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JP2004277502A (ja) * 2003-03-13 2004-10-07 Hitachi Chem Co Ltd シリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜及びその形成方法並びにシリカ系被膜を備える電子部品
US8901268B2 (en) 2004-08-03 2014-12-02 Ahila Krishnamoorthy Compositions, layers and films for optoelectronic devices, methods of production and uses thereof
US20060047034A1 (en) 2004-09-02 2006-03-02 Haruaki Sakurai Composition for forming silica-based film, method of forming silica-based film, and electronic component provided with silica-based film
JP2006183029A (ja) * 2004-11-30 2006-07-13 Hitachi Chem Co Ltd シリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜の形成方法、シリカ系被膜、及び、電子部品
JP2006183027A (ja) * 2004-11-30 2006-07-13 Hitachi Chem Co Ltd シリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜の形成方法、シリカ系被膜、及び、電子部品
JP2006183028A (ja) * 2004-11-30 2006-07-13 Hitachi Chem Co Ltd シリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜の形成方法、シリカ系被膜、及び、電子部品
JP2006160811A (ja) * 2004-12-03 2006-06-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd シリカ系被膜形成用塗布液
JP2006213908A (ja) * 2004-12-21 2006-08-17 Hitachi Chem Co Ltd シリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜の形成方法、シリカ系被膜、及び、電子部品
WO2006068181A1 (ja) * 2004-12-21 2006-06-29 Hitachi Chemical Company, Ltd. 被膜、シリカ系被膜及びその形成方法、シリカ系被膜形成用組成物、並びに電子部品
JP2006182811A (ja) * 2004-12-24 2006-07-13 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd シリカ系被膜形成用塗布液
CN101155887B (zh) * 2005-04-13 2012-06-27 东京应化工业株式会社 二氧化硅系被膜形成用组合物
JP4757525B2 (ja) * 2005-04-13 2011-08-24 東京応化工業株式会社 シリカ系被膜形成用組成物
JP4757524B2 (ja) * 2005-04-13 2011-08-24 東京応化工業株式会社 シリカ系被膜形成用組成物
JP2007211062A (ja) * 2006-02-07 2007-08-23 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 着色シリカ系被膜形成用組成物
JP4949692B2 (ja) 2006-02-07 2012-06-13 東京応化工業株式会社 低屈折率シリカ系被膜形成用組成物
US8557877B2 (en) 2009-06-10 2013-10-15 Honeywell International Inc. Anti-reflective coatings for optically transparent substrates
US8864898B2 (en) 2011-05-31 2014-10-21 Honeywell International Inc. Coating formulations for optical elements
JP6044792B2 (ja) * 2012-02-02 2016-12-14 日産化学工業株式会社 低屈折率膜形成用組成物
US10544329B2 (en) 2015-04-13 2020-01-28 Honeywell International Inc. Polysiloxane formulations and coatings for optoelectronic applications

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