JP2005191049A - 積層型圧電素子およびその製法、並びに噴射装置 - Google Patents
積層型圧電素子およびその製法、並びに噴射装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005191049A JP2005191049A JP2003426902A JP2003426902A JP2005191049A JP 2005191049 A JP2005191049 A JP 2005191049A JP 2003426902 A JP2003426902 A JP 2003426902A JP 2003426902 A JP2003426902 A JP 2003426902A JP 2005191049 A JP2005191049 A JP 2005191049A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- piezoelectric element
- piezoelectric
- layer
- element according
- laminated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 15
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 58
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 34
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 23
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 23
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 15
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 12
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 8
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002003 electrode paste Substances 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 4
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 12
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 7
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 3
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 3
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000007569 slipcasting Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02M—SUPPLYING COMBUSTION ENGINES IN GENERAL WITH COMBUSTIBLE MIXTURES OR CONSTITUENTS THEREOF
- F02M51/00—Fuel-injection apparatus characterised by being operated electrically
- F02M51/06—Injectors peculiar thereto with means directly operating the valve needle
- F02M51/0603—Injectors peculiar thereto with means directly operating the valve needle using piezoelectric or magnetostrictive operating means
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/05—Manufacture of multilayered piezoelectric or electrostrictive devices, or parts thereof, e.g. by stacking piezoelectric bodies and electrodes
- H10N30/053—Manufacture of multilayered piezoelectric or electrostrictive devices, or parts thereof, e.g. by stacking piezoelectric bodies and electrodes by integrally sintering piezoelectric or electrostrictive bodies and electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
- H10N30/853—Ceramic compositions
- H10N30/8548—Lead-based oxides
- H10N30/8554—Lead-zirconium titanate [PZT] based
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/87—Electrodes or interconnections, e.g. leads or terminals
- H10N30/871—Single-layered electrodes of multilayer piezoelectric or electrostrictive devices, e.g. internal electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/87—Electrodes or interconnections, e.g. leads or terminals
- H10N30/877—Conductive materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/42—Piezoelectric device making
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Fuel-Injection Apparatus (AREA)
- General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)
Abstract
【解決手段】それぞれ、Pb成分を含む圧電体層1と、Pd成分を含む導体層2とを交互に積層してなる積層型圧電素子において、前記圧電体層1と前記導体層2との界面における前記PbおよびPdとの反応層Rの厚みが、前記圧電体層1の最大厚みの3%以下であることを特徴とする。
【選択図】図2
Description
2・・・導体層
31・・・収納容器
33・・・噴射孔
35・・・バルブ
43・・・圧電アクチュエータ
R・・・・反応層
Claims (16)
- それぞれ、Pb成分を含む圧電体層と、Pd成分を含む導体層とを交互に積層してなる積層型圧電素子において、前記圧電体層と前記導体層との界面における前記PbおよびPdとの反応層の厚みが、前記圧電体層の最大厚みの3%以下であることを特徴とする積層型圧電素子。
- 圧電体層の厚みが50μm以上であることを特徴とする請求項1に記載の積層型圧電素子。
- 圧電体層は、AサイトにPbを、BサイトにZrおよびTiを少なくとも含むペロブスカイト型複合酸化物により構成される圧電磁器からなるとともに、サイト比A/B<1の関係を満足することを特徴とする請求項1または2に記載の積層型圧電素子。
- 導体層の厚みが1μm以上であることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか記載の積層型圧電素子。
- 導体層中の金属成分が、VIII属金属およびIb属金属の両方を主成分としたことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか記載の積層型圧電素子。
- VIII属金属の含有量をM1質量%、Ib属金属の含有量をM2質量%としたとき、0.001≦M1≦15、85≦M2≦99.999、M1+M2=100質量%の関係を満足することを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか記載の積層型圧電素子。
- VIII属金属がNi、Pt、Rh、Ir、Ru、Osのうち少なくとも1種、Ib属金属がCu,Ag、Auのうち少なくとも1種であることを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか記載の積層型圧電素子。
- VIII属金属がPtであり、Ib属金属がAg、Auのうち少なくとも1種であることを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか記載の積層型圧電素子。
- VIII属金属がNiであることを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか記載の積層型圧電素子。
- Ib属金属がCuであることを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか記載の積層型圧電素子。
- 導体層中に無機成分を含有してなることを特徴とする請求項1乃至10のうちいずれか記載の積層型圧電素子。
- 無機成分が、圧電体層と同じ成分であることを特徴とする請求項1乃至11のうちいずれか記載の積層型圧電素子。
- 無機成分の平均粒径が、圧電体層の平均粒径よりも小さいことを特徴とする請求項1乃至12のうちいずれか記載の積層型圧電素子。
- Pb成分を含む圧電粉末を有するグリーンシートと、Pdを含む導体パターンとを形成し、これらを交互に複数積層して圧電積層体を形成する工程と、該圧電積層体を、酸素濃度10−12atm〜0.195atmの雰囲気中にて焼成して積層圧電体本体を形成する工程と、該積層圧電体本体の端面に外部電極ペーストを塗布した後に熱処理して外部電極を有する積層型圧電素子を形成する工程とを具備することを特徴とする積層型圧電素子の製法。
- 焼成温度が1000℃以下であることを特徴とする請求項14に記載の積層型圧電素子の製法。
- 噴射孔を有する収納容器と、該収納容器内に収容された請求項1乃至13のうちいずれか記載の積層型圧電素子と、該積層型圧電素子の駆動により前記噴射孔から液体を噴出させるバルブとを具備してなることを特徴とする噴射装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003426902A JP4593912B2 (ja) | 2003-12-24 | 2003-12-24 | 積層型圧電素子およびその製法、並びに噴射装置 |
CN2004800390134A CN1898812B (zh) | 2003-12-24 | 2004-12-17 | 层压压电器件 |
US10/596,475 US7656077B2 (en) | 2003-12-24 | 2004-12-17 | Laminated piezoelectric device |
PCT/JP2004/019447 WO2005062396A1 (ja) | 2003-12-24 | 2004-12-17 | 積層型圧電素子 |
EP04807803A EP1717873B1 (en) | 2003-12-24 | 2004-12-17 | Multilayered piezoelectric element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003426902A JP4593912B2 (ja) | 2003-12-24 | 2003-12-24 | 積層型圧電素子およびその製法、並びに噴射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005191049A true JP2005191049A (ja) | 2005-07-14 |
JP4593912B2 JP4593912B2 (ja) | 2010-12-08 |
Family
ID=34708876
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003426902A Expired - Fee Related JP4593912B2 (ja) | 2003-12-24 | 2003-12-24 | 積層型圧電素子およびその製法、並びに噴射装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7656077B2 (ja) |
EP (1) | EP1717873B1 (ja) |
JP (1) | JP4593912B2 (ja) |
CN (1) | CN1898812B (ja) |
WO (1) | WO2005062396A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007258503A (ja) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Tdk Corp | 積層型圧電素子の製造方法及び積層型圧電素子 |
JP2013518399A (ja) * | 2010-01-22 | 2013-05-20 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | 積層型圧電素子の製造方法および積層型圧電素子 |
JP2015185711A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 株式会社日本セラテック | 圧電素子およびその製造方法 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4593912B2 (ja) * | 2003-12-24 | 2010-12-08 | 京セラ株式会社 | 積層型圧電素子およびその製法、並びに噴射装置 |
CN101252330B (zh) * | 2008-03-27 | 2010-09-29 | 大连理工大学 | 一种用压电叠堆精密定位的方法和装置 |
JP4655243B2 (ja) * | 2008-09-09 | 2011-03-23 | ソニー株式会社 | スピーカシステムおよびスピーカ駆動方法 |
JP2011166901A (ja) * | 2010-02-08 | 2011-08-25 | Nikon Corp | 振動アクチュエータ、これを備えるレンズ鏡筒及びカメラ |
JP5905292B2 (ja) * | 2012-02-21 | 2016-04-20 | 日本碍子株式会社 | 圧電素子及び圧電素子の製造方法 |
TWI604936B (zh) * | 2013-10-11 | 2017-11-11 | Yao-Hong Qiu | Large single-layer ceramic passive element with composite electrode layer |
CN104092402A (zh) * | 2014-07-31 | 2014-10-08 | 王少夫 | 一种压电陶瓷变压器 |
US11107972B2 (en) * | 2018-12-11 | 2021-08-31 | Facebook Technologies, Llc | Nanovoided tunable optics |
CN110965136B (zh) * | 2019-11-08 | 2022-01-28 | 北京科技大学 | 一种基于钙钛矿聚合物复合材料的柔性压电纳米发电机制备方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07231127A (ja) * | 1994-02-17 | 1995-08-29 | Kanebo Ltd | 多孔質圧電体の電極設置法 |
JPH11163433A (ja) * | 1997-11-27 | 1999-06-18 | Hitachi Metals Ltd | 積層型圧電セラミックス振動子および製造方法 |
JPH11274595A (ja) * | 1998-03-23 | 1999-10-08 | Hitachi Metals Ltd | 圧電セラミックス、積層型圧電セラミックス振動子およびその製造方法 |
JP2002261346A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-09-13 | Denso Corp | 積層一体焼成型の電気機械変換素子 |
JP2002299710A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Kyocera Corp | 積層型圧電素子及び噴射装置 |
JP2003324223A (ja) * | 2002-05-01 | 2003-11-14 | Denso Corp | 積層型圧電体素子 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2068355B (en) * | 1979-12-26 | 1983-09-01 | Okazaki K | Method of manufacturing interconnected porous ceramics |
JPS61159777A (ja) * | 1985-01-07 | 1986-07-19 | Nec Corp | 電歪効果素子 |
DE19615695C1 (de) * | 1996-04-19 | 1997-07-03 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung eines Piezoaktors monolithischer Vielschichtbauweise |
JPH11145525A (ja) * | 1997-11-07 | 1999-05-28 | Hitachi Ltd | 圧電アクチュエータの製造方法 |
JP3397753B2 (ja) * | 1999-09-30 | 2003-04-21 | ティーディーケイ株式会社 | 積層型圧電素子およびその製造方法 |
JP2002054526A (ja) * | 2000-05-31 | 2002-02-20 | Denso Corp | インジェクタ用圧電体素子 |
JP2002193666A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-07-10 | Nec Tokin Ceramics Corp | 圧電磁器組成物 |
US6734607B2 (en) * | 2000-12-28 | 2004-05-11 | Denso Corporation | Integrally fired, laminated electromechanical transducing element |
US6819540B2 (en) * | 2001-11-26 | 2004-11-16 | Shipley Company, L.L.C. | Dielectric structure |
JP4593912B2 (ja) * | 2003-12-24 | 2010-12-08 | 京セラ株式会社 | 積層型圧電素子およびその製法、並びに噴射装置 |
JP2006228866A (ja) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Seiko Epson Corp | 圧電アクチュエータの製造方法、圧電アクチュエータ、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP2007149995A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Fujifilm Corp | 積層型圧電素子及びその製造方法 |
-
2003
- 2003-12-24 JP JP2003426902A patent/JP4593912B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-12-17 US US10/596,475 patent/US7656077B2/en active Active
- 2004-12-17 CN CN2004800390134A patent/CN1898812B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-17 EP EP04807803A patent/EP1717873B1/en not_active Ceased
- 2004-12-17 WO PCT/JP2004/019447 patent/WO2005062396A1/ja active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07231127A (ja) * | 1994-02-17 | 1995-08-29 | Kanebo Ltd | 多孔質圧電体の電極設置法 |
JPH11163433A (ja) * | 1997-11-27 | 1999-06-18 | Hitachi Metals Ltd | 積層型圧電セラミックス振動子および製造方法 |
JPH11274595A (ja) * | 1998-03-23 | 1999-10-08 | Hitachi Metals Ltd | 圧電セラミックス、積層型圧電セラミックス振動子およびその製造方法 |
JP2002261346A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-09-13 | Denso Corp | 積層一体焼成型の電気機械変換素子 |
JP2002299710A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Kyocera Corp | 積層型圧電素子及び噴射装置 |
JP2003324223A (ja) * | 2002-05-01 | 2003-11-14 | Denso Corp | 積層型圧電体素子 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007258503A (ja) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Tdk Corp | 積層型圧電素子の製造方法及び積層型圧電素子 |
JP2013518399A (ja) * | 2010-01-22 | 2013-05-20 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | 積層型圧電素子の製造方法および積層型圧電素子 |
US9343652B2 (en) | 2010-01-22 | 2016-05-17 | Epcos Ag | Method for producing a piezoelectric multilayer component and a piezoelectric multilayer component |
US9825212B2 (en) | 2010-01-22 | 2017-11-21 | Epcos Ag | Method for producing a piezoelectric multilayer component and a piezoelectric multilayer component |
JP2015185711A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 株式会社日本セラテック | 圧電素子およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7656077B2 (en) | 2010-02-02 |
EP1717873A1 (en) | 2006-11-02 |
EP1717873A4 (en) | 2010-04-07 |
JP4593912B2 (ja) | 2010-12-08 |
US20070209173A1 (en) | 2007-09-13 |
WO2005062396A1 (ja) | 2005-07-07 |
CN1898812A (zh) | 2007-01-17 |
EP1717873B1 (en) | 2011-08-17 |
CN1898812B (zh) | 2010-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4925516B2 (ja) | 積層型圧電アクチュエータ及び噴射装置 | |
JP2001342062A (ja) | 圧電磁器及び積層圧電素子並びに噴射装置 | |
JP4925825B2 (ja) | 積層型電子部品及びこれを用いた噴射装置 | |
JP4593912B2 (ja) | 積層型圧電素子およびその製法、並びに噴射装置 | |
JP5052175B2 (ja) | 積層圧電アクチュエータおよび液体吐出ヘッド | |
EP1690844B1 (en) | Piezoelectric ceramic and laminated piezoelectric device | |
JP4803956B2 (ja) | 圧電セラミックスおよびこれを用いた積層型圧電素子並びに噴射装置 | |
JP4535721B2 (ja) | 圧電磁器および積層型圧電素子並びに噴射装置 | |
JP4683689B2 (ja) | 積層型圧電素子及び圧電アクチュエータ並びに噴射装置 | |
JP2002217464A (ja) | 圧電素子、及びその製造方法 | |
JP2003318458A (ja) | 積層型圧電素子及びその製法並びに噴射装置 | |
JP2005191046A (ja) | 積層型圧電素子およびその製法、並びに噴射装置 | |
JP4688329B2 (ja) | アクチュエータ用圧電磁器及び積層型圧電アクチュエータ並びに噴射装置 | |
JP4925563B2 (ja) | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 | |
JP4688330B2 (ja) | 圧電磁器及び積層型圧電素子並びに噴射装置 | |
JP4868707B2 (ja) | 積層型圧電素子および噴射装置 | |
JP2005191047A (ja) | 積層型圧電素子および噴射装置 | |
JP5153095B2 (ja) | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 | |
JP5196091B2 (ja) | 圧電磁器組成物及び圧電素子 | |
JP4822664B2 (ja) | 積層型圧電素子およびその製法、並びに噴射装置 | |
JP4737948B2 (ja) | 積層型圧電素子の製法 | |
JP4873837B2 (ja) | 積層型圧電素子および噴射装置 | |
JP2005150369A (ja) | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 | |
JP2011109119A (ja) | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 | |
JP2005159274A (ja) | 積層型圧電素子およびこれを用いた噴射装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061213 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100819 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100916 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130924 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4593912 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |