JP2010020841A - インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】キャリア25は、基板を内側に配置する孔部29が設けられたホルダ28と、ホルダ28の孔部29の周囲に弾性変形可能に取り付けられた複数の支持部材30とを備え、複数の支持部材30に基板の外周部を当接させながら、これら支持部材30の内側に嵌め込まれた基板を着脱自在に保持することが可能であり、キャリア25に保持された基板に対して反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行うチャンバ内には、基板に対応した位置に開口部32aを有するリング部材32が、キャリア25に保持された基板の少なくとも一方又は両方の面に対向して配置されており、なお且つ、リング部材32にマイナス電位が印加されると共に、ホルダ28が接地される。
【選択図】図7
Description
また、本発明は、そのようなインライン式成膜装置を用いて、磁気記録媒体の生産性を高めると共に、キャリアに保持された非磁性基板の記録磁性層に対して反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行う際の処理ムラの発生を防止することで、ディスクリートトラック媒体等の磁気記録パターンを有する磁気記録媒体の更なる品質の向上を可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
(1) 成膜処理を行う複数のチャンバと、
前記複数のチャンバ内で成膜対象となる基板を保持するキャリアと、
前記キャリアを前記複数のチャンバの間で順次搬送させる搬送機構とを備え、
前記キャリアは、前記基板を内側に配置する孔部が設けられたホルダと、前記ホルダの孔部の周囲に弾性変形可能に取り付けられた複数の支持部材とを備え、前記複数の支持部材に前記基板の外周部を当接させながら、これら支持部材の内側に嵌め込まれた基板を着脱自在に保持することが可能であり、
前記複数のチャンバのうち少なくとも1つは、前記キャリアに保持された基板に対して反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行うチャンバであり、このチャンバ内には、前記基板に対応した位置に開口部を有するリング部材が、前記キャリアに保持された基板の少なくとも一方又は両方の面に対向して配置されており、
なお且つ、前記リング部材にマイナス電位が印加されると共に、前記ホルダが接地されることを特徴とするインライン式成膜装置。
(2) 前記リング部材には、前記開口部を覆うメッシュ部材が取り付けられていることを特徴とする前項(1)に記載のインライン式成膜装置。
(3) 前記複数の支持部材の先端部には、前記基板の外周部が係合される溝部が設けられていることを特徴とする前項(1)又は(2)に記載のインライン式成膜装置。
(4) 前項(1)〜(3)の何れか一項に記載のインライン式成膜装置を用いて、前記キャリアに保持された非磁性基板を前記複数のチャンバの間で順次搬送させながら、この非磁性基板の両面に、少なくとも軟磁性層、中間層、記録磁性層、及び保護層を順次成膜する磁気記録媒体の製造方法であって、
前記記録磁性層を成膜した後に、前記反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行うチャンバにおいて、前記リング部材にマイナス電位を印加すると共に、前記ホルダを接地した状態で、前記ホルダに保持された非磁性基板の記録磁性層に対して、前記反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行うことによって、前記記録磁性層の一部の磁気特性を改質し、残存した磁性体からなる磁気記録パターンを形成する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
本実施形態では、複数の成膜室の間で成膜対象となる基板を順次搬送させながら成膜処理を行うインライン式成膜装置を用いて、ハードディスク装置に搭載される磁気記録媒体を製造する場合を例に挙げて説明する。
本発明を適用して製造される磁気記録媒体は、例えば図1に示すように、非磁性基板80の両面に、軟磁性層81、中間層82、記録磁性層83及び保護層84が順次積層された構造を有し、更に最表面に潤滑膜85が形成されてなる。また、軟磁性層81、中間層82及び記録磁性層83によって磁性層810が構成されている。
また、上記磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置としては、例えば図3に示すようなハードディスク装置を挙げることができる。このハードディスク装置は、上記磁気記録媒体である磁気ディスク96と、磁気ディスク96を回転駆動させる媒体駆動部97と、磁気ディスク96に情報を記録再生する磁気ヘッド98と、ヘッド駆動部99と、記録再生信号処理系100とを備えている。そして、磁気再生信号処理系100は、入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド98に送り、磁気ヘッド98からの再生信号を処理してデータを出力する。
上記磁気記録媒体を製造する際は、例えば図4に示すような本発明を適用したインライン式成膜装置(磁気記録媒体の製造装置)を用いて、成膜対象となる非磁性基板80の両面に、少なくとも軟磁性層81、中間層82及び記録磁性層83、保護層を順次積層し、磁性層810を形成する工程と、保護層84を形成する工程と、その上に潤滑剤膜85を形成する工程とを経ることによって、品質の高い磁気記録媒体を安定して得ることができる。
本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法は、上記インライン式成膜装置を用いて、キャリア25に保持された第1又は第2成膜用基板23、24(非磁性基板80)を複数のチャンバ2、52、4〜20、54、3Aの間で順次搬送させながら、この非磁性基板80の両面に、軟磁性層81、中間層82、記録磁性層83により構成される磁性層810と、保護層84とを順次積層し、更に最表面に潤滑膜85を形成することによって、磁気記録媒体を製造する。
次に、上記2つのチャンバ19、20において、記録磁性層83の表面を保護層84で覆う(図12(c))。
以上の工程を順次行うことで、本実施形態の磁気記録媒体を製造できる。
実施例1では、先ず、非磁性基板としてHD用ガラス基板を用意し、このガラス基板をセットした真空チャンバを予め1.0×10−5Pa以下に真空排気した。ここで使用したガラス基板の材質は、Li2Si2O5、Al2O3−K2O、Al2O3−K2O、MgO−P2O5、Sb2O3−ZnOを構成成分とする結晶化ガラスであり、このガラス基板の外径は65mm、内径は20mm、平均表面粗さ(Ra)は2オングストロームである。
先ず、キャリア25に処理基板を搭載する工程では、このキャリア25に処理基板を1.5秒/枚の速度でチャンバ52に搭載した。
比較例1では、上記除去チャンバにおいて、メッシュ部材33が取り付けられた一対のリング部材32を配置しない構成とした以外は、実施例1と同様に磁気記録媒体を作製した。そして、この比較例1の磁気記録媒体について撮影した光学顕微鏡写真を図14に示す。
2…基板供給ロボット室
3…基板カセット移載ロボット
3A…アッシング室
4、7、14、17…コーナー室
5、6、8〜13、15、16、18〜20…チャンバ
22…基板取り外しロボット室
23…第1成膜用基板
24…第2成膜用基板
25…キャリア
26…支持台
27…ホルダ
28…板体
29…円形状の孔部
30…支持部材
30a…溝部
31…スリット
32…リング部材
33…メッシュ部材
34…基板供給ロボット
49…基板取り外しロボット
52…基板取り付け室
54…基板取り外し室
72…処理装置
80…非磁性基板
81…軟磁性層
82…中間層
83…記録磁性層
84…保護層
85…潤滑膜
810…磁性層
201…リニアモータ駆動機構(搬送機構)
202…磁石
203…隔壁
204…回転磁石
301…バイアス電源
302…接地導線
Claims (4)
- 成膜処理を行う複数のチャンバと、
前記複数のチャンバ内で成膜対象となる基板を保持するキャリアと、
前記キャリアを前記複数のチャンバの間で順次搬送させる搬送機構とを備え、
前記キャリアは、前記基板を内側に配置する孔部が設けられたホルダと、前記ホルダの孔部の周囲に弾性変形可能に取り付けられた複数の支持部材とを備え、前記複数の支持部材に前記基板の外周部を当接させながら、これら支持部材の内側に嵌め込まれた基板を着脱自在に保持することが可能であり、
前記複数のチャンバのうち少なくとも1つは、前記キャリアに保持された基板に対して反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行うチャンバであり、このチャンバ内には、前記基板に対応した位置に開口部を有するリング部材が、前記キャリアに保持された基板の少なくとも一方又は両方の面に対向して配置されており、
なお且つ、前記リング部材にマイナス電位が印加されると共に、前記ホルダが接地されることを特徴とするインライン式成膜装置。 - 前記リング部材には、前記開口部を覆うメッシュ部材が取り付けられていることを特徴とする請求項1に記載のインライン式成膜装置。
- 前記複数の支持部材の先端部には、前記基板の外周部が係合される溝部が設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載のインライン式成膜装置。
- 請求項1〜3の何れか一項に記載のインライン式成膜装置を用いて、前記キャリアに保持された非磁性基板を前記複数のチャンバの間で順次搬送させながら、この非磁性基板の両面に、少なくとも軟磁性層、中間層、記録磁性層、及び保護層を順次成膜する磁気記録媒体の製造方法であって、
前記記録磁性層を成膜した後に、前記反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行うチャンバにおいて、前記リング部材にマイナス電位を印加すると共に、前記ホルダを接地した状態で、前記ホルダに保持された非磁性基板の記録磁性層に対して、前記反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行うことによって、前記記録磁性層の一部の磁気特性を改質し、残存した磁性体からなる磁気記録パターンを形成する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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