JP2004263299A5 - 成膜装置及び成膜方法 - Google Patents

Claims (16)

1. 基板に対向して配置した蒸着源から蒸着材料を蒸着させて前記基板上に成膜を行う成膜室を有する成膜装置であって、
   前記蒸着源をＸ方向に移動する手段と、前記基板をＹ方向に移動する手段とを有し、
   前記蒸着源をＸ方向に移動させた後、前記基板をＹ方向に一定間隔で移動させることを繰り返して成膜を行うことを特徴とする成膜装置。
2. 請求項１において、
   前記蒸着源を往復させることにより成膜を行うことを特徴とする成膜装置。
3. 請求項１又は２において、
   前記基板を往復させることにより成膜を行うことを特徴とする成膜装置。
4. 請求項１乃至３のいずれか一において、
   前記成膜室には、設置室が連結されており、
   前記設置室は、蒸着材料が収納された容器を大気に触れさせることなく前記蒸着源に設置する手段を有することを特徴とする成膜装置。
5. 請求項４において、
   前記成膜室および前記設置室は、室内を真空にする真空排気処理室と連結され、且つ、材料ガス又はクリーニングガスを導入する手段を有することを特徴とする成膜装置。
6. 請求項４又は５において、
   前記設置室には、膜厚計が設けられていることを特徴とする成膜装置。
7. 基板に対向して配置した複数の蒸着源から蒸着材料を蒸着させて前記基板上に成膜を行う成膜室を有する成膜装置であって、
   第１の蒸着源と、該第１の蒸着源をＸ方向に移動する第１の手段と、第２の蒸着源と、該第２の蒸着源をＸ方向に移動する第２の手段と、前記基板をＹ方向に移動する手段とを有し、
   前記第１の蒸着源及び前記第２の蒸着源をＸ方向へ移動させた後、前記基板をＹ方向に一定間隔で移動させることを繰り返して成膜を行うことを特徴とする成膜装置。
8. 請求項７において、
   前記第１の蒸着源又は前記第２の蒸着源を往復させることにより成膜を行うことを特徴とする成膜装置。
9. 請求項７又は８において、
   前記基板を往復させることにより成膜を行うことを特徴とする成膜装置。
10. 請求項７乃至９のいずれか一において、
    前記第１の蒸着源のＸ方向への移動速度と、前記第２の蒸着源のＸ方向への移動速度とを異ならせることを特徴とする成膜装置。
11. 請求項７乃至１０のいずれか一において、
    前記複数の蒸着源は、互いに平行に移動することを特徴とする成膜装置。
12. 請求項７乃至１１のいずれか一において、
    前記成膜室には、設置室が連結されており、
    前記設置室は、蒸着材料が収納された容器を大気に触れさせることなく前記第１の蒸着源及び第２の蒸着源に設置する手段を有することを特徴とする成膜装置。
13. 請求項１２において、
    前記成膜室および前記設置室は、室内を真空にする真空排気処理室と連結され、且つ、材料ガス又はクリーニングガスを導入する手段を有することを特徴とする成膜装置。
14. 請求項１２又は１３において、
    前記設置室には、前記複数の蒸着源に対応する複数の膜厚計が設けられており、
    前記複数の膜厚計は、前記基板の移動経路を挟んで交互に配置されていることを特徴とする成膜装置。
15. 請求項１乃至１４のいずれか一において、
    前記成膜室には搬送室が連結され、前記搬送室にはロード室が連結されていることを特徴とする成膜装置。
16. 請求項１乃至１５のいずれか一に記載の成膜装置を用いた成膜方法。