JP2005251788A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2005251788A5
JP2005251788A5 JP2004056225A JP2004056225A JP2005251788A5 JP 2005251788 A5 JP2005251788 A5 JP 2005251788A5 JP 2004056225 A JP2004056225 A JP 2004056225A JP 2004056225 A JP2004056225 A JP 2004056225A JP 2005251788 A5 JP2005251788 A5 JP 2005251788A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
positioning device
deceleration
acceleration
force
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004056225A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP4298547B2 (ja
JP2005251788A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2004056225A priority Critical patent/JP4298547B2/ja
Priority claimed from JP2004056225A external-priority patent/JP4298547B2/ja
Priority to US11/056,287 priority patent/US7333180B2/en
Publication of JP2005251788A publication Critical patent/JP2005251788A/ja
Publication of JP2005251788A5 publication Critical patent/JP2005251788A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4298547B2 publication Critical patent/JP4298547B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2004056225A 2004-03-01 2004-03-01 位置決め装置およびそれを用いた露光装置 Expired - Fee Related JP4298547B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004056225A JP4298547B2 (ja) 2004-03-01 2004-03-01 位置決め装置およびそれを用いた露光装置
US11/056,287 US7333180B2 (en) 2004-03-01 2005-02-14 Positioning apparatus and exposure apparatus using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004056225A JP4298547B2 (ja) 2004-03-01 2004-03-01 位置決め装置およびそれを用いた露光装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2005251788A JP2005251788A (ja) 2005-09-15
JP2005251788A5 true JP2005251788A5 (enExample) 2007-04-12
JP4298547B2 JP4298547B2 (ja) 2009-07-22

Family

ID=34917908

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004056225A Expired - Fee Related JP4298547B2 (ja) 2004-03-01 2004-03-01 位置決め装置およびそれを用いた露光装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7333180B2 (enExample)
JP (1) JP4298547B2 (enExample)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100773545B1 (ko) * 2006-02-15 2007-11-06 삼성전자주식회사 로킹장치를 구비한 ｘ-ｙ스테이지 구동장치와, 이를 채용한정보저장기기
JP2008153546A (ja) * 2006-12-19 2008-07-03 Canon Inc 移動体機構
JP5013941B2 (ja) * 2007-04-19 2012-08-29 キヤノン株式会社 ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JP2009016385A (ja) * 2007-06-29 2009-01-22 Canon Inc ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法
US8815575B2 (en) 2007-09-21 2014-08-26 Wisconsin Alumni Research Foundation Stepping optical reduction system
NL1036735A1 (nl) 2008-04-10 2009-10-13 Asml Holding Nv Shear-layer chuck for lithographic apparatus.
NL2003877A (en) 2009-02-05 2010-08-09 Asml Holding Nv Reticle support that reduces reticle slippage.
NL2005062A (en) * 2009-08-12 2011-02-15 Asml Netherlands Bv A positioning system and a method for positioning a substage with respect to a frame.
JP5849955B2 (ja) * 2010-09-07 2016-02-03 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
CN102566293B (zh) * 2010-12-30 2015-04-15 上海微电子装备有限公司 二维长行程工作台运动系统
CN103376667B (zh) * 2012-04-20 2015-08-26 上海微电子装备有限公司 一种用于曝光装置的掩模台
US9377700B2 (en) 2012-06-01 2016-06-28 Asml Holding N.V. Determining position and curvature information directly from a surface of a patterning device
CN105470181B (zh) * 2014-09-10 2019-02-19 北京北方华创微电子装备有限公司 一种遮蔽盘传输装置及反应腔室
CN105485481B (zh) * 2015-12-20 2018-01-16 华南理工大学 一种位移可调节精密定位平台
CN106444294B (zh) * 2016-10-17 2018-05-11 上海华力集成电路制造有限公司 一种掩膜版固定系统
TWI797114B (zh) * 2017-03-31 2023-04-01 日商尼康股份有限公司 移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器的製造方法、元件製造方法以及移動體的驅動方法
JP2025517618A (ja) * 2022-05-12 2025-06-10 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． リソグラフィ装置のための可動式ステージ

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3484684B2 (ja) * 1994-11-01 2004-01-06 株式会社ニコン ステージ装置及び走査型露光装置
JPH09180989A (ja) * 1995-12-26 1997-07-11 Toshiba Corp 露光装置および露光方法
US6130517A (en) * 1998-02-12 2000-10-10 Nikon Corporation Magnetic actuator producing large acceleration on fine stage and low RMS power gain
JP3745167B2 (ja) * 1998-07-29 2006-02-15 キヤノン株式会社 ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびにステージ駆動方法
JP2003059797A (ja) * 2001-08-09 2003-02-28 Canon Inc 移動装置、ステージ装置及び露光装置
JP4366031B2 (ja) * 2001-09-17 2009-11-18 キヤノン株式会社 位置検出装置及び方法並びに露光装置、デバイスの製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005251788A5 (enExample)
JP5517423B2 (ja) インプリント装置及びインプリント方法
JP5850717B2 (ja) インプリント装置、及びそれを用いた物品の製造方法
JP2012134466A5 (enExample)
EP1650791A4 (en) LAMINATION METHOD AND LAMINATION DEVICE
JPH09311724A (ja) プローブ組立体のワーク表面に対する軟接触移動方法および装置
JP2006014592A5 (enExample)
JP2009016385A5 (enExample)
JP2005093654A5 (enExample)
JP2012142542A5 (enExample)
JP6726987B2 (ja) インプリント装置および物品製造方法
US10036965B2 (en) Stage apparatus, lithography apparatus, and device manufacturing method
JP5745129B2 (ja) インプリント装置及びインプリント方法
JP2005278325A5 (enExample)
JP3135404B2 (ja) ステージ装置とこれを用いたシステム
JP4073061B2 (ja) 圧電素子による衝撃力を用いた精密位置決め装置
JP2014192254A5 (enExample)
JP2010511865A5 (enExample)
CN117406553A (zh) 定位装置、光刻装置以及物品制造方法
TWI574121B (zh) 感測器、物件定位系統、微影裝置及器件製造方法
JP2006147919A5 (enExample)
JPH0659738A (ja) 位置決め装置
JP4622134B2 (ja) 鋼板の振動抑制装置
CN102476550B (zh) 刻印控制方法
JP5201385B2 (ja) センサ駆動装置