JP2005120412A5 - - Google Patents

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Description

本発明による成膜装置は、真空状態に連結した複数の真空チャンバー、前記複数の真空チャンバー内に設けられた搬送路、前記搬送路に沿って移動可能に設けた基板ホルダ、前記基板ホルダを移動させる駆動手段、前記複数の真空チャンバーにおける第１の真空チャンバーで基板ホルダを回収可能で、かつ第１の真空チャンバーと連結し、回収された基板ホルダを収納する回収用ストックチャンバー、前記複数の真空チャンバーにおける第２の真空チャンバーで、前記第１の真空チャンバーで前記基板ホルダが回収された位置が前記搬送路に沿って到来した位置に基板ホルダを供給するようにし、かつ第２の真空チャンバーと連結し、基板ホルダを収納する供給用ストックチャンバー、とを有することを特徴とするものである。
また、本発明による成膜装置の前記供給用ストックチャンバーは、脱ガス機構を有することを特徴とするものである。
また、本発明による成膜装置の前記回収用ストックチャンバーは、前記基板ホルダ表面に堆積した膜を除去する膜除去機構を有することを特徴とするものである。
また、本発明による成膜装置の前記第１の真空チャンバー及び前記第２の真空チャンバーは、前記基板ホルダの搬送方向を転換する方向転換チャンバーであることを特徴とするものである。
また、本発明による成膜装置の前記第１の真空チャンバーは、基板ホルダから基板を回収するアンロードロックチャンバーであり、前記第２の真空チャンバーは、基板ホルダに基板を搭載するロードロックチャンバーであることを特徴とするものである。
また、本発明による成膜装置は、複数の基板ホルダと、前記複数の基板ホルダの番号を管理し、前記交換すべき基板ホルダの番号を記憶し、記憶された番号に基づいて、基板ホルダを回収及び供給する制御装置と、を有することを特徴とするものである。
また、本発明による成膜装置の前記回収用ストックチャンバーは、複数の基板ホルダの各面を平行に配置して、基板ホルダを収納する収納機構を有することを特徴とするものである。また、本発明による成膜装置の前記回収用ストックチャンバーは、複数の基板ホルダを回転機構の中心軸の周りに配置して、基板ホルダを収納する収納機構を有することを特徴とするものである。また、本発明による成膜装置の前記搬送路は、閉ループを形成していることを特徴とするものである。また、本発明による成膜装置は、真空状態に連結した複数の真空チャンバー、前記複数の真空チャンバー内に設けられた搬送路、前記搬送路に沿って移動可能に設けた基板ホルダ、前記基板ホルダを移動させる駆動手段、前記複数の真空チャンバーにおける第１の真空チャンバーで指定された基板ホルダを回収可能で、かつ第１の真空チャンバーと連結し、回収された基板ホルダを収納する回収用ストックチャンバー、前記複数の真空チャンバーにおける第２の真空チャンバーで、前記第１の真空チャンバーで前記基板ホルダが回収された位置が前記搬送路に沿って到来した位置に基板ホルダを供給するようにし、かつ第２の真空チャンバーと連結し、基板ホルダを収納する供給用ストックチャンバー、とを有することを特徴とするものである。

Claims (10)

  1. 真空状態に連結した複数の真空チャンバー、
    前記複数の真空チャンバー内に設けられた搬送路、
    前記搬送路に沿って移動可能に設けた基板ホルダ、
    前記基板ホルダを移動させる駆動手段、
    前記複数の真空チャンバーにおける第１の真空チャンバーで基板ホルダを回収可能で、かつ第１の真空チャンバーと連結し、回収された基板ホルダを収納する回収用ストックチャンバー、
    前記複数の真空チャンバーにおける第２の真空チャンバーで、前記第１の真空チャンバーで前記基板ホルダが回収された位置が前記搬送路に沿って到来した位置に基板ホルダを供給するようにし、かつ第２の真空チャンバーと連結し、基板ホルダを収納する供給用ストックチャンバー、
    とを有することを特徴とする成膜装置。
  2. 前記供給用ストックチャンバーは、脱ガス機構を有することを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
  3. 前記回収用ストックチャンバーは、前記基板ホルダ表面に堆積した膜を除去する膜除去機構を有することを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
  4. 前記第１の真空チャンバー及び前記第２の真空チャンバーは、前記基板ホルダの搬送方向を転換する方向転換チャンバーであることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
  5. 前記第１の真空チャンバーは、基板ホルダから基板を回収するアンロードロックチャンバーであり、前記第２の真空チャンバーは、基板ホルダに基板を搭載するロードロックチャンバーであることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
  6. 複数の基板ホルダと、
    前記複数の基板ホルダの番号を管理し、前記交換すべき基板ホルダの番号を記憶し、記憶された番号に基づいて、基板ホルダを回収及び供給する制御装置と、
    を有することを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
  7. 前記回収用ストックチャンバーは、複数の基板ホルダの各面を平行に配置して、基板ホルダを収納する収納機構を有することを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
  8. 前記回収用ストックチャンバーは、複数の基板ホルダを回転機構の中心軸の周りに配置して、基板ホルダを収納する収納機構を有することを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
  9. 前記搬送路は、閉ループを形成していることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
  10. 真空状態に連結した複数の真空チャンバー、
    前記複数の真空チャンバー内に設けられた搬送路、
    前記搬送路に沿って移動可能に設けた基板ホルダ、
    前記基板ホルダを移動させる駆動手段、
    前記複数の真空チャンバーにおける第１の真空チャンバーで指定された基板ホルダを回収可能で、かつ第１の真空チャンバーと連結し、回収された基板ホルダを収納する回収用ストックチャンバー、
    前記複数の真空チャンバーにおける第２の真空チャンバーで、前記第１の真空チャンバーで前記基板ホルダが回収された位置が前記搬送路に沿って到来した位置に基板ホルダを供給するようにし、かつ第２の真空チャンバーと連結し、基板ホルダを収納する供給用ストックチャンバー、
    とを有することを特徴とする成膜装置。
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