CN114752913B - 一种往复式双面高真空卷绕镀膜机 - Google Patents
一种往复式双面高真空卷绕镀膜机 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114752913B CN114752913B CN202210481979.3A CN202210481979A CN114752913B CN 114752913 B CN114752913 B CN 114752913B CN 202210481979 A CN202210481979 A CN 202210481979A CN 114752913 B CN114752913 B CN 114752913B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- winding
- film
- evaporation
- drum
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004804 winding Methods 0.000 title claims abstract description 54
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 55
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 55
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 5
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 3
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 238000004146 energy storage Methods 0.000 abstract description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 4
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 4
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/545—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明提供了一种往复式双面高真空卷绕镀膜机，属于储能装置基膜镀层技术领域。它解决了现有储能装置体积大，导致配备过程中所占空间大的问题。本往复式双面高真空卷绕镀膜机，其特征在于，包括卷绕系统、蒸发系统、真空系统、冷温媒机组系统和自动控制系统，卷绕系统由两对称设置的摆架、两对称设置的收放卷装置、两个蒸镀鼓、三根张力辊、若干组展平辊、若干组固定随动辊，以及一组可移动的移动随动辊组成，卷绕系统还包括有等离子源处理装置、涡电流检测装置、偏压装置和方阻测量装置。本发明具有使储能装置体积减小，进而降低其占地空间的优点。
Description
技术领域
本发明属于储能装置基膜镀层技术领域，涉及一种镀膜机，特别涉及一种往复式双面高真空卷绕镀膜机。
背景技术
目前的储能装置（如电动汽车、电力储能设备等）采用锂电隔膜覆上铝箔作为正极，负极是采用锂电隔膜覆上铜箔。铝箔和铜箔的覆膜薄度对储能装置的体积大小和性能起到决定性因素；而目前由于受到加工的影响，储能装置的体积还是较大，大体积的储能装置在装配过程中所占空间大，空间的排布受影响。
因此，如何减小储能装置体积，紧凑能量密度是我们目前亟需要解决的问题。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术中存在的上述问题，提供了一种体积小且能量密度大的往复式双面高真空卷绕镀膜机。
本发明的目的可通过下列技术方案来实现：一种往复式双面高真空卷绕镀膜机，其特征在于，包括卷绕系统、蒸发系统、真空系统、冷温媒机组系统和自动控制系统；
所述的卷绕系统由两对称设置的摆架、两对称设置的收放卷装置、两个蒸镀鼓、三根张力辊、若干组展平辊、若干组固定随动辊，以及一组可移动的移动随动辊组成，所述的卷绕系统还包括有等离子源处理装置、涡电流检测装置、偏压装置和方阻测量装置，两对称设置的摆架分别为摆架一和摆架二，两对称设置的收放卷装置分别为收放卷装置一和收放卷装置二，两所述蒸镀鼓分别为蒸镀鼓一和蒸镀鼓二，所述的等离子源处理装置用于清洁活化基膜和对镀好的膜进行离子处理，所述的涡电流检测装置用于对镀层厚度的在线检测，所述的偏压装置能够使基膜吸附在蒸镀鼓表面上，所述的方阻测量装置用于对镀层的厚度进行检测以及用于卷绕速度的反馈，基膜依次沿经收放卷装置一、摆架一、展平辊、张力辊、涡电流检测装置、等离子源处理装置、固定随动辊进入蒸镀鼓一进行基膜一面的蒸镀，再通过固定随动辊、张力辊、展平辊、移动随动辊、涡电流检测装置、等离子源处理装置、固定随动辊、张力辊、固定随动辊进入蒸镀鼓二进行基膜另一面的蒸镀，再经过固定随动辊、等离子源处理装置和涡电流检测装置，通过摆架二及收放卷装置二将镀膜收起，收放卷装置二将镀膜重新放出并再次蒸镀，实现连续往复多次蒸镀的目的；
所述的蒸发系统包括蒸发舟、单独送丝装置和蒸发围罩，相邻蒸发舟之间形成蒸发舟距离d；
所述的真空系统由旋片泵、罗茨泵、扩散泵、分子泵和冷凝泵组成，所述的真空系统还包括了空气补集装置。
在上述的一种往复式双面高真空卷绕镀膜机中，所述的蒸镀鼓一和蒸镀鼓二表面均喷有陶瓷。
在上述的一种往复式双面高真空卷绕镀膜机中，相邻所述蒸发舟沿竖直方向交错排布。
与现有技术相比，本往复式双面高真空卷绕镀膜机通过主要的卷绕系统、蒸发系统、真空系统、冷温媒机组系统和自动控制系统五大系统配合工作下，使镀层薄度降低到1um，具有将储能装置的体积减小，储能装置装配的所占空间率降低的优点。
附图说明
图1是本往复式双面高真空卷绕镀膜机的工作流程图。
图2是蒸发舟的排布结构图。
图中，1、收放卷装置一；2、收放卷装置二；3、摆架一；4、摆架二；5、蒸镀鼓一；6、蒸镀鼓二；7、张力辊；8、展平辊；9、固定随动辊；10、移动随动辊；11、等离子源处理装置；12、涡电流检测装置；13、蒸发围罩；14、蒸发舟。
具体实施方式
以下是本发明的具体实施例并结合附图，对本发明的技术方案作进一步的描述，但本发明并不限于这些实施例。
如图1、图2所示，本往复式双面高真空卷绕镀膜机，包括卷绕系统、蒸发系统、真空系统、冷温媒机组系统和自动控制系统。
其中，卷绕系统由两对称设置的摆架、两对称设置的收放卷装置、两个蒸镀鼓、三根张力辊7、若干组展平辊8、若干组固定随动辊9，以及一组可移动的移动随动辊10组成，所述的卷绕系统还包括有等离子源处理装置11、涡电流检测装置12、偏压装置和方阻测量装置，两对称设置的摆架分别为摆架一3和摆架二4，两对称设置的收放卷装置分别为收放卷装置一1和收放卷装置二2，通过两个收放卷装置满足多次往复镀膜，两蒸镀鼓分别为蒸镀鼓一5和蒸镀鼓二6，通过三根张力辊7能够完全满足薄膜在往复镀膜过程中实现张力的精准控制；通过设置若干组固定随动辊9和一组移动随动辊10，可以很方便的把镀好的膜和还未镀的基膜进行取放，而且保证了基膜在蒸镀过程中，移动随动辊10与固定随动辊9之间的距离可调，从而保证基膜在镀膜过程中不会产生褶皱和斜拉，等离子源处理装置11用于清洁活化基膜和对镀好的膜进行离子处理，从而保证镀层的质量，涡电流检测装置12用于对镀层厚度的在线检测，偏压装置能够使基膜很好的吸附在蒸镀鼓表面上，方阻测量装置用于对镀层的厚度进行检测以及用于卷绕速度的反馈，如图1所示，基膜依次沿经收放卷装置一1、摆架一3、展平辊8、张力辊7、涡电流检测装置12、等离子源处理装置11、固定随动辊9进入蒸镀鼓一5进行基膜一面的蒸镀，再通过固定随动辊9、张力辊7、展平辊8、移动随动辊10、涡电流检测装置12、等离子源处理装置11、固定随动辊9、张力辊7、固定随动辊9进入蒸镀鼓二6进行基膜另一面的蒸镀，再经过固定随动辊9、等离子源处理装置11和涡电流检测装置12，最后通过摆架二4及收放卷装置二2将镀膜收起，同时，收放卷装置二2将镀膜重新放出并再次蒸镀，实现在不开仓的情况下，连续往复多次蒸镀的目的。
蒸发系统包括蒸发舟14、单独送丝装置和蒸发围罩13，相邻蒸发舟14之间形成高密度蒸发舟14距离d，通过高密度蒸发舟14距离d，保证蒸发量和蒸发的均匀性。
真空系统由旋片泵、罗茨泵、扩散泵、分子泵和冷凝泵组成，通过真空系统保证正常镀膜的蒸空度，保证最低4.0x10‐2Pa的蒸镀环境，真空系统还包括了空气补集装置，能够很好的把水分子吸附。
冷温媒机组系统保证在镀膜过程中对蒸镀鼓的制冷与加温；自动控制系统的界面操控采用触摸式。
进一步细说，蒸镀鼓一5和蒸镀鼓二6表面均喷有陶瓷，保证往复镀膜可靠性。
如图2所示，相邻蒸发舟14沿竖直方向交错排布，将蒸发舟14排布重新作出布置，加密蒸发舟14距离。
本文中所描述的具体实施例仅仅是对本发明精神作举例说明。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本发明的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
尽管本文较多地使用了收放卷装置一1、收放卷装置二2、摆架一3、摆架二4、蒸镀鼓一5、蒸镀鼓二6、张力辊7、展平辊8、固定随动辊9、移动随动辊10、等离子源处理装置11、涡电流检测装置12、蒸发围罩13、蒸发舟14。等术语，但并不排除使用其它术语的可能性。使用这些术语仅仅是为了更方便地描述和解释本发明的本质；把它们解释成任何一种附加的限制都是与本发明精神相违背的。
Claims (3)
1.一种往复式双面高真空卷绕镀膜机，其特征在于，包括卷绕系统、蒸发系统、真空系统、冷温媒机组系统和自动控制系统；
所述的卷绕系统由两对称设置的摆架、两对称设置的收放卷装置、两个蒸镀鼓、三根张力辊（7）、若干组展平辊（8）、若干组固定随动辊（9），以及一组可移动的移动随动辊（10）组成，所述的卷绕系统还包括有等离子源处理装置（11）、涡电流检测装置（12）、偏压装置和方阻测量装置，两对称设置的摆架分别为摆架一（3）和摆架二（4），两对称设置的收放卷装置分别为收放卷装置一（1）和收放卷装置二（2），两所述蒸镀鼓分别为蒸镀鼓一（5）和蒸镀鼓二（6），所述的等离子源处理装置（11）用于清洁活化基膜和对镀好的膜进行离子处理，所述的涡电流检测装置（12）用于对镀层厚度的在线检测，所述的偏压装置能够使基膜吸附在蒸镀鼓表面上，所述的方阻测量装置用于对镀层的厚度进行检测以及用于卷绕速度的反馈，基膜依次沿经收放卷装置一（1）、摆架一（3）、展平辊（8）、张力辊（7）、涡电流检测装置（12）、等离子源处理装置（11）、固定随动辊（9）进入蒸镀鼓一（5）进行基膜一面的蒸镀，再通过固定随动辊（9）、张力辊（7）、展平辊（8）、移动随动辊（10）、涡电流检测装置（12）、等离子源处理装置（11）、固定随动辊（9）、张力辊（7）、固定随动辊（9）进入蒸镀鼓二（6）进行基膜另一面的蒸镀，再经过固定随动辊（9）、等离子源处理装置（11）和涡电流检测装置（12），通过摆架二（4）及收放卷装置二（2）将镀膜收起，收放卷装置二（2）将镀膜重新放出并再次蒸镀，实现连续往复多次蒸镀的目的；
所述的蒸发系统包括蒸发舟（14）、单独送丝装置和蒸发围罩（13），相邻蒸发舟（14）之间形成蒸发舟（14）距离d；
所述的真空系统由旋片泵、罗茨泵、扩散泵、分子泵和冷凝泵组成，所述的真空系统还包括了空气补集装置。
2.根据权利要求1所述的一种往复式双面高真空卷绕镀膜机，其特征在于，所述的蒸镀鼓一（5）和蒸镀鼓二（6）表面均喷有陶瓷。
3.根据权利要求1所述的一种往复式双面高真空卷绕镀膜机，其特征在于，相邻所述蒸发舟（14）沿竖直方向交错排布。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210481979.3A CN114752913B (zh) | 2022-05-05 | 2022-05-05 | 一种往复式双面高真空卷绕镀膜机 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210481979.3A CN114752913B (zh) | 2022-05-05 | 2022-05-05 | 一种往复式双面高真空卷绕镀膜机 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114752913A CN114752913A (zh) | 2022-07-15 |
| CN114752913B true CN114752913B (zh) | 2023-11-28 |
Family
ID=82333060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202210481979.3A Active CN114752913B (zh) | 2022-05-05 | 2022-05-05 | 一种往复式双面高真空卷绕镀膜机 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114752913B (zh) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004263299A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-24 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 製造装置 |
| CN101492809A (zh) * | 2009-02-17 | 2009-07-29 | 广州力加电子有限公司 | 一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置 |
| JP2009228014A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Toppan Printing Co Ltd | 巻取式真空蒸着方法および装置 |
| CN104593743A (zh) * | 2015-01-26 | 2015-05-06 | 四川亚力超膜科技有限公司 | 柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机 |
| CN104611682A (zh) * | 2015-02-09 | 2015-05-13 | 常州工学院 | 一种双面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机 |
| CN108315709A (zh) * | 2018-04-24 | 2018-07-24 | 广州市邦图机电科技有限公司 | 一种高真空卷绕式电容镀膜机 |
| CN212925150U (zh) * | 2020-08-31 | 2021-04-09 | 合肥东昇机械科技有限公司 | 一种新型薄膜双舟双面镀膜装置 |
-
2022
- 2022-05-05 CN CN202210481979.3A patent/CN114752913B/zh active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004263299A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-24 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 製造装置 |
| JP2009228014A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Toppan Printing Co Ltd | 巻取式真空蒸着方法および装置 |
| CN101492809A (zh) * | 2009-02-17 | 2009-07-29 | 广州力加电子有限公司 | 一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置 |
| CN104593743A (zh) * | 2015-01-26 | 2015-05-06 | 四川亚力超膜科技有限公司 | 柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机 |
| CN104611682A (zh) * | 2015-02-09 | 2015-05-13 | 常州工学院 | 一种双面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机 |
| CN108315709A (zh) * | 2018-04-24 | 2018-07-24 | 广州市邦图机电科技有限公司 | 一种高真空卷绕式电容镀膜机 |
| CN212925150U (zh) * | 2020-08-31 | 2021-04-09 | 合肥东昇机械科技有限公司 | 一种新型薄膜双舟双面镀膜装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN114752913A (zh) | 2022-07-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPWO2016133131A1 (ja) | 薄膜製造装置、及び薄膜製造方法 | |
| CN101768726B (zh) | 一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置 | |
| CN104611682A (zh) | 一种双面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机 | |
| CN112853275A (zh) | 一种超薄基膜的连续式卷绕真空镀膜方法 | |
| CN214572199U (zh) | 一种高效快速电子束镀膜设备 | |
| CN114752913B (zh) | 一种往复式双面高真空卷绕镀膜机 | |
| CN209260195U (zh) | 一种卷对卷真空镀膜设备 | |
| CN104001522A (zh) | 一种纳米孔结构的炭载PtCu合金催化剂及其制备方法 | |
| CN201326012Y (zh) | 一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置 | |
| CN114597418A (zh) | 复合集流体及其制备方法、锂离子电池和车辆 | |
| CN104775102B (zh) | 卷对卷磁控溅射阴极与柱状多弧源相结合的真空镀膜系统 | |
| CN104674176A (zh) | 一种高效率双面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机 | |
| CN112813400B (zh) | 一种双面多工位卷绕式真空镀膜机 | |
| CN110684944A (zh) | 一种双面铝金属化聚丙烯薄膜及其制备方法和电容器芯子 | |
| CN112795895A (zh) | 一种用于卷绕式真空镀膜机的真空穿膜机构 | |
| CN203411601U (zh) | 分区多靶磁控溅射设备 | |
| JPH06234186A (ja) | 高ガスバリヤー性透明電極フィルム | |
| CN202187062U (zh) | 双面卷对卷真空镀膜设备 | |
| CN103695839A (zh) | 一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置 | |
| CN113265623A (zh) | 一种采用大功率电子束蒸镀的双面卷绕镀膜机 | |
| CN214572211U (zh) | 一种用于卷绕式真空镀膜机的真空穿膜机构 | |
| CN203128645U (zh) | 采用电磁加热的pvd设备 | |
| CN207418855U (zh) | 一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统 | |
| CN109913810A (zh) | 真空磁控溅射镀膜生产线 | |
| CN113005414A (zh) | 一种磁控溅射镀膜方法及装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |