JP2005093728A - 発光装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 光取出し効率の高い発光装置を提供する。
【解決手段】 サファイア基板50の光取出し面50aに、気泡521とその周囲の部材との屈折率差が大きい気泡担持体52を設ける。気泡担持体52は、発光波長に対して透光性を有し、屈折率が1.77以上のシリコン等の材料からなり、屈折率が1程度の空気、不活性ガス等のガスからなる複数の気泡を担持した気泡担持層を有する。このことにより、発光部で発光した光が気泡担持体52で散乱するとき、その散乱光の広がりが大きくなり、発光装置内における完全反射の繰り返しが抑えられ、光取出し効率が高くなる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、発光ダイオード(LED)等の発光素子から光を放射する発光装置に関し、特に、光取出し効率の高い発光装置に関する。
光取出し効率を向上させた従来のLEDチップとして、例えば、基板の光取り出し面側に凹凸を設けたものが知られている(例えば、特許文献1参照。)。
図6は、その従来のLEDチップを示す。このLEDチップ100は、サファイア基板101上に、GaNバッファ層102、n型半導体層103およびp型半導体層104の窒化物半導体層を形成し、p型半導体層104の上にp側電極105を設け、n型半導体層103の上にn側電極106を設けたものであり、バンプ130a,130bによって実装基板110上にフリップチップ接合される。また、サファイア基板101の窒化物半導体層が形成された側と反対側の面には、研磨剤の粒度を調整してそれらの面を研磨することにより、1μm程度の凹凸面101a,101bを形成している。これらの凹凸面101a,101bにより、窒化物半導体層の発光部で発光した光がサファイア基板101の凹凸面101a,101bでランダムな方向に反射するので、LEDチップ100内における完全反射の繰り返しを抑え、光取出し効率を向上させることができる。
特開2002−319708号公報([0022]〜[0024]、図2)
しかし、従来のLEDチップによると、樹脂封止部材によってLEDチップを封止した場合、サファイア基板の屈折率が1.77であるのに対し、サファイア基板の凹凸面に接触する樹脂封止部材の屈折率は1.5であるので、両者の屈折率差が小さいため、凹凸面で発生する散乱光の広がりが小さくなり、LEDチップ内における完全反射の繰り返しを十分抑えることができず、光取出し効率をさらに高めることが難しい。
従って、本発明の目的は、光の散乱を増加させて、配光を広くして、装置全体の光取出し効率の高い発光装置を提供することにある。
本発明は、上記目的を達成するため、所定の波長に対して透光性を有する基板と、
前記基板上に形成され、前記所定の波長で発光する活性部を有する半導体層と、
前記基板の前記半導体層が形成された側と反対側の面に形成され、前記所定の波長に対して透光性を有する気泡担持体とを備えたことを特徴とする発光装置を提供する。
前記気泡担持体は、前記基板の前記半導体層が形成された側と反対側の面に形成されることが好ましい。
前記基板は、前記半導体層が形成された側と反対側の面上に凹凸面を有し、
前記気泡担持体は、前記凹凸面上に形成されていることが好ましい。
前記基板は、その表面に、前記凹凸面を有する凹凸形成層を備えていることが好ましい。
前記基板は、その表面にエッチングによって前記凹凸面が形成されていても良い。
前記気泡担持体は、前記気泡を担持する部材が1.77以上の屈折率を有することが好ましい。
本発明の発光装置によれば、主たる光取出し面に、気泡とその周囲の部材との屈折率差が大きい気泡担持体を設けることにより、発光部で発光した光が気泡担持体で散乱するとき、その散乱光の広がりが大きくなるので、発光装置内における完全反射の繰り返しが抑えられ、光取出し効率が高くなる。
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る発光装置を示す。この発光装置1は、熱伝導性の良好な銅合金、アルミニウム合金等の金属からなる一対のリードフレーム2A,2Bと、一方のリードフレーム2Aの上端に形成され、周囲に反射面20bを有するカップ20と、カップ20の底面20aにAgペースト等の導電性接着剤3によって接合されたサブマウント4と、サブマウント4上にフリップチップ接合されたLEDチップ5と、サブマウント4と他方のリードフレーム2Bとを電気的に接続するボンディングワイヤ7と、LEDチップ5の発光波長に対して透光性を有し、一対のリードフレーム2A,2Bの一部、LEDチップ5およびボンディングワイヤ7を封止するとともに、LEDチップ5の発光光に指向性を付与する砲弾形状の樹脂封止部材6とを有する。
LEDチップ5は、発光波長に対して透光性を有する基板、例えば、サファイア基板50と、サファイア基板50上に形成され、発光部を有する窒化物半導体層51と、サファイア基板50の窒化物半導体層51が形成された側と反対側の面(光取出し面)50aに形成され、気泡を担持する透明気泡担持体52とを備える。
図2は、サブマウント4およびLEDチップ5の詳細を示す。サブマウント4は、n型シリコン基板40と、n型シリコン基板40の一部に形成されたp型半導体41と、n型シリコン基板40の上面に設けられたn側電極42と、p型半導体41の上面に設けられたp側電極43と、n型シリコン基板40の下面に設けられたn側電極44とを備える。
LEDチップ5は、サファイア基板50上に、バッファ層510、n型半導体層511、発光部を構成する活性層512、およびp型半導体層513からなる窒化物半導体層51を成長させ、p型半導体層513上にn側電極54、n型半導体層511上にp側電極53を設けたものである。このLEDチップ5は、サブマウント4のn側電極42およびp側電極43とLEDチップ5側のn側電極54およびp側電極53とをAuバンプ8A,8Bにより接続することにより、サブマウント4上にフリップチップ接合されている。
図3は、透明気泡担持体52の詳細を示す。この透明気泡担持体52は、サファイア基板50の光取出し面50aに形成された凹凸形成層520と、凹凸形成層520上に形成され、気泡521を担持する気泡担持層522とを備える。
凹凸形成層520は、サファイア基板580の光取出し面50a上にSiO2、Al23、ITO等の粒子を蒸着することにより、気泡521を捕獲するのに適したオーバーハング部を含む複雑な形状の凹凸面520aを形成したものである。
気泡担持層522は、発光波長に対して透光性を有し、屈折率が1.77以上のシリコン等の材料からなり、屈折率が1程度の空気、不活性ガス等のガスからなる複数の気泡521を担持したものである。この気泡担持層522は、例えば、高温で複数の気泡521を有する流動状態のシリコンを凹凸形成層520上に供給し、気泡521を凹凸面520aのオーバーハング部に捕獲させ、その後冷却により硬化させて形成される。
この第1の実施の形態によれば、透明気泡担持体52の気泡521とその周囲の気泡担持体層523との屈折率差が大きいため、発光部で発光した光が気泡担持体52で散乱するとき、その散乱光の広がりが大きくなり、発光装置1内における完全反射の繰り返しが抑えられ、光取出し効率をさらに向上させることができる。また、凹凸形成層520の凹凸面520aはオーバーハング部を有しているので、多数の気泡521を担持することができる。さらに、凹凸面520aは複雑な形状を有しているため、発光光をこの凹凸面520aでランダムな方向に反射することができ、透明気泡担持体52と相俟って光取出し効率を向上させることができる。
図4は、本発明の第2の実施の形態に係る透明気泡担持体を示す。この透明気泡担持体52は、例えば、射出発泡成形法によって作製された気泡521を有するシート状の気泡担持層523を、サファイア基板50の光取出し面50aに接合したものである。この第2の実施の形態によれば、第1の実施の形態と同様に、気泡521とその周囲の気泡担持体層523との屈折率差が大きいため、散乱光の広がりが大きくなり、完全反射の繰り返しを抑えて光取出し効率を向上させることができる。
図5は、本発明の第3の実施の形態に係る透明気泡担持体を示す。この透明気泡担持体52は、サファイア基板50の光取出し面50a自体を化学的あるいは機械的にエッチングして凹凸面とし、この凹凸面の光取出し面50a上に、図4に示すように、気泡521を担持した気泡担持層523を接合したものである。この第3の実施の形態によれば、凹凸面と透明気泡担持体52により二重に光散乱を起こすことができるので、完全反射の繰り返しを抑えて光取出し効率を向上させることができる。
なお、上記各実施の形態では、サファイア基板の窒化物半導体層が形成された側と反対側の面に透明気泡担持体を設けたが、サファイア基板の側面にも前述したのと同様に設けてもよい。
本発明の第1の実施の形態に係る発光装置を示す断面図である。 本発明の第1の実施の形態に係るサブマウントおよびLEDチップの詳細を示す断面図である。 本発明の第1の実施の形態に係る透明気泡担持体を示す断面図である。 本発明の第2の実施の形態に係る透明気泡担持体を示す断面図である。 本発明の第3の実施の形態に係る透明気泡担持体を示す断面図である。 従来のLEDチップを示す断面図である。
符号の説明
1 発光装置
2A,2B リードフレーム
3 導電性接着剤
4 サブマウント
5 LEDチップ
6 樹脂封止部材
7 ボンティングワイヤ
8A,8B Auバンプ
20 カップ
20a 底面
20b 反射面
40 n型シリコン基板
41 p型半導体
42 n側電極
43 p側電極
44 n側電極
50 サファイア基板
50a 光取出し面
51 窒化物半導体層
52 透明気泡担持体
53 p側電極
54 n側電極
100 LEDチップ
101 サファイア基板
102 GaNバッファ層
103 n型半導体層
104 p型半導体層
105 p側電極
106 n側電極
130a,130b バンプ
110 実装基板
101a,101b 凹凸面
510 バッファ層
511 n型半導体層
512 活性層
513 p型半導体層
520 凹凸形成層
520a 凹凸面
522 気泡担持層
521 気泡
523 気泡担持層

Claims (6)

  1. 所定の波長に対して透光性を有する基板と、
    前記基板上に形成され、前記所定の波長で発光する活性部を有する半導体層と、
    前記基板の前記半導体層が形成された側と反対側の面に形成され、前記所定の波長に対して透光性を有する気泡担持体とを備えたことを特徴とする発光装置。
  2. 前記気泡担持体は、前記基板の前記半導体層が形成された側と反対側の面に形成されたことを特徴とする請求項1記載の発光装置。
  3. 前記基板は、前記半導体層が形成された側と反対側の面上に凹凸面を有し、
    前記気泡担持体は、前記凹凸面上に形成されたことを特徴とする請求項2記載の発光装置。
  4. 前記基板は、その表面に、前記凹凸面を有する凹凸形成層を備えたことを特徴とする請求項3記載の発光装置。
  5. 前記基板は、その表面にエッチングによって前記凹凸面が形成されたことを特徴とする請求項3記載の発光装置。
  6. 前記気泡担持体は、前記気泡を担持する部材が1.77以上の屈折率を有することを特徴とする請求項1ないし5記載の発光装置。

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JP (1) JP4232585B2 (ja)

Cited By (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006278751A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Mitsubishi Cable Ind Ltd GaN系半導体発光素子
KR100638827B1 (ko) 2005-06-16 2006-10-27 삼성전기주식회사 Led용 굴절률 매칭층의 형성 방법 및 이를 이용하여제조된 발광장치
US7157839B2 (en) * 2003-01-27 2007-01-02 3M Innovative Properties Company Phosphor based light sources utilizing total internal reflection
KR100708937B1 (ko) 2005-10-05 2007-04-17 삼성전기주식회사 고휘도 발광 다이오드 소자
JP2008004948A (ja) * 2006-06-09 2008-01-10 Philips Lumileds Lightng Co Llc 低プロファイルの側面放射led
JP2008544568A (ja) * 2005-07-04 2008-12-04 ソウル セミコンダクター カンパニー リミテッド 発光ダイオード及びその製造方法
JP2009200522A (ja) * 2009-05-15 2009-09-03 Mitsubishi Chemicals Corp GaN系半導体発光素子
JP2010520643A (ja) * 2007-03-08 2010-06-10 センサーズ・フォー・メデセン・アンド・サイエンス・インコーポレーテッド 過酷な環境のための発光ダイオード
JP2010263133A (ja) * 2009-05-11 2010-11-18 Furukawa Electric Co Ltd:The 発光ダイオード装置および発光ダイオード装置の製造方法
JP2011526076A (ja) * 2008-06-26 2011-09-29 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 光変換構成体
JP2015002232A (ja) * 2013-06-14 2015-01-05 株式会社ディスコ 発光デバイス
US9577164B2 (en) 2013-08-30 2017-02-21 Asahi Kasei E-Materials Corporation Semiconductor light emitting device and optical film
JP2017224727A (ja) * 2016-06-15 2017-12-21 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2017224726A (ja) * 2016-06-15 2017-12-21 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2017224725A (ja) * 2016-06-15 2017-12-21 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2017224724A (ja) * 2016-06-15 2017-12-21 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2017224728A (ja) * 2016-06-15 2017-12-21 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018060950A (ja) * 2016-10-06 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018060951A (ja) * 2016-10-06 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018060868A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018060947A (ja) * 2016-10-06 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018060867A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018060948A (ja) * 2016-10-06 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018060865A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018060870A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018060866A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018060949A (ja) * 2016-10-06 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018060869A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018060946A (ja) * 2016-10-06 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018074110A (ja) * 2016-11-04 2018-05-10 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018074111A (ja) * 2016-11-04 2018-05-10 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018074109A (ja) * 2016-11-04 2018-05-10 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018074112A (ja) * 2016-11-04 2018-05-10 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018074113A (ja) * 2016-11-04 2018-05-10 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018078142A (ja) * 2016-11-07 2018-05-17 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018078140A (ja) * 2016-11-07 2018-05-17 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018078141A (ja) * 2016-11-07 2018-05-17 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018078144A (ja) * 2016-11-07 2018-05-17 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018113386A (ja) * 2017-01-13 2018-07-19 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018116966A (ja) * 2017-01-16 2018-07-26 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018116967A (ja) * 2017-01-16 2018-07-26 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018129341A (ja) * 2017-02-06 2018-08-16 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018129343A (ja) * 2017-02-06 2018-08-16 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018129370A (ja) * 2017-02-07 2018-08-16 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018129346A (ja) * 2017-02-06 2018-08-16 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018129348A (ja) * 2017-02-06 2018-08-16 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018148016A (ja) * 2017-03-06 2018-09-20 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018148096A (ja) * 2017-03-07 2018-09-20 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018148095A (ja) * 2017-03-07 2018-09-20 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018181877A (ja) * 2017-04-03 2018-11-15 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018186169A (ja) * 2017-04-25 2018-11-22 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018186168A (ja) * 2017-04-25 2018-11-22 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018186166A (ja) * 2017-04-25 2018-11-22 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018186165A (ja) * 2017-04-25 2018-11-22 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
CN110867455A (zh) * 2018-08-28 2020-03-06 乐金显示有限公司 显示装置
JP2020188212A (ja) * 2019-05-16 2020-11-19 日亜化学工業株式会社 発光装置及び発光装置の製造方法

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7777235B2 (en) * 2003-05-05 2010-08-17 Lighting Science Group Corporation Light emitting diodes with improved light collimation
US20070013057A1 (en) * 2003-05-05 2007-01-18 Joseph Mazzochette Multicolor LED assembly with improved color mixing
JP2006156837A (ja) * 2004-11-30 2006-06-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体発光装置、発光モジュール、および照明装置
KR100638819B1 (ko) * 2005-05-19 2006-10-27 삼성전기주식회사 광추출효율이 개선된 수직구조 질화물 반도체 발광소자
JP4997621B2 (ja) * 2005-09-05 2012-08-08 パナソニック株式会社 半導体発光素子およびそれを用いた照明装置
US7772604B2 (en) 2006-01-05 2010-08-10 Illumitex Separate optical device for directing light from an LED
US7955531B1 (en) 2006-04-26 2011-06-07 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Patterned light extraction sheet and method of making same
US7521727B2 (en) * 2006-04-26 2009-04-21 Rohm And Haas Company Light emitting device having improved light extraction efficiency and method of making same
JP2010506402A (ja) 2006-10-02 2010-02-25 イルミテックス, インコーポレイテッド Ledのシステムおよび方法
DE112007002696T5 (de) 2006-12-26 2009-11-05 Seoul Opto Device Co. Ltd., Ansan Licht emittierende Vorrichtung
JP2008244161A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Toyoda Gosei Co Ltd Iii族窒化物系化合物半導体発光素子の電極形成方法
US8368114B2 (en) * 2007-05-18 2013-02-05 Chiuchung Yang Flip chip LED die and array thereof
US7829358B2 (en) 2008-02-08 2010-11-09 Illumitex, Inc. System and method for emitter layer shaping
DE102008024551A1 (de) * 2008-05-21 2009-11-26 Tesa Se Verfahren zur Verkapselung von optoelektronischen Bauteilen
TW201034256A (en) 2008-12-11 2010-09-16 Illumitex Inc Systems and methods for packaging light-emitting diode devices
CN101494273B (zh) * 2009-02-27 2011-01-19 上海蓝光科技有限公司 一种发光二极管芯片及其制造方法
US8585253B2 (en) 2009-08-20 2013-11-19 Illumitex, Inc. System and method for color mixing lens array
US8449128B2 (en) 2009-08-20 2013-05-28 Illumitex, Inc. System and method for a lens and phosphor layer
CN102280553A (zh) * 2010-06-10 2011-12-14 杨秋忠 覆晶发光二极管晶粒及其晶粒阵列
TW201214802A (en) * 2010-09-27 2012-04-01 Nat Univ Chung Hsing Patterned substrate and LED formed using the same
US20130234185A1 (en) * 2012-03-06 2013-09-12 Landauer, Inc. Doped sapphire as substrate and light converter for light emitting diode
JP6372664B2 (ja) * 2015-03-20 2018-08-15 豊田合成株式会社 発光装置およびその製造方法
DE102015107489B4 (de) * 2015-05-12 2020-07-02 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Reduzierung des Schichtwiderstands in einer elektronischen Vorrichtung
JP2018148015A (ja) * 2017-03-06 2018-09-20 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP7284366B2 (ja) * 2017-08-29 2023-05-31 日亜化学工業株式会社 発光装置
DE102018106238A1 (de) * 2018-03-16 2019-09-19 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches bauelement und verfahren zur herstellung desselben

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63271983A (ja) * 1986-12-12 1988-11-09 Mitsubishi Cable Ind Ltd 発光ダイオ−ドランプ
JPH0513171A (ja) * 1991-06-28 1993-01-22 Toshiba Corp 有機薄膜電界発光素子
JPH0746376A (ja) * 1993-05-21 1995-02-14 Nikon Corp 画像読取装置
JPH07122784A (ja) * 1992-07-14 1995-05-12 Takashi Fukaya 発光ダイオード
JPH08279628A (ja) * 1995-04-05 1996-10-22 Casio Comput Co Ltd 電界発光素子
JP2001217467A (ja) * 2000-02-02 2001-08-10 Ind Technol Res Inst 高効率白色発光ダイオード
JP2001230448A (ja) * 1997-01-31 2001-08-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 発光素子および発光装置ならびにそれらの製造方法
JP2002368263A (ja) * 2001-06-06 2002-12-20 Toyoda Gosei Co Ltd Iii族窒化物系化合物半導体発光素子
JP2003016806A (ja) * 2001-07-02 2003-01-17 Ikegami Tsusho Co Ltd 発光ダイオードを使用した照明灯
JP2003046124A (ja) * 2001-07-26 2003-02-14 Matsushita Electric Works Ltd 発光素子及びその製造方法
JP2003197973A (ja) * 2001-12-28 2003-07-11 Toshiba Lighting & Technology Corp 発光ダイオードおよびled表示装置
JP2003243727A (ja) * 2001-12-14 2003-08-29 Nichia Chem Ind Ltd 発光装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6777871B2 (en) * 2000-03-31 2004-08-17 General Electric Company Organic electroluminescent devices with enhanced light extraction
WO2002041406A1 (en) * 2000-11-16 2002-05-23 Emcore Corporation Microelectronic package having improved light extraction
US20020084745A1 (en) * 2000-12-29 2002-07-04 Airma Optoelectronics Corporation Light emitting diode with light conversion by dielectric phosphor powder
JP2002319708A (ja) 2001-04-23 2002-10-31 Matsushita Electric Works Ltd Ledチップおよびled装置
JP2006036930A (ja) * 2004-07-27 2006-02-09 Nitto Denko Corp 光半導体素子封止用樹脂

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63271983A (ja) * 1986-12-12 1988-11-09 Mitsubishi Cable Ind Ltd 発光ダイオ−ドランプ
JPH0513171A (ja) * 1991-06-28 1993-01-22 Toshiba Corp 有機薄膜電界発光素子
JPH07122784A (ja) * 1992-07-14 1995-05-12 Takashi Fukaya 発光ダイオード
JPH0746376A (ja) * 1993-05-21 1995-02-14 Nikon Corp 画像読取装置
JPH08279628A (ja) * 1995-04-05 1996-10-22 Casio Comput Co Ltd 電界発光素子
JP2001230448A (ja) * 1997-01-31 2001-08-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 発光素子および発光装置ならびにそれらの製造方法
JP2001217467A (ja) * 2000-02-02 2001-08-10 Ind Technol Res Inst 高効率白色発光ダイオード
JP2002368263A (ja) * 2001-06-06 2002-12-20 Toyoda Gosei Co Ltd Iii族窒化物系化合物半導体発光素子
JP2003016806A (ja) * 2001-07-02 2003-01-17 Ikegami Tsusho Co Ltd 発光ダイオードを使用した照明灯
JP2003046124A (ja) * 2001-07-26 2003-02-14 Matsushita Electric Works Ltd 発光素子及びその製造方法
JP2003243727A (ja) * 2001-12-14 2003-08-29 Nichia Chem Ind Ltd 発光装置
JP2003197973A (ja) * 2001-12-28 2003-07-11 Toshiba Lighting & Technology Corp 発光ダイオードおよびled表示装置

Cited By (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7157839B2 (en) * 2003-01-27 2007-01-02 3M Innovative Properties Company Phosphor based light sources utilizing total internal reflection
JP2006278751A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Mitsubishi Cable Ind Ltd GaN系半導体発光素子
KR100638827B1 (ko) 2005-06-16 2006-10-27 삼성전기주식회사 Led용 굴절률 매칭층의 형성 방법 및 이를 이용하여제조된 발광장치
JP2008544568A (ja) * 2005-07-04 2008-12-04 ソウル セミコンダクター カンパニー リミテッド 発光ダイオード及びその製造方法
US8809892B2 (en) 2005-07-04 2014-08-19 Seoul Semiconductor Co., Ltd. Light emitting diode and method of fabricating the same
KR100708937B1 (ko) 2005-10-05 2007-04-17 삼성전기주식회사 고휘도 발광 다이오드 소자
JP2008004948A (ja) * 2006-06-09 2008-01-10 Philips Lumileds Lightng Co Llc 低プロファイルの側面放射led
JP2010520643A (ja) * 2007-03-08 2010-06-10 センサーズ・フォー・メデセン・アンド・サイエンス・インコーポレーテッド 過酷な環境のための発光ダイオード
JP2011526076A (ja) * 2008-06-26 2011-09-29 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 光変換構成体
JP2010263133A (ja) * 2009-05-11 2010-11-18 Furukawa Electric Co Ltd:The 発光ダイオード装置および発光ダイオード装置の製造方法
JP2009200522A (ja) * 2009-05-15 2009-09-03 Mitsubishi Chemicals Corp GaN系半導体発光素子
JP2015002232A (ja) * 2013-06-14 2015-01-05 株式会社ディスコ 発光デバイス
US9577164B2 (en) 2013-08-30 2017-02-21 Asahi Kasei E-Materials Corporation Semiconductor light emitting device and optical film
JP2017224727A (ja) * 2016-06-15 2017-12-21 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2017224726A (ja) * 2016-06-15 2017-12-21 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2017224725A (ja) * 2016-06-15 2017-12-21 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2017224724A (ja) * 2016-06-15 2017-12-21 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2017224728A (ja) * 2016-06-15 2017-12-21 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018060869A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018060865A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018060868A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018060866A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018060867A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018060870A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018060949A (ja) * 2016-10-06 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018060948A (ja) * 2016-10-06 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018060947A (ja) * 2016-10-06 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018060951A (ja) * 2016-10-06 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018060950A (ja) * 2016-10-06 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018060946A (ja) * 2016-10-06 2018-04-12 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018074112A (ja) * 2016-11-04 2018-05-10 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018074111A (ja) * 2016-11-04 2018-05-10 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018074109A (ja) * 2016-11-04 2018-05-10 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018074110A (ja) * 2016-11-04 2018-05-10 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018074113A (ja) * 2016-11-04 2018-05-10 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
TWI732047B (zh) * 2016-11-04 2021-07-01 日商迪思科股份有限公司 發光二極體晶片的製造方法及發光二極體晶片
JP2018078142A (ja) * 2016-11-07 2018-05-17 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018078140A (ja) * 2016-11-07 2018-05-17 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018078141A (ja) * 2016-11-07 2018-05-17 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018078144A (ja) * 2016-11-07 2018-05-17 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法
JP2018113386A (ja) * 2017-01-13 2018-07-19 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018116967A (ja) * 2017-01-16 2018-07-26 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018116966A (ja) * 2017-01-16 2018-07-26 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018129343A (ja) * 2017-02-06 2018-08-16 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018129346A (ja) * 2017-02-06 2018-08-16 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018129348A (ja) * 2017-02-06 2018-08-16 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018129341A (ja) * 2017-02-06 2018-08-16 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018129370A (ja) * 2017-02-07 2018-08-16 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018148016A (ja) * 2017-03-06 2018-09-20 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018148096A (ja) * 2017-03-07 2018-09-20 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018148095A (ja) * 2017-03-07 2018-09-20 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018181877A (ja) * 2017-04-03 2018-11-15 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018186168A (ja) * 2017-04-25 2018-11-22 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018186166A (ja) * 2017-04-25 2018-11-22 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018186165A (ja) * 2017-04-25 2018-11-22 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
JP2018186169A (ja) * 2017-04-25 2018-11-22 株式会社ディスコ 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ
CN110867455A (zh) * 2018-08-28 2020-03-06 乐金显示有限公司 显示装置
JP2020188212A (ja) * 2019-05-16 2020-11-19 日亜化学工業株式会社 発光装置及び発光装置の製造方法
JP7071648B2 (ja) 2019-05-16 2022-05-19 日亜化学工業株式会社 発光装置及び発光装置の製造方法

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