JP5745129B2 - インプリント装置及びインプリント方法 - Google Patents
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Description
δ=(かわし機構のストローク)×(パターン面内で最も中心から離れた位置までの距離)
となる。かわし機構1013の姿勢変化ストロークは0.5mrad程度である。パターン面が25mm四方である場合には、δは10μmとなる。したがって、図9に示した制御切換位置は、コンタクト位置よりも10μm以上、上方に離れた位置に設定する必要がある。制御切換位置の設定の目安として、コンタクト位置からδの2倍程度離れた位置に設定するとよい。
10 押印機構
101 モールドステージ
102 第1モールド駆動部
104 荷重センサ
105 第2モールド駆動部
106 第2ガイド
108 ボールネジ
109 モータ
20 ウエハステージ
40 照明系
50 制御系
501 制御装置
503 記憶装置
60 塗布機構
70 アライメントスコープ
80 ギャップ計測器
90 圧力制御システム
100 ウエハ高さセンサ
MP モールド
WF ウエハ
Claims (8)
- 基板上の液体又は粘性体にモールドを押し当てて前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記モールドが前記液体又は粘性体から離れた第1の状態から該モールドが前記液体又は粘性体に接触した第2の状態に状態を変更する駆動手段と、
前記駆動手段を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前記押し当てを行う場合、前記押し当ての方向において、前記第1の状態から前記第2の状態になる前に前記駆動手段の力制御を開始し且つ前記モールドと前記基板との相対速度を第1相対速度から第2相対速度に変更し、前記力制御を開始する前は前記駆動手段の位置制御を行い、前記第1相対速度は前記第2相対速度より高くあるように、前記駆動手段を制御し、
前記駆動手段は、内部の圧力によって伸縮する容器を有し、前記制御手段は、前記力制御において前記容器の内部の圧力を制御する、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記力制御のための荷重センサまたは圧力センサを有する、ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記モールドと前記基板との間の距離または前記基板の表面の高さを計測する前記位置制御のための計測器を有する、ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のインプリント装置。
- 前記制御手段は、前記位置制御を前記力制御に切り換える位置を前記基板の表面の高さに応じて設定する、ことを特徴とする請求項1ないし請求項3のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記制御手段は、前記位置制御を前記力制御に切り換える位置を、前記基板の表面の領域ごとの高さに応じて変更する、ことを特徴とする請求項1ないし請求項3のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記容器内の圧力を計測する圧力センサを有する、ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 請求項1ないし請求項6のうちいずれか1項に記載のインプリント装置を用いて、基板上の液体又は粘性体にモールドを押し当てて該基板上にパターンを形成する、ことを特徴とするデバイス製造方法。
- 基板上の液体又は粘性体にモールドを押し当てて前記基板上にパターンを形成するインプリント方法であって、
前記モールドが前記液体又は粘性体から離れた第1の状態から該モールドが前記液体又は粘性体に接触した第2の状態に状態を変更する駆動手段により前記押し当てを行う場合、前記押し当ての方向において、前記第1の状態から前記第2の状態になる前に前記駆動手段の力制御を開始し且つ前記モールドと前記基板との相対速度を第1相対速度から第2相対速度に変更し、前記力制御を開始する前は前記駆動手段の位置制御を行い、前記第1相対速度は前記第2相対速度より高くあるように、前記駆動手段を制御し、
前記駆動手段に含まれる、内部の圧力によって伸縮する容器の該内部の圧力を、前記力制御において制御する、
ことを特徴とするインプリント方法。
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