JP2004342670A - 積層電子部品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】積層セラミックコンデンサ10を製造するには、セラミック層22と内部電極層24とを交互に積層一体化してなるシート積層体100を形成し、シート積層体100にレーザーを用いて貫通孔26を形成し、さらに充填容器110を用いて貫通孔26に導電材料を充填してビア電極28を形成する。導電材料は貫通孔26の開口から貫通孔26内に加圧充填される。
【選択図】 図8
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、内部電極層をセラミック層を介して複数積層させた積層電子部品の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の積層電子部品は、積層セラミックコンデンサや積層セラミックインダクタとして広く普及している。これらの電子部品では、その製造過程でセラミックグリーンシートにコンデンサ電極あるいはインダクタ電極を、例えば印刷手法にて形成し、こうしたセラミックグリーンシートを積層させている。
【0003】
積層セラミックコンデンサの中で、セラミックグリーンシートを介在して位置する電極間を導通させた例が提案されているが、その導通は、積層方向に貫通する貫通孔を形成し、その貫通孔に導電材料(導電ペースト)を加圧充填させることにより、なされている(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。
【0004】
【特許文献1】
特開平7−193375号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の積層電子部品では、次のような問題点がある。上記した貫通孔の形成には、メカパンチやドリルを用いた孔形成手法の他、レーザー照射による熱溶融を利用した孔形成手法があるが、多数の貫通孔を必要とする製品においては生産効率の観点から後者の手法が多用されている。シートと内部電極層では、通常、内部電極層の方が低融点であることから、こうしたレーザー照射による貫通孔形成手法では、レーザー照射に伴う熱により内部電極層が先に熱溶融する。よって、内部電極層の貫通孔側端面が貫通孔内周壁から後退する現象、いわゆる電極の引き下がり現象が起き得る。こうした電極の引き下がり現象が起きたまま貫通孔に導電ペーストを充填(加圧充填)すると、貫通孔内は導電ペーストで充填されるものの、セラミック層間の内部電極層厚みは僅か数μmと薄いので、引き下がりを起こした内部電極層端面まで導電ペーストが達しないおそれがあった。こういった事態が起きると、貫通孔内の導電ペーストは内部電極層と接触しないので、導電ペーストと内部電極層の導通を採れなくなる。よって、電子部品としての設計性能を発揮できないおそれがある。
【0006】
本発明は、上記問題点を解決するためになされ、セラミック層間の内部電極層と貫通孔内の充填材との接触の信頼性を高める積層電子部品の製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】
上記課題を解決するためになされた本発明は、
内部電極層がセラミック層を介して複数積層され、該積層された方向に上記内部電極層および上記セラミック層を貫通するとともに所定の上記内部電極層間を接続するビア電極を備えた積層電子部品の製造方法であって、
上記セラミックグリーンシートと上記内部電極層とを交互に積層一体化してなるシート積層体を形成する積層工程と、
上記セラミックグリーンシートおよび所定の上記内部電極層間を貫通するように上記シート積層体にレーザーを用いて貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、
上記貫通孔に充填材を充填して上記ビア電極を形成する充填工程と、
を備え、
上記充填工程は、上記充填材を、上記貫通孔の開口から上記貫通孔内に加圧充填するとともに、上記貫通孔から上記内部電極層の上記貫通孔側の端部に達するように加圧充填する工程であること、
を特徴とする。
【0008】
本発明の積層セラミック電子部品の製造方法では、内部電極層を備えたセラミックグリーンシートを複数枚積層してなるシート積層体にレーザーを照射することにより複数のセラミックグリーンシートおよび内部電極層を積層方向に貫通する貫通孔が形成される。このとき、内部電極層は、セラミックグリーンシートに比して低融点であるので、レーザービーム照射に伴う熱により、その端面から先に溶融し、端面は貫通孔の形成箇所から後退した消失部が形成されることがある。充填材は、加圧して貫通孔に充填されることで、貫通孔から上記消失部を通り内部電極層の端面に達する。したがって、貫通孔内で固化して形成されたビア電極と内部電極層との確実な導通を図ることができる。
【0009】
上記充填工程の好適な態様として、上記充填材を上記シート積層体の下方から上方に向けて加圧により押し上げ可能な充填容器に該充填材を充填する工程と、
上記充填材を充填した上記充填容器の上に上記シート積層体の一方の外面を配置するとともに、上記シート積層体の他方の外面に押圧板を配置することで、上記シート積層体を上記充填容器と上記押圧板との間にセットする工程と、上記シート積層体を上記充填容器にセットした状態で、上記充填容器と上記押圧板との間に圧力を加えて上記充填材を上記貫通孔に加圧充填する工程と、を備えて構成することができる。本発明の態様により、押圧板が充填容器の側からの充填材の加圧注入圧に抗してシート積層体を支持し、充填容器からの充填材がシート積層体の貫通孔に充填材を充填させることができる。
【0010】
上記充填工程は、上記押圧板と上記充填容器との間に加える圧力が2〜7.5MPaである工程をとることができる。この場合、充填容器からの加圧注入圧力が上記下限値2MPa以上であれば、貫通孔への充填材の加圧注入を確実に図ることができる。また、加圧注入圧力が上限値7.5MPa以下であれば、充填材の粘性が高い場合であっても充填材を貫通孔に確実に充填できる。
【0011】
上記充填材の好適な態様は、平均粒径が2μm以下の金属粉末を含有して有機溶剤で調製した導電ペーストを用いることができる。金属粉末としては、Ag、APt、Ag−Pd、Au、NiおよびCuおよびこれらの混合物などを用いることができる。ここで、金属粉末の平均粒径が2μm以下としたのは、2μmを越えると、金属粉末が内部電極層の端面の消失部に入り込みにくくなり、ビア電極が内部電極層の端面への接続性が低下するからである。
【0012】
上記導電ペーストの好適な態様は、その粘度が100〜2万Pa・sとなるように調製することが好ましい。粘度は、金属粒子の含有量、有機溶剤の添加量などを調製することにより行なうことができる。この範囲に設定したのは、粘度が100Pa・s未満の低粘度であると、充填容器からの圧力が取り除かれたときに、一端充填された導電ペーストが貫通孔の中に留まることができず、充填容器側へ戻ってしまうおそれがあり、2万Pa・sを越えると、上記消失部に導電ペーストが十分に充填されないからである。
【0013】
また、導電ペーストに用いる有機溶剤としては、ブチルカルビトール、テルピネオールなどを用いることができる。また、導電形成用ペーストは、必要に応じて、無機化合物粉末を含有してもよい。無機化合物粉末は、セラミックグリーンシートと内部電極層との焼結収縮挙動の違いに起因する応力によるクラックの発生などの不具合を抑制する働きをする。
【0014】
さらに、本発明の好適な態様として、ビア電極の長さ/ビア電極の直径で表わされる比をアスペクト比で定義すると、上記ビア電極のアスペクト比は、4〜2であることがさらに好ましい。
【0015】
また、ビア導体の直径は、50μm〜120μmの範囲に設定されることが好ましいが、60μm〜110μmの範囲に設定されるほうがより好ましく、70μm〜100μmの範囲に設定されるほうがさらに好ましい。また、ビア導体の間隔は、100μm〜1000μmの範囲で設定されることが好ましいが、100μm〜600μmの範囲で設定されるほうが好ましく、150μm〜450μmの範囲で設定されるほうがさらに好ましい。ここで、ビア電極同士の間隔とは、ビア導体の中心同士の間隔、すなわち、ビア導体のピッチを意味する。
【0016】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態を実施例に基づいて説明する。
(1)−1 積層セラミックコンデンサ10の全体構成
図1は本発明の一実施例である積層セラミックコンデンサ10の縦断面を示す説明図である。積層セラミックコンデンサ10は、後述するようにセラミックグリーンシートの積層を経て製造されるが、焼成を経ると各シートは焼結一体化する。図1はこの焼結後の様子を示している。積層セラミックコンデンサ10は、導電材料からなる内部電極層24をセラミック層22を介して複数積層させている。内部電極層24は、交互に配置された第1の内部電極層24aと第2の内部電極層24bとを備えている。内部電極層24の間のセラミック層22は、該内部電極層24間の誘導体(絶縁層)として機能する。セラミック層22は、例えば、チタン酸バリウム(BaTiO3)等の高誘電率セラミックにより形成される。
【0017】
第1および第2の内部電極層24a,24bは、一層おきに、外部から電圧を供給するビア電極28に導通されている。ビア電極28は、積層方向に沿って延びる複数の第1のビア電極28aおよび複数の第2のビア電極28bから構成されている。図2はビア電極28と内部電極層24との接続について示す説明図であり、図2(A)は積層セラミックコンデンサ10の第1の内部電極層24aを含む断面を示し、図2(B)は第2の内部電極層24bを含む断面を示している。
【0018】
図2(A)に示すように、第1の内部電極層24aは、第1のビア電極28aが貫通することにより第1のビア電極28aに接続されるとともに、第2のビア電極28bの貫通する部分の周囲の窓部25aにより、第2のビア電極28bに対して電気的に絶縁されている。また、図2(B)に示すように、第2の内部電極層24bは、第2のビア電極28bが貫通することにより第2のビア電極28bに接続されるとともに、第1のビア電極28aの貫通する周囲の窓部25bにより、第1のビア電極28aに対して電気的に絶縁されている。また、図1に示すセラミック層22と第1および第2の内部電極層24a,24bとが積層される方向(積層方向)に垂直な最外面のうち少なくとも一方の最外面上には、複数の第1および第2の実装端子30a,30bが設けられている。
【0019】
したがって、第1および第2の実装端子30a,30bから、ビア電極28を通じて各内部電極層24に電圧を加えると、誘電体であるセラミック層22を介在して対向する内部電極層24では、一方に正の電荷の蓄積が、他方に負の電荷の蓄積が起こる。こうした現象が対向する各電極層で起き、積層セラミックコンデンサ10はコンデンサとして機能する。この積層セラミックコンデンサ10ではより大きな静電容量を得るために、複数の第1の内部電極層24aおよび複数の第1の内部電極層24aを、セラミック層22を挟むように積層方向に交互に配置し、複数のコンデンサユニットを形成する構成としているから、それぞれのコンデンサユニットの静電容量の総和が、複数対の第1および第2の実装端子30a,30bとの間の静電容量として外部に取り出される。
【0020】
また、この積層セラミックコンデンサ10では、従来例の積層セラミックコンデンサと同様に、複数の第1のビア電極28aおよび第2のビア電極28bが、それぞれ交互に隣接するように第1の内部電極層24aおよび第1の内部電極層24aの全面にわたって格子状に配置され、そして、第1および第2のビア電極28a,28bを流れる電流の向きを逆方向にしているので、インダクタンス成分の低減化が図られている。
【0021】
(2) 積層セラミックコンデンサ10の製造工程
図3は積層セラミックコンデンサ10の製造工程を示す工程図、図4は図3の工程の様子を説明する説明図である。積層セラミックコンデンサ10は、図3のステップS100〜S180の各工程を経て製造される。各工程の内容につき、以下、工程順に説明する。
【0022】
(2)−1 キャリアフィルム上へのシート形成(ステップS100)
まず、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム等の長尺状のキャリアフィルムにチタン酸バリウム(BaTiO3)などから成るセラミックスラリを均一に薄く塗布して乾燥させる。これにより、キャリアフィルム上にセラミックグリーンシート22Aが形成される。このセラミックグリーンシート22Aは、焼成後にセラミック層22となる。
【0023】
(2)−2 シート上への電極層の形成(ステップS110)
次に、乾燥後のセラミックグリーンシート22Aに、スクリーン印刷手法などによってAg−Pd製の電極パターンを印刷する。これにより、セラミックグリーンシート22Aの表面には、電極パターンが印刷された部分に内部電極層24が形成される(図4(A),(B))。また、セラミックグリーンシート22Aの表面には、電極パターンが印刷されていない窓部25(25a,25b)がある。本実施例では、内部電極層24の厚みが2〜3μm、セラミックグリーンシート22Aが5μmとなるようにされている。
【0024】
(2)−3 積層用セラミックシートの切り出しおよびキャリアフィルムの剥離(ステップS120、S130)
次に、上記のセラミックグリーンシート22Aが形成された長尺状のキャリアフィルムを搬送させながら、セラミックグリーンシート22Aをその表面の内部電極層24と共に一定形状で切り出す。切り出したセラミックグリーンシート22Aは、キャリアフィルムの巻き取り等によりこのキャリアフィルムから剥離される。こうしたセラミックグリーンシート22Aの切り出しに際しては、図4(A),(B)に示すように、内部電極層24および窓部25のレイアウトが異なる2種類のセラミックグリーンシート22Aの切り出しが行なわれる。図4(A)が図2(A)の断面に、図4(B)が図2(B)の断面に対応する。
【0025】
(2)−4 セラミックシートの積層(ステップS140)
図5はシートの積層が完了したときの状況と後述するステップにおけるレーザー照射の様子を模式的に表す説明図である。次に、上記のように形成された複数枚のセラミックグリーンシート22Aを所定枚数だけ積層する。この積層に際しては、まず、カバーシート34を予め敷設しておく。このカバーシート34は、図5に示すように、PET(ポリエチレンテレフタレート)製の剥離シート33上にセラミックスラリを厚めに塗布して乾燥させて形成したカバー層32(カバー層)を有する。
【0026】
続いて、敷設されたカバーシート34のカバー層32上に、図4(A),(B)に示した2種類のセラミックグリーンシート22Aを図5に示すように交互に積層する。この積層に際しては、図示するように、最下段のセラミックグリーンシート22Aをその内部電極層24がカバー層32に接するようにし、その後は、次のセラミックグリーンシート22Aをその内部電極層24が積層済みのセラミックグリーンシート22Aに重なるようにする。こうしたシート積層により、セラミックのシート積層体100ができあがる。
【0027】
カバーシート34を含むシート積層体100全体の厚みdaは、完成品の積層セラミックコンデンサ10の厚みを規定する。この厚みdaを定めるセラミックグリーンシート22Aの厚みd0(図4参照)やその総積層数、カバー層32の厚みは、所望される積層セラミックコンデンサ10のスペック、サイズで定まる。本実施例では、セラミックシート積層体全体の厚みdaを1mmとした。
【0028】
こうして積層が終わった状況では、グリーンシートである都合上、窓部25(25a,25b)においてその上部のグリーンシートが撓んで当該窓部にある程度入り込んでいる。また、シート体端部では、セラミックグリーンシート22Aの各層が撓んだ状態となる。
【0029】
図示するように、窓部25が上下に並んだ領域(窓部上下領域25A)では、内部電極層24が一層おきに存在しないことになる。一方、窓部25を取り囲む領域(窓部周辺領域25B)では、内部電極層24がグリーンシートごとに対向して上下に並ぶので、グリーンシートの撓みが起きない。このため、窓部周辺領域25Bは、窓部上下領域25Aより若干凸状となる。
【0030】
(2)−5 レーザー照射による貫通孔の形成(ステップS150)
次に、レーザー加工機を用いて、上記のシート積層体100に導電材料充填用の貫通孔26を次のようにして形成する。本実施例では、この貫通孔26に充填された導電材料は、製品完成後に図1に示すビア電極28となる。
【0031】
図5に示すように、上記のシート積層体100では、セラミックグリーンシート22Aに設けられたそれぞれの窓部25が、一層おきにシート積層方向に上下に並ぶ。レーザー加工機は、この上下に並んだ窓部25の中心を結ぶ軸線(図5における一点鎖線)に沿ってレーザービーム50を照射する。これにより、上記軸線上に位置するセラミックグリーンシート22A、内部電極層24およびカバーシート34がレーザー照射による熱で溶融され、上記軸線の周囲に、積層体を上下に貫通する貫通孔26が形成される。図6は貫通形成された貫通孔26をその形状をストレート状であるとして模式的に示す説明図である。この図6に示すように、貫通孔26は、窓部25を取り囲む内部電極層24と貫通孔26に充填形成されたビア電極28とを非導通の状態に維持するために、窓部25よりも小さな孔径で形成される。本実施例では、焼成後の貫通孔径が100μmとなるよう貫通孔26の孔径を120μmとし、窓部25の径を350μmとした。なお、これら径はこうした数値のものに限られるわけではなく、貫通孔26にあっては60〜150μmとすることもできる。この場合、貫通孔孔径の決定に際しては、貫通孔26に充填する後述の導電材料(充填材)の粘度等を考慮すればよい。また、窓部25の径にあっては、窓部25の形成ピッチ等を考慮すればよい。
【0032】
シート積層体100にレーザーを照射することにより該複数枚のセラミックグリーンシート22Aを積層方向に貫通する貫通孔26が形成される。このとき、図7に示すように、内部電極層24は、セラミックグリーンシート22Aに比して低融点であるので、レーザービーム照射に伴う熱により、その端面24cから先に溶融し、端面24cは貫通孔26の形成箇所から後退し、内部電極層24の端面24cと貫通孔26周壁との隔たりは、最大でも20μmが生じている状態を示している。
【0033】
図5に示すシート積層体100は、上面視すれば方形形状であるため、窓部25をマトリックス状に有する。従って、上記のレーザービーム50の照射は、図6に示した4箇所のみならず、方形形状のシート積層体の上面から、マトリックス状の個々の窓部25について、同様に行なわれる。このため、シート積層体100には多数の貫通孔26がマトリックス状に形成されることになる。
【0034】
このようにシート積層体100の異なる複数の位置に貫通孔26を形成する手法として、本実施例では、いわゆるサイクル加工法を採用している。サイクル加工法は、図5に示すように、各貫通孔形成位置に順次にレーザービーム50を照射する工程CYを何回か繰り返し、各貫通孔形成位置における穴の深さを徐々に深めながら、最終的に全ての貫通孔形成位置に貫通孔を形成する手法である。
【0035】
図示するように、本実施例では、レーザービーム50の照射の照射側にカバーシート34が位置するようにした。よって、レーザービーム50の照射による溶融物(例えば、電極やグリーンシート中の有機成分の溶融物)がセラミックグリーンシート22Aの表面に付着することがないので、好ましい。
【0036】
上記したステップS150までの工程において、工程の前後を変更することもできる。例えば、ステップS130のキャリアフィルム剥離とステップS140のシート積層を逆に行なったり、ステップS120のシート切り出しをステップS110の電極層の形成に先だって行なうこともできる。なお、ステップS120とステップS110の順に工程を行なって、更にステップS140、ステップS130の順に工程を行なうようにすることもできる。
【0037】
(2)−6 貫通孔への導電材料の充填(ステップS160)
次に、シート積層体100の各貫通孔26に導電材料を充填する。図8は充填容器110による導電材料の充填工程を説明する説明図である。充填容器110は、導電材料を収納する容器筐体112および底板114と、底板114を油圧シリンダなどで押し上げて導電材料をシート積層体100に供給するためのアクチュエータ116とを備えている。図示するように、シート積層体100を充填容器110に載置する。そして、シート積層体100は、図示しない位置決めピン等にて充填容器110に対して位置決めされる。さらに、充填容器110に載置したシート積層体100の上面に、押圧板118を押し当てる。この押圧板118は、シート積層体100を支え、充填容器110が底板114の押し上げを経て導電材料を加圧注入する圧力に抗する。
【0038】
充填容器110により導電材料を充填するには、導電材料を容器筐体112の内部に満たした状態にて、底板114をアクチュエータ116で押し上げることにより行なう。底板114の押し上げにより、シート積層体100の貫通孔26に、導電材料が加圧注入される。導電材料の充填に際し、貫通孔26内のエアは適宜な方法で貫通孔26の外部に排出される。例えば、図8に示す押圧板118の下面に、通気性を有するシートを配置したり、この押圧板118自体を多孔質で通気性を有する板材とすればよい。
【0039】
図9は本実施例による導電材料充填の様子を説明する説明図である。加圧注入された導電材料は、貫通孔26に充填されると共に、この貫通孔26内から内部電極層24の端面24cにまで達して固化する。このように固化した導電材料が、既述したビア電極28として機能する(図1参照)。
【0040】
本充填工程は、導電材料を貫通孔26から内部電極層24の端面24cまで充填するために、導電材料の性質、貫通孔26の孔径、加圧注入圧力などのパラメータを定めている。すなわち、導電材料として、平均粒径が2μm以下の金属粉末を含有して有機溶剤で調製した導電ペーストを用いている。金属粉末として、例えば、Ag−Pd(AgとPdの割合は例えば7:3とすることができる)を用いることができる。金属粉末の平均粒径が2μmを越えると、金属粉末が内部電極層24の端面24cから貫通孔26側に形成される積層方向のスペース(約2μm)より大きくなって、内部電極層24の端面24cにまで入り込みにくくなるからである。なお、平均粒径が3.6μmと0.6μmの金属粉末を含有する導電ペーストを用いたところ、3.6μmでは電気接続性が低下したことが分かった。
【0041】
また、有機溶剤としては、ブチルカルビトール、テルピネオールなどを用いることができる。また、導電ペーストは、必要に応じて、無機化合物粉末を含有してもよい。無機化合物粉末は、セラミックグリーンシート22Aと内部電極層24との焼結収縮挙動の違いに起因する応力によるクラックの発生などの不具合を抑制する働きをする。このように調製した導電ペーストは、粘度を100〜2万Pa・s(好ましくは200〜2000Pa・s)とする。
【0042】
さらに、充填容器110からの加圧注入圧力は、貫通孔26の孔径や導電ペーストの粘度などの条件にもよるが、貫通孔26の孔径が120μm(焼成後で100μm)とした場合には、2〜7.5MPaの範囲から選択すればよい。加圧注入圧力が下限値2MPa以上であれば、貫通孔26への導電材料の加圧注入を確実に図ることができる。また、加圧注入圧力が上限値7.5MPa以下であれば、導電材料の粘性が高い場合であっても上記導電材料を貫通孔26に確実に充填できる。
【0043】
(2)−7 本圧着工程(ステップS170)
次に、こうして得られた充填容器110を高温・高圧プレスによって圧着する。こうした圧着後のシート積層体100の圧着により、上下のセラミック層22は互いに密接された状態となる。
【0044】
(2)−8 表面電極の形成・溝入れ・脱脂・焼成・ブレーク(ステップS180)
次に、シート積層体100の外面に、スクリーン印刷などにより表面電極を設ける。続いて、シート積層体100に、使用される積層セラミックコンデンサ10の大きさに合わせて溝を入れ、溝入れ後の積層体を脱脂した後に焼成する。こうした焼成の後に、図1に示したような積層セラミックコンデンサ10が形成される。なお、焼成後のシート積層体100を、溝入れ工程において入れられた溝(図示せず)に沿ってブレークすれば、より小型の積層セラミックコンデンサ10を形成することができる。
【0045】
(3) 実施例の作用・効果
以上説明した製造工程をとることで得られる作用・効果について説明する。
【0046】
(3)−1 図7に示すように、貫通孔26の形成過程では、既述したようにレーザービーム50が孔形成箇所に繰り返し照射され、その都度、孔深さは増していく。こうした孔形成の過程で、Ag−Pdの電極パターンである内部電極層24は、セラミックグリーンシート22Aに比して低融点であるので、レーザービーム照射に伴う熱により、その端面24cから先に溶融し、端面24cは貫通孔26の形成箇所から後退し、内部電極層24の端面24cと貫通孔26周壁との隔たりは、最大でも20μm生じる。しかし、本実施例では、導電材料の充填工程において、上述した導電材料の粘度、金属粉末の平均粒径、圧力をとることにより、導電材料が内部電極層24の端面24cの後退を起こした箇所にも入り込み、ビア電極28と内部電極層24との確実な導通を図ることができる。
【0047】
(3)−2 上述のステップS160の導電材料の充填工程において、粘度の異なる4種類の導電材料、つまり1,000Pa・s(試料1)、10,000Pa・s(試料2)、50,000Pa・s(試料3)、150,000Pa・s(試料4)の導電材料を用いて積層セラミックコンデンサ10を製造し、ビア電極28と内部電極層24との接続状態を顕微鏡により調べたところ、試料1の1,000Pa・sの低い粘度では十分に接続が確認され、また、試料2から試料4へと10,000Pa・s、50,000Pa・s、150,000Pa・sへと粘度が高くなるにつれて、接続の低下が確認された。また、抵抗値を調べたところ、試料4の150,000Pa・sでも試料1と比べて抵抗値の増加はさほど大きくなかったが、インダクタンスが100〜500%増加したことが分かった。これは、ビア電極28と内部電極層24との接続が不十分となった場合に、抵抗値よりもインダクタンスへの影響が大きいと考えられるからである。
【0048】
なお、この発明は上記実施例に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である積層セラミックコンデンサ10の縦断面を示す説明図である。
【図2】ビア電極28と内部電極層24との接続について示す説明図である。
【図3】積層セラミックコンデンサ10の製造工程を示す工程図である。
【図4】図3の工程の様子を説明する説明図である。
【図5】シートの積層が完了したときの状況とレーザー照射の様子を模式的に表す説明図である。
【図6】貫通孔26を形成したシート積層体100を模式的に示す説明図である。
【図7】レーザー照射の様子を説明する説明図である。
【図8】充填容器110による導電材料の充填工程を説明する説明図である。
【図9】導電材料の充填の様子を説明する説明図である。
【符号の説明】
10...積層セラミックコンデンサ
22...セラミック層
22A...セラミックグリーンシート
24...内部電極層
24a...第1の内部電極層
24b...第2の内部電極層
24c...端面
25(25a,25b)...窓部
25A...窓部上下領域
25B...窓部周辺領域
26...貫通孔
28...ビア電極
28a...第1のビア電極
28b...第2のビア電極
30a...第1の実装端子
30b...第2の実装端子
32...カバー層
33...剥離シート
34...カバーシート
50...レーザービーム
100...シート積層体
110...充填容器
112...容器筐体
114...底板
116...アクチュエータ
118...押圧板
Claims (6)
- 内部電極層がセラミック層を介して複数積層され、該積層された方向に上記内部電極層および上記セラミック層を貫通するとともに所定の上記内部電極層間を接続するビア電極を備えた積層電子部品の製造方法であって、
上記セラミックグリーンシートと上記内部電極層とを交互に積層一体化してなるシート積層体を形成する積層工程と、
上記セラミックグリーンシートおよび所定の上記内部電極層間を貫通するように上記シート積層体にレーザーを用いて貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、
上記貫通孔に充填材を充填して上記ビア電極を形成する充填工程と、
を備え、
上記充填工程は、上記充填材を、上記貫通孔の開口から上記貫通孔内に加圧充填するとともに、上記貫通孔から上記内部電極層の上記貫通孔側の端部に達するように加圧充填する工程であること、
を特徴とする積層電子部品の製造方法。 - 請求項1に記載の積層電子部品の製造方法において、
上記充填工程は、
上記充填材を上記シート積層体の下方から上方に向けて加圧により押し上げ可能な充填容器に、該充填材を充填する工程と、
上記充填材を充填した上記充填容器の上に上記シート積層体の一方の外面を配置するとともに、上記シート積層体の他方の外面に押圧板を配置することで、上記シート積層体を上記充填容器と上記押圧板との間にセットする工程と、
上記シート積層体を上記充填容器にセットした状態で、上記充填容器と上記押圧板との間に圧力を加えて上記充填材の加圧充填を行なう工程と、
を備えた積層電子部品の製造方法。 - 請求項2に記載の積層電子部品の製造方法において、
上記充填工程は、上記押圧板と上記充填容器との間に加える圧力が2〜7.5MPaである積層電子部品の製造方法。 - 請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の積層電子部品の製造方法において、
上記充填材は、平均粒径が2μm以下の金属粉末を含有し、有機溶剤で調製した導電ペーストを用いた積層電子部品の製造方法。 - 請求項4に記載の積層電子部品の製造方法において、
上記導電ペーストの粘度は、100〜2万Pa・sとなるように調製した積層電子部品の製造方法。 - 請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の積層電子部品の製造方法において、
上記ビア電極の長さ/ビア電極の直径で表わされるアスペクト比は、4〜25である積層電子部品の製造方法。
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Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4478882A (en) * | 1982-06-03 | 1984-10-23 | Italtel Societa Italiana Telecomunicazioni S.P.A. | Method for conductively interconnecting circuit components on opposite surfaces of a dielectric layer |
US4954313A (en) * | 1989-02-03 | 1990-09-04 | Amdahl Corporation | Method and apparatus for filling high density vias |
US5229549A (en) * | 1989-11-13 | 1993-07-20 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Ceramic circuit board and a method of manufacturing the ceramic circuit board |
JP3237497B2 (ja) * | 1995-12-27 | 2001-12-10 | 株式会社村田製作所 | 導電ペースト並びにそれを用いた導電体及びセラミック基板 |
JPH10172345A (ja) * | 1996-12-04 | 1998-06-26 | Murata Mfg Co Ltd | 導電ペースト及びそれを用いたセラミック基板の製造方法 |
EP0917165B1 (en) * | 1997-11-14 | 2007-04-11 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer capacitor |
US6549395B1 (en) * | 1997-11-14 | 2003-04-15 | Murata Manufacturing Co., Ltd | Multilayer capacitor |
US6452117B2 (en) * | 1999-08-26 | 2002-09-17 | International Business Machines Corporation | Method for filling high aspect ratio via holes in electronic substrates and the resulting holes |
JP3489728B2 (ja) * | 1999-10-18 | 2004-01-26 | 株式会社村田製作所 | 積層コンデンサ、配線基板および高周波回路 |
US6801422B2 (en) * | 1999-12-28 | 2004-10-05 | Intel Corporation | High performance capacitor |
JP2001189234A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Tdk Corp | 積層コンデンサ |
US6454154B1 (en) * | 2000-05-31 | 2002-09-24 | Honeywell Advanced Circuits, Inc. | Filling device |
US6506332B2 (en) * | 2000-05-31 | 2003-01-14 | Honeywell International Inc. | Filling method |
US6532143B2 (en) * | 2000-12-29 | 2003-03-11 | Intel Corporation | Multiple tier array capacitor |
JP4548571B2 (ja) * | 2002-10-08 | 2010-09-22 | 日本特殊陶業株式会社 | 積層コンデンサの製造方法 |
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2003
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