JP4746063B2 - 成膜装置及び成膜装置用ストックチャンバー - Google Patents
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Description
基板8(前処理済みの基板も含む。)を基板ホルダ9に搭載するロードロックチャンバー2と、成膜済みの基板8を基板ホルダ9から回収するアンロードロックチャンバー3と、各種処理を行う真空チャンバー4と、基板8の搬送方向を90度転換する方向転換機構を備えた方向転換チャンバー5a、5b、5c、5dと、新たな基板ホルダ9を搬送路6に供給する回転式供給用ストックチャンバー11と、使用済みの基板ホルダ9を回収収納する回転式回収用ストックチャンバー12と、基板8を保持した基板ホルダ9が移動する各真空チャンバー4内に設けられた搬送路6とから構成される。また、各真空チャンバー4の間にはゲートバルブ7が設けられている。各真空チャンバー4の内部は、排気装置(図示せず)により真空排気され、各真空チャンバー4はゲートバルブ7によって互いに隔離され、閉ざされた真空処理室を形成する。ゲートバルブ7が開放されると各真空チャンバー4は連通した状態となり、基板ホルダ9の搬入出ができるようになっている。したがって、搬送路6は、図1に示すように、閉ループでなり、搬送路6内が真空状態で保持される。
ルダ部の構成を示す正面図、図4(b)は基板ホルダの構造を示す正面図、図4(c)は、図4(b)に示すA−A’線の矢視図である。
装着されている状態で行われる。基板が基板ホルダに装着されていない場合は、成膜済みの基板をアンロードチャンバーで回収後、基板ホルダだけをストックチャンバーで回収して、新規の基板ホルダに交換したり、回収済み基板ホルダを真空中で堆積膜除去を行う。
2 ロードロックチャンバー
3 アンロードロックチャンバー
4 真空チャンバー
5 方向転換チャンバー
5a 第1の方向転換チャンバー
5b 第2の方向転換チャンバー
5c 第3の方向転換チャンバー
5d 第4の方向転換チャンバー
6 搬送路
7 ゲートバルブ
8 基板(ディスク)
9 基板ホルダ
11 回転式供給用ストックチャンバー
11a 回転テーブル
11b ギアーボックス
11c モータ
11d 供給ガイド
11f ガイドローラ
12 回転式回収用ストックチャンバー
13 回転式回収供給用ストックチャンバー
17 基板ホルダ部
17a 開口
17b バネ部材
17c 中間部
19 キャリア
19a くぼみ部
19b 肉厚部
19c キャリア磁石
20 回転磁石機構
20a 回転磁石
25 搭載用補助チャンバー
26 回収用補助チャンバー
30 連結用搬送装置
32 スライド式供給用ストックチャンバー
32a 基板ホルダ保持具
32b 突き上げ部
32c スライド搬送部
32d 保持金具
33 スライド式回収用ストックチャンバー
34 スライド式回収供給用ストックチャンバー
40 従来の成膜装置
41 膜除去チャンバー
Claims (6)
- 真空状態に連結した複数の真空チャンバー、
前記複数の真空チャンバー内に設けられた搬送路、
前記搬送路に沿って移動可能に設けた複数の基板ホルダ、
前記基板ホルダを移動させる駆動手段、
前記搬送路からの基板ホルダの回収、及び/又は前記搬送路への基板ホルダの供給が可能であり、かつ前記複数の真空チャンバーの一つと連結したストックチャンバー、を備え、
前記ストックチャンバーは、基板ホルダを回転機構の中心軸の周りに垂直の状態で配置可能な構成としたこと
を特徴とする成膜装置。 - 前記ストックチャンバーは、脱ガス機構を有することを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
- 前記ストックチャンバーは、前記基板ホルダ表面に堆積した膜を除去する膜除去機構を設けたことを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
- 前記複数の基板ホルダの番号を管理し、前記交換すべき基板ホルダの番号を記憶し、記憶された番号に基づいて、基板ホルダを回収・供給する制御装置を有することを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
- 前記搬送路は、閉ループを形成していることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
- 基板ホルダの回収、及び/又は基板ホルダの供給が可能で、かつ、複数の基板ホルダを回転機構の中心軸の周りに垂直の状態で配置可能な構成としたこと
を特徴とする成膜装置用ストックチャンバー。
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