半導体装置、表示装置及び半導体装置の製造方法
CN108807549B (zh) 薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板及其制造方法
JP4560005B2 (ja) 液晶表示パネル及びその製造方法
WO2017008370A1 (zh) 阵列彩膜集成式液晶显示面板的制作方法及其结构
JP4795921B2 (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
JP4342217B2 (ja) 表示装置用アレイ基板及びその製造方法
JP2005328088A5 (uk)
JP2005527856A5 (uk)
CN1782842A (zh) 液晶显示器件及其制造方法
US9040994B2 (en) Thin film transistor, display device and manufacturing thereof, display apparatus
CN112965310B (zh) 一种阵列基板及其制作方法、显示面板
JP2004046087A (ja) ブラックマトリックスを備えた平板表示装置及びその製造方法
US9857644B2 (en) Method of fabricating a transflective liquid crystal display device
WO2019085080A1 (zh) 双面oled显示面板及其制造方法
US7911551B2 (en) Liquid crystal display device and fabrication method thereof
WO2018196403A1 (zh) 阵列基板及其制作方法、显示装置
TWI539218B (zh) 液晶顯示裝置
JP2008197657A (ja) 表示基板及びこれを具備した表示パネル
US8357937B2 (en) Thin film transistor liquid crystal display device
JP2008122904A5 (uk)
US9715147B2 (en) Array substrate for LCD panel and manufacturing method thereof
KR101331901B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법
US20090045402A1 (en) TFT array substrate and manufacturing method the same
CN210429814U (zh) 一种阵列基板、显示面板及显示装置