JP2005056535A - 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 被加工体10の両面を同時に加工する。又、連続記録層20のドライエッチング手法としてイオンビームエッチングを用いる。レジスト層26を連続記録層20のドライエッチングの前に除去する。
【選択図】 図10
Description
(7)のいずれかの磁気記録媒体の製造方法。
第1のマスク層:50℃以下、約10秒(反応ガスO2)
連続記録層 :約120℃以下、約30秒(Arイオンビーム)
上記実施例に対し、COガス等を反応ガスとする反応性イオンエッチングで連続記録層を片面ずつ加工した。第1のマスク層の材料はTa、厚さは25nmとし、SF6ガスを反応ガスとする反応性イオンエッチングで加工した。尚、分割記録要素31上に残存する第1のマスク層22もSF6ガスを反応ガスとするアッシングにより除去した。又、第2のマスク層の材料はNi、厚さは10nmとし、イオンビームエッチングで加工した。尚、反応性イオンエッチングでは、冷却機構を用いて被加工体を冷却し、被加工体10を1個ずつ加工した。他の条件は上記実施例と同様とした。
第1のマスク層:120℃以下、約20秒(反応ガスSF6)
連続記録層 :250〜300℃、約60秒(反応ガスCO等)
12…ガラス基板
14…下地層
16…軟磁性層
18…配向層
20…連続記録層
22…第1のマスク層
24…第2のマスク層
26…レジスト層
30…磁気記録媒体
31…分割記録要素
32…非磁性体
33…溝部
34…保護層
36…潤滑層
38…隔膜
40…磁気記録媒体の製造装置
42…転写手段
44、52…アッシング装置
46、48…反応性イオンエッチング装置
50…イオンビームエッチング装置
54…ドライ洗浄手段
56…隔膜形成手段
58…非磁性体充填手段
60…平坦化手段
62…保護層形成手段
64…潤滑層形成手段
66…真空保持手段
68…ホルダ
70…真空槽
72…真空ポンプ
S102…レジスト層加工工程
S104…第2のマスク層加工工程
S106…レジスト層除去工程、兼第1のマスク層加工工程
S108…連続記録層加工工程
S110…第1のマスク層除去工程
S112…ドライ洗浄工程
S114…隔膜形成工程
S116…非磁性体充填工程
S118…平坦化工程
S120…保護層形成工程
S122…潤滑層形成工程
Claims (15)
- 基板両面に連続記録層が形成された被加工体を加工し、多数の分割記録要素で構成された分割記録層を前記基板両面に形成する磁気記録媒体の製造方法であって、
前記被加工体の両面を同時に加工する加工工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項1において、
前記被加工体は前記基板両面に前記連続記録層、マスク層及びレジスト層をこの順で形成してなる構成として、前記レジスト層を所定のパターン形状に加工するレジスト層加工工程と、該レジスト層に基づいて前記マスク層を前記パターン形状に加工するマスク層加工工程と、該マスク層に基づいて前記連続記録層を前記パターン形状に加工し、前記多数の分割記録要素に分割する連続記録層加工工程と、を含み、且つ、前記レジスト層加工工程、前記マスク層加工工程及び前記連続記録層加工工程の少なくとも一の工程が前記被加工体の両面を同時に加工するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項2において、
前記レジスト層加工工程は、インプリント法を用いて前記被加工体の両面のレジスト層に前記パターン形状を同時に転写するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項2又は3において、
前記連続記録層加工工程は、イオンビームエッチングを用いて前記被加工体の両面の前記連続記録層を同時に加工するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項2乃至4のいずれかにおいて、
前記連続記録層加工工程の前に、前記レジスト層を除去するレジスト層除去工程を設けたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項2乃至5のいずれかにおいて、
前記連続記録層、前記マスク層及び前記レジスト層を成膜する成膜工程を含み、且つ、該成膜工程は前記連続記録層、前記マスク層及び前記レジスト層の少なくとも一の層を前記基板の両側に同時に成膜するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項1乃至6のいずれかにおいて、
複数の前記被加工体を同時に加工するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項1乃至7のいずれかにおいて、
総ての加工工程が前記被加工体の両面を同時に加工するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 基板両面に連続記録層が形成された被加工体を加工し、多数の分割記録要素で構成された分割記録層を前記基板両面に形成するための磁気記録媒体の製造装置であって、
前記基板両面を同時に加工するための加工装置を備えることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。 - 請求項9において、
前記基板両面に連続記録層、マスク層及びレジスト層をこの順で形成してなる被加工体の前記レジスト層を所定のパターン形状に加工するためのレジスト層加工装置と、該レジスト層に基づいて前記マスク層を前記パターン形状に加工するためのマスク層加工装置と、該マスク層に基づいて前記連続記録層を前記パターン形状に加工し、多数の分割記録要素に分割する連続記録層加工装置と、を備え、且つ、前記レジスト層加工装置、前記マスク層加工装置及び前記連続記録層加工装置の少なくとも一の加工装置は、前記被加工体の両面を同時に加工するように構成されたことを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。 - 請求項10において、
前記レジスト層加工装置は、インプリント法により前記被加工体の両面の前記レジスト層に前記パターンを同時に転写するように構成されたプレス装置であることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。 - 請求項10又は11において、
前記連続記録層加工装置は、イオンビームエッチングにより前記被加工体の両面の前記連続記録層を同時に加工するように構成されたイオンビームエッチング装置であることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。 - 請求項10乃至12のいずれかにおいて、
前記連続記録層、前記マスク層及び前記レジスト層の少なくとも一の層を前記基板の両側に対称的に同時に成膜するための成膜装置を備えることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。 - 請求項9乃至13のいずれかにおいて、
複数の前記被加工体を保持するためのホルダを備え、複数の前記被加工体の両面を同時に加工可能とされたことを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。 - 請求項9乃至14のいずれかにおいて、
総ての加工工程において前記被加工体の両面を同時に加工するように構成されたことを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
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Cited By (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006310678A (ja) * | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 微細表面構造形成用基板、微細表面構造物品の製造方法及びその製造方法で製造された微細表面構造物品 |
JP2007026516A (ja) * | 2005-07-14 | 2007-02-01 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法、及び基板アダプタ |
JP2008010102A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 |
JP2008135092A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 |
JP2008146737A (ja) * | 2006-12-08 | 2008-06-26 | Toshiba Corp | ディスクリートトラック媒体の製造方法および製造装置 |
JP2008155522A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | インプリント方法およびその装置 |
JP2009223998A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 |
JP2009271967A (ja) * | 2008-05-01 | 2009-11-19 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体および磁気記録再生装置 |
JP2010020841A (ja) * | 2008-07-10 | 2010-01-28 | Showa Denko Kk | インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
JP2010027157A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-02-04 | Ulvac Japan Ltd | 磁気記録媒体製造装置 |
US7672075B2 (en) | 2005-03-10 | 2010-03-02 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium, recording/reproducing apparatus, and stamper |
JP2010102815A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-05-06 | Canon Anelva Corp | 基板処理装置、及び磁気記録媒体の製造方法 |
JP2010102814A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-05-06 | Canon Anelva Corp | 基板処理装置、及び磁気記録媒体の製造方法 |
JP2010118648A (ja) * | 2008-10-16 | 2010-05-27 | Canon Anelva Corp | 基板処理装置およびそのクリーニング方法 |
JP2010140569A (ja) * | 2008-12-12 | 2010-06-24 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
WO2010082297A1 (ja) * | 2009-01-13 | 2010-07-22 | パイオニア株式会社 | 転写装置 |
JP2010192056A (ja) * | 2009-02-19 | 2010-09-02 | Showa Denko Kk | インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
CN101645275B (zh) * | 2008-07-31 | 2011-06-15 | 佳能安内华股份有限公司 | 基板处理设备以及磁记录介质制造方法 |
JP2011518400A (ja) * | 2008-02-12 | 2011-06-23 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | プラズマイオン注入を用いた磁区パターン形成 |
US7967993B2 (en) | 2008-07-25 | 2011-06-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
US8002997B2 (en) | 2008-08-22 | 2011-08-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium and magnetic recording medium |
US8012361B2 (en) | 2009-02-20 | 2011-09-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
US8029682B2 (en) | 2009-02-20 | 2011-10-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
US8057689B2 (en) | 2009-02-20 | 2011-11-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
US8455337B2 (en) | 2010-03-11 | 2013-06-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Crystallization apparatus, crystallization method, method of manufacturing thin film transistor and method of manufacturing organic light emitting display apparatus |
JP2013149329A (ja) * | 2012-01-20 | 2013-08-01 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録再生装置 |
US8652338B2 (en) | 2007-09-26 | 2014-02-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
US8834774B2 (en) | 2008-04-22 | 2014-09-16 | Fuji Electric Co., Ltd. | Imprinting method and apparatus therefor |
US8980451B2 (en) | 2010-09-17 | 2015-03-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium, method of manufacturing the same, and magnetic recording apparatus |
US9023268B2 (en) | 2008-04-22 | 2015-05-05 | Fuji Electric Co., Ltd. | Imprinting method and apparatus therefor |
US9146460B2 (en) | 2008-04-22 | 2015-09-29 | Fuji Electric Co., Ltd. | Imprinting method and apparatus therefor |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007115323A (ja) * | 2005-10-19 | 2007-05-10 | Sony Corp | 磁気ディスクの製造方法 |
JP2008171505A (ja) * | 2007-01-12 | 2008-07-24 | Showa Denko Kk | 炭素保護膜の形成方法及び磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 |
JP2009277267A (ja) * | 2008-05-12 | 2009-11-26 | Toshiba Corp | パターン転写方法 |
US20100020443A1 (en) * | 2008-07-22 | 2010-01-28 | Thomas Robert Albrecht | Creation of mirror-image patterns by imprint and image tone reversal |
JP5177680B2 (ja) * | 2009-02-04 | 2013-04-03 | 富士電機株式会社 | インプリント装置 |
US9685186B2 (en) * | 2009-02-27 | 2017-06-20 | Applied Materials, Inc. | HDD pattern implant system |
US20100326819A1 (en) * | 2009-06-24 | 2010-12-30 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for making a patterned perpendicular magnetic recording disk |
JP2020150217A (ja) * | 2019-03-15 | 2020-09-17 | キオクシア株式会社 | 磁気記憶装置および磁気記憶装置の製造方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3913520A (en) * | 1972-08-14 | 1975-10-21 | Precision Thin Film Corp | High vacuum deposition apparatus |
JPS5730130A (en) * | 1980-07-28 | 1982-02-18 | Hitachi Ltd | Production of abrasive-dish original disk with groove for video disk stylus |
US4632898A (en) * | 1985-04-15 | 1986-12-30 | Eastman Kodak Company | Process for fabricating glass tooling |
JP3034879B2 (ja) * | 1989-07-06 | 2000-04-17 | 株式会社日立製作所 | 磁気ディスクの製造方法 |
JPH0528488A (ja) * | 1991-07-17 | 1993-02-05 | Sony Corp | 磁気デイスク用プラスチツク基板の成形方法 |
JPH06274868A (ja) * | 1993-03-19 | 1994-09-30 | Brother Ind Ltd | 磁気記録媒体 |
US5472566A (en) * | 1994-11-14 | 1995-12-05 | Gatan, Inc. | Specimen holder and apparatus for two-sided ion milling system |
JPH08287461A (ja) * | 1995-04-19 | 1996-11-01 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク基板の成形金型及びその成形方法 |
JPH0997419A (ja) * | 1995-07-24 | 1997-04-08 | Toshiba Corp | 磁気ディスク、磁気ディスクの製造方法、及び磁気記録装置 |
US6014296A (en) * | 1995-07-24 | 2000-01-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic disk, method of manufacturing magnetic disk and magnetic recording apparatus |
JP3058062B2 (ja) * | 1995-10-13 | 2000-07-04 | 日本電気株式会社 | 光ディスク用記録原盤の製造方 |
US5667592A (en) * | 1996-04-16 | 1997-09-16 | Gasonics International | Process chamber sleeve with ring seals for isolating individual process modules in a common cluster |
US6176932B1 (en) * | 1998-02-16 | 2001-01-23 | Anelva Corporation | Thin film deposition apparatus |
US6264848B1 (en) * | 1998-04-09 | 2001-07-24 | Seagate Technology Llc | Method for providing track position and identification information for data storage devices |
JP2001167420A (ja) * | 1999-09-27 | 2001-06-22 | Tdk Corp | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2001243665A (ja) * | 1999-11-26 | 2001-09-07 | Canon Inc | 光ディスク基板成型用スタンパおよびその製造方法 |
JP4268303B2 (ja) * | 2000-02-01 | 2009-05-27 | キヤノンアネルバ株式会社 | インライン型基板処理装置 |
JP2001143252A (ja) * | 2000-10-06 | 2001-05-25 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
JP3850718B2 (ja) * | 2001-11-22 | 2006-11-29 | 株式会社東芝 | 加工方法 |
US6829988B2 (en) * | 2003-05-16 | 2004-12-14 | Suss Microtec, Inc. | Nanoimprinting apparatus and method |
-
2003
- 2003-08-07 JP JP2003289191A patent/JP2005056535A/ja active Pending
-
2004
- 2004-08-03 WO PCT/JP2004/011085 patent/WO2005015549A1/ja active Application Filing
- 2004-08-03 US US10/544,895 patent/US20060115584A1/en not_active Abandoned
- 2004-08-03 CN CNB2004800023578A patent/CN100474401C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7672075B2 (en) | 2005-03-10 | 2010-03-02 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium, recording/reproducing apparatus, and stamper |
JP2006310678A (ja) * | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 微細表面構造形成用基板、微細表面構造物品の製造方法及びその製造方法で製造された微細表面構造物品 |
JP4654337B2 (ja) * | 2005-07-14 | 2011-03-16 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 磁気記録媒体の製造方法、及び基板アダプタ |
JP2007026516A (ja) * | 2005-07-14 | 2007-02-01 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法、及び基板アダプタ |
JP2008010102A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 |
JP2008135092A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 |
JP2008146737A (ja) * | 2006-12-08 | 2008-06-26 | Toshiba Corp | ディスクリートトラック媒体の製造方法および製造装置 |
JP2008155522A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | インプリント方法およびその装置 |
US8652338B2 (en) | 2007-09-26 | 2014-02-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
JP2011518400A (ja) * | 2008-02-12 | 2011-06-23 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | プラズマイオン注入を用いた磁区パターン形成 |
JP2009223998A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 |
US9023268B2 (en) | 2008-04-22 | 2015-05-05 | Fuji Electric Co., Ltd. | Imprinting method and apparatus therefor |
US9146460B2 (en) | 2008-04-22 | 2015-09-29 | Fuji Electric Co., Ltd. | Imprinting method and apparatus therefor |
US8834774B2 (en) | 2008-04-22 | 2014-09-16 | Fuji Electric Co., Ltd. | Imprinting method and apparatus therefor |
JP2009271967A (ja) * | 2008-05-01 | 2009-11-19 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体および磁気記録再生装置 |
JP2010020841A (ja) * | 2008-07-10 | 2010-01-28 | Showa Denko Kk | インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
JP2010027157A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-02-04 | Ulvac Japan Ltd | 磁気記録媒体製造装置 |
US7967993B2 (en) | 2008-07-25 | 2011-06-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
JP2010102815A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-05-06 | Canon Anelva Corp | 基板処理装置、及び磁気記録媒体の製造方法 |
US8281740B2 (en) | 2008-07-31 | 2012-10-09 | Canon Anelva Corporation | Substrate processing apparatus, and magnetic recording medium manufacturing method |
JP2010102814A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-05-06 | Canon Anelva Corp | 基板処理装置、及び磁気記録媒体の製造方法 |
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JP2010118648A (ja) * | 2008-10-16 | 2010-05-27 | Canon Anelva Corp | 基板処理装置およびそのクリーニング方法 |
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JP2010140569A (ja) * | 2008-12-12 | 2010-06-24 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
JP4756106B2 (ja) * | 2009-01-13 | 2011-08-24 | パイオニア株式会社 | 転写装置 |
WO2010082297A1 (ja) * | 2009-01-13 | 2010-07-22 | パイオニア株式会社 | 転写装置 |
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