JPH01250958A

JPH01250958A - 現像装置

Info

Publication number: JPH01250958A
Application number: JP7632488A
Authority: JP
Inventors: Hitoshi Sato; 均佐藤; Choichi Kimura; 木村　長市
Original assignee: Shibaura Engineering Works Co Ltd
Current assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Priority date: 1988-03-31
Filing date: 1988-03-31
Publication date: 1989-10-05
Anticipated expiration: 2011-06-12
Also published as: JP2506919B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、感光部を有する基板を現像する現像装置の改
良に係る。

［従来の技術］従来より感光部を有する大型の基板を現像処理する場合
には、次のような現像装置が利用されている。

一般に、現像装置は現像液を基板上に供給する供給系統
と、基板を装置内に搬送される搬送手段とを備え、基板
を装置内に通過させながら現像液を吹付けて基板を現像
処理している。

このような現像装置の従来例を図面を参照して具体的に
説明する。

即ら、第３図に示すように、現像装置１は基板２に現像
液４を塗布する現像処理槽６、基板２に現像液４を定着
させるバッファ槽７及び基板２を洗浄する水洗槽８を有
しており、多槽を搬送ローラ３が回動自在に配設された
支持板７が貫通している。

現像処理槽６には、現像液４を基板２に噴射するノズル
５が備えられており、このノズル５はパイプ１３ａに等
間隔に形成されており１．このパイプ１３ａはバルブ１
４及びポンプ１５を介して、現像液４の満たされたタン
ク１６に接続されている。

又、タンク１６には現像液４を回収するバイブ１３ｂが
係合されている。このバイブ１３ｂは、現像処理槽６の
床部６ａの中央部から垂直に延びており、床部６ａは基
板２に付着する以外の現像液４が回収され易いように中
央部に向かって傾いて形成されている。

一方、第４図に示すように、搬送ローラ３は両端部にフ
ランジ３ａを備え、このフランジ３ａは支持板９の軸受
９ａに係合し、搬送ローラ３が回動自在となるようにな
っている。支持板９は、現像装置１を貫通ずる二枚の平
行な塩ビ板から形成され、その上縁部には等間隔に切欠
き９ｂが形成され、この切欠き９ｂに軸受９ａか設置さ
れている。なお、搬送ローラ３は軸受９ａに応じて支持
板９に直交しつつ等間隔に設置されるものであるか、こ
の時搬送ローラ３は搬送する基板２か間隙に落下しない
よう充分に近接して設（プられていることは言うまでも
ない。更に、搬送ローラ３のフランジ３ａの一方には、
搬送し１−ラ３と同方向に回転するベベルキャ１０が付
設され、このへベルギヤ１０に噛み合うベベルキャ１１
か係合している。ベベルギヤ１１は搬送ローラ３に対応
するよう回動自在な駆動１１１１１２に備えられ、この
駆動軸１２は支持板９に平行に近接して設けられ、駆動
装置（図示せ覆）によって回動するようになっている。

このような構成を有する現像装置１においては、搬送ロ
ーラ３及び支持板９などが搬送系統、ノズル５、バイブ
１３、バルブ１／１１ポンプ１５及びタンク１６などか
現像液の回収を含む循環的な供給系統となり、搬送系統
によって基板２を装置内に搬送させつつ、現像処理槽６
内では供給系統によって現像液４を基板２を装置内に搬
送さけつつ、現像処理槽６内では供給系統によって現像
液４を基板２上に塗布し、バッファ槽７で現像を定着さ
せ、水洗槽８て余分な現像液４を洗い流して、自動的に
現像処理を行うものである。

［発明か解決しようとづる課題］しかしながら、上記のにうな従来技術において、次のよ
うな課題があった。

即ら、現像処理槽６において現像液４を散イ「された基
板２は、現像処理槽６からバッファ槽７に移動する時、
多量の現像液４をイ」着したまま搬送される。この現像
液４の持出しは、現像処理を大量に行っていれば、それ
に比例して増え、現像液４の消費量か増加していた。し
かも、このＪ：うな現像液４の付着は、必要現像液量を
超えて現像過多を起こし易く、その結果、現像むらの原
因となっていた。

一方、水洗槽８において基板２を洗浄する際にも、基板
２に適量以上の現像液４かイ」着していれば、ぞの分院
浄液も条苗に使用されていた。しがも、洗浄液として基
板２の現像パターンを壊さないよう高価な純水か使用さ
れることか多いため、ロス１〜高を招いていた。

本発明は、上記のような現像液及び洗浄液の浪費を招く
現像処理槽からの現像液の持出しを防雨して、経済的に
有利であり、同時に安定した現像処理を行う信頼性の高
い現像装置を提供することを目的とするものである。

［課題を解決するだめの手段１以上のような従来技術の課題を解決するために、本発明
の現像装置は、ａ、現像液が散布された基板を一定間隔て同一方向に搬
送させる搬送手段。

ｂ、搬送中の基板の一縁部を固定する固定片。

Ｃ０固定片によって固定された一縁部を軸として基板を
傾斜させる、上下動自在な駆動部材を備えた基板傾斜手
段。

以上、ａ〜Ｇを備えたことを特徴とする。

［作用］以上のような構成を有する本発明の作用は次の通りであ
る。

即ら、現像液が散布された基板か、搬送手段によって基
板傾斜手段の上方に搬送される。そして、基板の一縁部
が固定片に固定されて、ここが軸となり、基板傾斜手段
の駆動部材が基板を押上げ、基板を傾ける。さらに、基
板上に付着した過剰現像液が流れ落らると、駆動部材が
下方に移動し、＝　６− 基板を水平状態に戻す。

このように、余分な現像液を流し落として、高価な現像
液を回収し、同時に、現像むらも防止できる。しかも、
何着している現像液が少ないため、基板を洗浄する際に
も洗浄水の節水が可能である。

［実施例］以上説明したような本発明の一実施例を図面に基づいて
具体的に説明する。

なあ、従来例と同様の部材については、同符号をイリし
、説明を省略する。

本実施例の構成＊第１図及び第２図に示すように、現像装置１７における
バッファ槽７には４本の搬送ローラ３が配設されている
が、この搬送ローラ３の３つの間隙に搬送ローラ３に平
行しでシＶフ１〜１８が設けられており、このシャツ１
〜１８の両端部には、基板２を保持する保持部材１９が
設けられている。

この保持部材１９は直方体をしており、下方でシャフト
１８と摺動自在に係合しており、間隙の調整が可能とな
っている。一方、保持部ｔｒｊＪ１９の上端面には、搬
送ローラ３と平行方向にローラ１９ａが設置され、内側
の側面にはローラ１９ａに直交するようローラ１９ｂが
設けられ、各々回動自在となっている。又、ローラ１９
ａとローラ１９ｂは、ローラ１９ａの方が高く段差が設
定されているが、この段差は基板２の厚みよりも厚くな
るように設（）られでいる。

一方、シャツ１〜１８の両端部には保持部材１９の更に
外側に側板２０が係合しており、この側板２０は長方形
をしており、下方に垂直に延びて１枚の底板２１に固定
されている。更に、この底板２１の下面には２つのブラ
ケット２２が搬送ローラ３に平行して設置されている。

このブラケット２２は底板２１の下面の一方に寄って（
第１図では右側〉設けられ、長さは底板２１の半分程度
に設定されている。更に、２つのブラケット２２の両端
部に挟まれて長短２つのリンク２３ａ、２３ｂが揺動自
在に設置されている。長リンク２３ａはブラケット２２
の内側、短リンク２３ｂは外側に係合してｄ３す、両リ
ンク２３ａ、２３ｂとも内側方向に傾くようにして、係
止片２４ａ、２４ｂに回動自在に装着されている。この
係止片２４ａ。

２４ｂは、バッファ槽７の床に設けられているものであ
る。又、バッファ槽７の床にはブラケツを上から位置規
制する固定片２５も設置されている。

この固定片２５には、伸縮自在のロッド２６が貫通して
おり、このロッド２６は支持板９の下部に取（−１けら
れた軸受２７を介してシリンダ２８に連結している。こ
のロッド２６の先端部には、揺動自在に中間リンク２３
Ｃが設置され、リンク２３Ｃの端部は長リンク２３ａに
回動自在に連結している。

又、バッファ槽７の両側壁部７ａには、センサ２９が設
けられており、このセンサ２９は両センサ間に基板２が
位置すると、シリンダ２８を作動させるようシリンダ２
８と電気的に接続されている。更に、バッファ槽７の床
の下方には、第３図に示すように落下した現像液４を回
収するパイプ１３Ｇか設置され、タンク１６に接続して
いる。

本実施例の作用＊以上のような構成を有する本実施例の作用は、次のとお
りである。

即ち、搬送ローラ３によってバッファ槽７に送り込まれ
た基板２がセンークー間に位置すると、センサ２９が感
応し、シリンダ２８が作動する。シリンダ２８の作動に
よりロッド２６がリンク２３方向に伸び、中間リンク２
３ｃを押圧する。押圧された中間リンク２３ｃは、長リ
ンク２３ａとの連結部分を上昇させるように移動し、長
リンク２３ａ及び短リンク２３ｂは、係止片２４ａ及び
２４ｂを支点にロッド２６の伸びた方向に回動する。

すると、第２図に示すように、短リンク２３ｂが係合す
るブラケッ１〜２２の外側端部はわずかに上昇し、長リ
ンク２３ａが係合するブラケット２２の内側端部は大ぎ
く上昇する。それに伴い、底板２１及σ側板２０を介し
てシャフト１８がブラケット２２が偏っている側に傾斜
し、保持部材１９によって保持された基板２が傾く。従
って、基板２上に付着している現像液４は流れ落ち、パ
イプ１３ａを通ってタンク１６に回収される。そして、
一定の時間が経過すると、シリンダ２８がオフになり、
ロッド２６が縮み、リンク２３が折たたまれるように元
の位置に納まる。本実施例にお（プる基板２の傾斜装置
としては、３つのリンク片を連結したものであるが、こ
のにうな構成をとればリンク２３が係合するプラク°ッ
ト２２がぶれることか少なく、安定感をもって基板２が
傾くので、基板２が滑り落ちることがなく、しかも、傾
斜した際低くなる縁部もわずかに上昇するため、搬送ロ
ーラ３の端部に現像液４がふりかかることが防止され、
現像液４か搬送【］−ラ３にイく１着して摩擦係数を低
下させることから起きる搬送ローラ３の空転を防ぐこと
もてきる。

更に、余分な現像液４が基板２上から落されるため、現
像むらを防止でき、高価な現像液を効果的に回収でき、
水洗槽８て洗浄する際にもＲ車な純水を節約できるため
、経済的にも優れており、同時に水洗槽８の省スペース
が実現でき、洗浄時間の短縮化も図ることが可能である
。

＊他の実施例＊本発明の現像装置は、以上のような実施例に限定される
ものではなく、次のような他の実施例も包含するもので
ある。

■第４図に示すように、底面の一縁部に上下動自在なシ
リンダ３０を設けるという簡単な構成で基板を傾斜させ
、余分な現像液４を除去する。

■搬送ローラ３の一端部を山なりの軌跡を描くように配
設し、搬送ローラ３の他端部に基板２の保持部材を設け
て、基板２を搬送させつつ傾斜させる。このような構成
によれば、現像処理の時間かより短縮できる。

■更に、基板２を傾斜させるには、一方を低くしてもよ
く、例えばバッファ槽７の搬送３に基板２を保持したま
ま、搬送ローラ３の一端を降下させる構成でも同様の結
果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本実施例の要部側面図、第２図は本実施例の要
部正面図、第３図は本実施例の側面図、第４図は従来例
の側面図、第５図は従来例の正面図である。＝　１２− １・・・現像装置、２・・・基板、３・・・搬送ローラ
、４・・・現像液、５・・・ノズル、６・・・現像処理
槽、７・・・バッファ槽、８・・・水洗槽、９・・・支
持板、１０・・・ベベルギヤ、１１・・・ベベルギヤ、
１２・・・駆動軸、１３・・・パイプ、１４・・・バル
ブ、１５・・・ポンプ、１６・・・タンク、１７・・・
現像装置、１８・・・シャフト、１９・・・保持部材、
２０・・・側板、２１・・・底板、２２・・・ブラケッ
１〜．２３・・・リンク、２４・・・係止片、２５・・
・固定片、２６・・・ロッド、２７・・・軸受、２８・
・・シリンダ、２９・・・センサ。第１図ノ３ｂ　　ｚｊｃｌ　　　　１４０

Claims

【特許請求の範囲】表面に感光部を形成する基板を搬送させ、この基板に対
して現像液の散布、定着及び水洗処理を行う現像装置に
おいて、ａ、現像液が散布された基板を一定間隔で同一方向に搬
送させる搬送手段。ｂ、搬送中の基板の一縁部を固定する固定片。ｃ、固定片によって固定された一縁部を軸として基板を
傾斜させる、上下動自在な駆動部材を備えた基板傾斜手
段。以上、ａ〜ｃを備えたことを特徴とする現像装置。