JP2010027157A - 磁気記録媒体製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁気記録層を有する基板にイオンビームを注入した後、該イオンビーム注入後の磁気記録層を有する基板の表面をアッシングにより除去して磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体製造装置10であって、レジスト膜またはメタルマスクが塗布された磁気記録層を有する基板にイオンビームを注入するイオン注入室20と、レジスト膜またはメタルマスクが塗布された磁気記録層を有する基板のレジスト膜またはメタルマスクを、プラズマによりアッシングして除去するアッシング室30と、を有し、イオン注入室20とアッシング室30とは真空状態で連結されると共に、イオンビーム注入後の基板をイオン注入室20からアッシング室30に搬送する基板搬送機60を備える。
【選択図】図1
Description
20…イオン注入室
30…アッシング室
32…プラズマ発生装置
40…CVD室
41…平板電極(平行平板電極)
60…基板搬送機
62…基板ホルダ
64…駆動用ローラ(駆動機構)
70…磁気記録媒体(基板)
71…レジスト膜付き基板(基板)
76…レジスト膜
80…レジスト膜付き基板(基板)
86…CVD保護膜(薄膜)
Claims (3)
- 磁気記録層を有する基板にイオンビームを注入した後、該イオンビーム注入後の磁気記録層を有する基板の表面のレジスト膜またはメタルマスクをアッシングにより除去して磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体製造装置であって、
イオンを生成するイオン源から所望のイオン種を引き出し、所望のエネルギーに加速して、レジスト膜またはメタルマスクが塗布された磁気記録層を有する基板にイオンビームを注入するイオン注入室と、
プラズマを発生および拡散させるプラズマ発生装置を備え、上記レジスト膜またはメタルマスクが塗布された磁気記録層を有する基板のうち少なくとも上記レジスト膜またはメタルマスクを、上記プラズマ発生装置によって拡散されたプラズマによりアッシングして除去するアッシング室と、
を有し、
上記イオン注入室と上記アッシング室とは真空バルブを介して真空状態で連結されると共に、上記イオンビーム注入後の基板を上記イオン注入室から上記アッシング室に搬送する基板搬送機を備えていることを特徴とする磁気記録媒体製造装置。 - さらに、平行平板電極または誘導結合型アンテナに高周波電力を印加してプラズマを発生させて、前記アッシング後の磁気記録層を有する基板の表面に薄膜を形成するCVD室を有し、
前記アッシング室と上記CVD室とは真空バルブを介して真空状態で連結されると共に、前記アッシング後の磁気記録層を有する基板は前記基板搬送機により前記アッシング室から上記CVD室に搬送されることを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体製造装置。 - 前記基板搬送機は、
前記基板を保持するための基板ホルダと、
上記基板ホルダを駆動させる駆動機構と、
を有することを特徴とする請求項1または2記載の磁気記録媒体製造装置。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001110050A (ja) * | 1999-10-05 | 2001-04-20 | Japan Science & Technology Corp | 高密度磁気記録媒体パターンドメディアとその製造方法 |
JP2001135704A (ja) * | 1999-11-09 | 2001-05-18 | Sharp Corp | 基板処理装置及び基板搬送用トレイの搬送制御方法 |
JP2005056535A (ja) * | 2003-08-07 | 2005-03-03 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
JP2005206852A (ja) * | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Ulvac Japan Ltd | インライン式真空処理装置 |
JP2007220203A (ja) * | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
JP2008135092A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001110050A (ja) * | 1999-10-05 | 2001-04-20 | Japan Science & Technology Corp | 高密度磁気記録媒体パターンドメディアとその製造方法 |
JP2001135704A (ja) * | 1999-11-09 | 2001-05-18 | Sharp Corp | 基板処理装置及び基板搬送用トレイの搬送制御方法 |
JP2005056535A (ja) * | 2003-08-07 | 2005-03-03 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
JP2005206852A (ja) * | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Ulvac Japan Ltd | インライン式真空処理装置 |
JP2007220203A (ja) * | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
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