JP2005005339A

JP2005005339A - 基板の現像装置

Info

Publication number: JP2005005339A
Application number: JP2003164537A
Authority: JP
Inventors: Futoshi Shimai; 太島井; Shigeru Kawada; 茂河田
Original assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Current assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date: 2003-06-10
Filing date: 2003-06-10
Publication date: 2005-01-06
Anticipated expiration: 2023-06-10
Also published as: CN100487587C; CN1584744A; TWI346258B; KR20040111004A; JP3897114B2; TW200516292A; KR101043504B1

Abstract

【課題】簡易な機構で基板を傾動せしめて短時間効率よく現像液を回収する現像装置を提供する。
【解決手段】上昇前はリフト部１３の上端部はコロ６よりも低い位置にあって基板Ｗと干渉しないが、アーム８が上昇するにつれてコロ６，６の間からリフト部１３が上方へ進出し、基板Ｗは裏面を持ち上げられ傾動する。この傾動により基板Ｗの表面に盛られた現像液は片端から流下し、現像液回収部材１５内に回収され、更に基板はコロ搬送されて、リンス液の供給・回収部４まで移動せしめる。リンス液については、供給当初のリンス液は汚れているためそのまま排出し、所定時間経過した後に、リンス液を回収する。この後、ガラス基板は乾燥部５に向かってコロ搬送される。
【選択図】図３

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス基板の基板表面に盛られた現像液を効率よく基板表面から除去する機能を備えた現像処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶基板などとして用いるガラス基板に所定パターンのレジスト膜を形成するため、現像液の供給、現像反応、現像液の除去・回収、リンス及び乾燥の一連の工程を基板を水平方向に搬送しつつ行う方式が従来から採用されている。
近年基板の大型化に伴い、現像ムラを生じさせないように基板上からなるべく短時間で現像液を除去する方式が種々提案されている。特に、この方式のうち、現像液の除去・回収に改良を加えた先行技術として（特許文献１）及び（特許文献２）が提案されている。
【０００３】
（特許文献１）に開示される基板傾斜機構は、シリンダによって昇降動する軸の上端にベース板の下面中央部を回動自在に連結し、ベース板には搬送ローラの間から上方に突出するリフトピンを取り付けている。そして、基板を傾斜せしめて上面に盛り付けられた現像液を除去するには、シリンダによって軸を上昇せしめた後、モータによってベース板を前下がりに傾斜せしめるようにしている。
【０００４】
（特許文献２）に開示される基板傾斜機構は、搬送されるガラス基板両側の外側位置にフレーム部材を配置し、このフレーム部材間に軸部材を架設し、この軸部材に取り付けたコロにて基板の裏面を支持している。そして、基板を傾斜せしめて上面に盛り付けられた現像液を除去するには、フレーム部材を前端部を揺動支点として後端を持ち上げる際に、前記コロにて基板も同時に傾動せしめるようにしている。
【０００５】
【特許文献】
特許文献１：特開２００３−７５８２号公報段落００７０〜００７２
特許文献２：特開２００３−１７４０１号公報段落００４７図７〜９
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上記した（特許文献１）にあっては、基板が傾動する際に基板の前端部が下に下がるため、搬送ローラとの接触を避けるべく、昇降機構によって一旦ベース板を持ち上げてから傾動せしめる必要があり、また基板を搬送ラインに戻す際にも、水平状態になった基板を昇降機構によって基板をコロの上まで降ろす必要があり、複雑な機構になってしまう。
またベース板の重量が大きくなり、特に基板のサイズが大きくなるとそれにつれてベース板も大きくなるため、揺動させる際に軸に負担がかかる。
【０００７】
また（特許文献２）にあっては、基板は左右のフレーム部材間に搬入された状態でコロによって下から持ち上げられるため、傾動させる際には基板をフレーム部材内に収まるように正確に位置決めして搬送する必要がある。つまり位置決めがラフになると搬送される基板がフレーム部材に衝突するおそれがあり、これを避けるべくフレーム部材間の間隔を大きくすると、装置全体が大きくなってしまう。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべく本発明に係る基板の現像装置は、基板の搬送方向と直交する方向に軸を合わせた多数のコロからなる搬送ラインと、この搬送ラインの上流側に設けられる現像液供給部と、この現像液供給部よりも下流側の搬送ライン上に設けられる現像液回収部とを備えた現像装置であって、前記現像液回収部のコロよりも下方位置に搬送方向と平行に２本以上のアームが配置され、このアームは前後の一端が回動可能に支持され且つ回動可能に支持された一端以外の部分が昇降部材に連結され、また前記アームにはアームの上昇に連れてコロの間から突出して基板を保持しながら傾動せしめる複数のリフト部が設けられ、これら複数のリフト部は回動支点から離れるにしたがって長さが長くなるとともに上端部はほぼ一直線状に揃った構成とされている。
【０００９】
上記構成とすることで、搬送中の基板状面に盛られた現像液は、アームを昇降動するだけで短時間のうちに回収される。特に、基板を傾動せしめる機構が本発明の場合、シリンダユニットなどによって昇降動せしめられるアームと、このアームに一体的または別体として設けられたリフト部材のみであるので、機構が簡略化される。
【００１０】
複数のアームを幅方向に連結しておけば、駆動部材（シリンダユニット）の数を減らすことができるし、アーム同士も同期して動くので、基板裏面を支持しているリフト部材も位置ずれなく支持することができる。
。またアームとリフト部を１枚の板材を加工することで得るようにすれば、コスト的に有利になる。更に、リフト部の側面形状を、アームの回動軌跡に沿った湾曲形状とすることで、仮にコロとコロの間隔が狭くなっていても、コロとの干渉を避けることができる。
【００１１】
また、基板を傾動させると基板が滑って落下するおそれがある。そこで、ストッパによって基板の落下を防止することが好ましい。具体的には、ストッパはアームの回動支点の直上位置でコロと同一高さ位置に設ける。このようにすれば、基板の搬送に支障を来たすことなく、確実に基板の落下を防止できる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。図１は本発明に係る現像装置の全体平面図、図２は現像液回収部の拡大平面図、図３は図２のＡ方向矢視図、図４は図２のＢ方向矢視図、図５は図３と同様であるが、基板が傾斜した状態で支持されている図であり、現像装置は基板の搬送ライン１に沿って、上流側から順に、現像液供給部２、現像液回収部３、リンス液供給・回収部４及び乾燥部５が配置されている。
【００１３】
前記搬送ライン１は多数のコロ（円筒状ローラ）６からなり、これらコロ６は基板の搬送方向に沿って設けられたフレーム７に等間隔で且つ基板の搬送方向と直交する方向に配置され、その長さは搬送される基板Ｗの幅よりも若干長く設定され、更に図示しないモータによって同期回転せしめられる。
【００１４】
また、前記現像液回収部３には基板を傾斜せしめる機構を設けている。この機構は、コロ６よりも下方位置に搬送方向と平行に２本以上のアーム８を配置し、これらアーム８を横方向にロッド９で連結し、またアーム８は基板搬送方向を基準として前端部がフレーム７，７間に架設した横方向の軸１０に回動自在に支持されている。
【００１５】
搬送ライン１の下方には基板Ｗから落下する現像液を受けるパン１１が設けられ、現像液回収部３ではこのパン１１を下方から貫通してシリンダユニット１６のロッド１２が上方に伸び、このロッド１２先端を前記アーム８の中間部に連結している。
【００１６】
また、前記アーム８には上方に向かって複数のリフト部１３が一体的に形成されている。これらリフト部１３はアーム８の回動支点である軸１０から離れるにしたがって長さを長くするとともに上昇前は上端部をほぼ一直線状に揃えている。更にリフト部１３の側面１３ａはアーム８の回動軌跡に沿った湾曲形状になっている。
【００１７】
また、アーム８の回動支点の直上位置でコロ６よりも高くならない位置，即ち基板Ｗが搬送される際に接触しない高さ位置に、傾動した基板Ｗの先端を受けて基板の落下を防止するストッパ１４が設けられている。また、アーム８の回動支点の直下位置のパン１１上には樋状の現像液回収部材１５が配置されている。
【００１８】
以上において、コロ搬送されてきたガラス基板は現像液供給部２においてスリットノズルなどによって現像液が表面に盛り付けられる。そして、所定時間静置して現像処理したならば、隣接する現像液回収部３までコロ搬送され、前端部が所定位置まで来たことをセンサにて検知したら、一旦搬送を停止するとともに、シリンダユニット１６を駆動しロッド１２を上昇させ、アーム８を軸１０を中心に上方へ上昇せしめる。
【００１９】
上昇前は図３に示すようにリフト部１３の上端部はコロ６よりも低い位置にあって基板Ｗと干渉しないが、アーム８が上昇するにつれてコロ６，６の間からリフト部１３が上方へ進出し、基板Ｗは裏面を持ち上げられ図５に示すように傾動する。この傾動により基板Ｗの表面に盛られた現像液は片端から流下し、現像液回収部材１５内に回収される。その後ロッド１２は下降し、リフト部１３が基板Ｗ裏面から離れたことを確認した後に基板はコロ搬送されて、リンス液の供給・回収部４まで移動せしめる。リンス液については、現像液回収部と同じ機構の装置を用いてもよい。リンス処理で使用する時は、図５のように基板Ｗを傾斜させた状態から行う。リンス液の供給位置は基板Ｗの一番高くなった位置である。供給当初のリンス液は汚れているためそのまま排出し、所定時間経過した後に、リンス液を回収する。この後、ガラス基板は乾燥部５に向かってコロ搬送される。
【００２０】
尚、実施例にあっては、アームを搬送方向を基準として前端を中心に昇降せしめるようにしたが、後端を中心に昇降可能としてもよい。
【００２１】
【発明の効果】
以上に説明したように本発明によれば、搬送途中の基板上に盛り付けられた現像液を短時間のうちに効率よく回収することができる。特に、基板を傾動せしめる部材がアームとリフト部のみで、しかもアームとリフト部を一体化することも可能であるため、構造が簡素化され、基板が大型化してもロッドに対する負荷は大きくならない。
また点接触に近いが、リフト部によって基板裏面を全面に亘って支持するため、基板の撓みの問題が解消される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る現像装置の全体平面図
【図２】現像液回収部の拡大平面図
【図３】図２のＡ方向矢視図
【図４】図２のＢ方向矢視図
【図５】作用を説明した図３と同様の図
【符号の説明】
１…搬送ライン、２…現像液供給部、３…現像液回収部、４…リンス液供給・回収部、５…乾燥部、６…コロ、７…フレーム、８…アーム、９…連結ロッド、１０…軸、１１…パン、１２…ロッド、１３…リフト部、１３ａ…リフト部の側面、１４…ストッパ、１５…現像液回収部材、１６…シリンダユニット。

Claims

基板の搬送方向と直交する方向に軸を合わせた多数のコロからなる搬送ラインと、この搬送ラインの上流側に設けられる現像液供給部と、この現像液供給部よりも下流側の搬送ライン上に設けられる現像液回収部とを備えた現像装置であって、前記現像液回収部のコロよりも下方位置に搬送方向と平行に２本以上のアームが配置され、このアームは前後の一端が回動可能に支持され且つ回動可能に支持された一端以外の部分が昇降部材に連結され、また前記アームにはアームの上昇に連れてコロの間から突出して基板を傾動せしめる複数のリフト部が設けられ、これら複数のリフト部は回動支点から離れるにしたがって長さが長くなるとともに上端部はほぼ一直線状に揃っていることを特徴とする基板の現像装置。
請求項１に記載の基板の現像装置において、前記リフト部の側面はアームの回動軌跡に沿った湾曲形状になっていることを特徴とする基板の現像装置。
請求項１に記載の基板の現像装置において、前記２本以上のアームは連結されていることを特徴とする基板の現像装置。
請求項１乃至請求項３に記載の基板の現像装置において、この現像装置は、アームの回動支点の直上位置でコロよりも高くならない位置に、基板の落下を防止するストッパを備えることを特徴とする基板の現像装置。