CN202187062U - 双面卷对卷真空镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
一种双面卷对卷真空镀膜设备，适用于对一个成卷的基材作双面镀膜，并包含：一用于卷放该基材的放料装置、一第一镀膜装置、一第二镀膜装置，以及一个用于卷收该基材的收料装置。该第一镀膜装置用于在该基材的一第一面上镀膜，该第二镀膜装置用于在该基材的一相反于该第一面的第二面上镀膜。借助该第一镀膜装置及该第二镀膜装置的配合，能一次且连续地完成该基材的第一面及第二面的双面镀膜作业，使基材不须另外再从真空腔体中取出，因此能避免基材受到大气环境污染，本实用新型使镀着的薄膜具有良好质量，并且节省镀膜时间，提高产能。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种真空镀膜设备，特别是涉及一种能在一基材的两相反面镀膜的双面卷对卷真空镀膜设备。
背景技术
已知应用于电子设备的塑料基材，例如以触控面板的基材为例，该基材的正反两面分别形成有功能性的薄膜。由于该基材具有挠性并且为成卷设置，因此进行基材的表面镀膜时，主要是通过卷对卷(roll-to-roll)工艺来进行，此工艺必需配合滚轮带动传输基材，并且在完成该基材的其中一表面的镀膜之后，必需将该基材从真空腔体中取出，再使基材反面卷绕后，同样使用卷对卷工艺来对该基材的另一表面镀膜。
受限于已知的卷对卷真空镀膜设备只能进行单面镀膜，而且卷对卷工艺是使用于软性的成卷基材上，因此无法像一般硬式的片状基材，可以利用夹具翻转而进行双面镀膜，所以目前的卷对卷镀膜工艺一定要先破真空将基材取出，才能再进行另一表面的镀膜。当基材自真空腔体取出后，其表面容易受到大气环境污染，影响后续的镀膜质量，同时此过程也导致镀膜时间较长、使产能降低。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种具有良好镀膜质量，能节省镀膜时间、提高产能的双面卷对卷真空镀膜设备。本实用新型双面卷对卷真空镀膜设备，适用于在一个成卷的基材的相反的一个第一面与一个第二面上镀膜，并包含：一个用于卷放该基材的放料装置，以及一个位于该放料装置的下游的第一镀膜装置，其中：该第一镀膜装置包括一个输送来自于该放料装置的基材的第一滚轮单元、一个用于干燥该基材的加热器、一个位于该加热器的下游并清洁该基材的第一面的第一清洁机构，以及一个位于该第一清洁机构的下游并在该基材的第一面镀膜的第一镀膜机构；该第一滚轮单元包括一个与该基材的第二面贴合并使该基材的第一面露出的第一转轮。该双面卷对卷真空镀膜设备还包含一个位于该第一镀膜装置的下游的第二镀膜装置，以及一个位于该第二镀膜装置的下游并用于卷收该基材的收料装置；该第二镀膜装置包括一个输送来自于该第一镀膜装置的基材的第二滚轮单元、一个清洁该基材的第二面的第二清洁机构，以及一个位于该第二清洁机构下游并在该基材的第二面镀膜的第二镀膜机构；该第二滚轮单元包括一个与该基材的第一面贴合并使该基材的第二面露出的第二转轮。
本实用新型所述的双面卷对卷真空镀膜设备，该第一镀膜装置及该第二镀膜装置为上下设置。
本实用新型所述的双面卷对卷真空镀膜设备，该第一镀膜装置还包括一个位于所述第一镀膜机构的下游的第一电性测量仪，该第二镀膜装置还包括一个位于所述第二镀膜机构的下游的第二电性测量仪。
本实用新型所述的双面卷对卷真空镀膜设备，该第二镀膜装置还包括一个位于所述第二镀膜机构的下游的光学检测仪。
本实用新型所述的双面卷对卷真空镀膜设备，该第一滚轮单元还包括数个间隔的第一张力轮，所述第一张力轮分别位于该放料装置与该加热器之间、该加热器与该第一转轮之间，以及该第一转轮与该第二镀膜装置之间；该第二滚轮单元还包括数个间隔的第二张力轮，所述第二张力轮分别位于该第一镀膜装置与该第二转轮之间，以及该第二转轮与该收料装置之间。
本实用新型所述的双面卷对卷真空镀膜设备，该加热器为一个红外线加热器。
本实用新型所述的双面卷对卷真空镀膜设备，该第一镀膜装置还包括数个分别位于该第一清洁机构及该第一镀膜机构周围的第一隔板，该第二镀膜装置还包括数个分别位于该第二清洁机构及该第二镀膜机构周围的第二隔板。
本实用新型所述的双面卷对卷真空镀膜设备，该第一清洁机构及该第二清洁机构皆为一个能产生等离子体的等离子体系统。
本实用新型的有益效果在于：借助该第一镀膜装置及该第二镀膜装置的配合，能一次且连续地完成该基材的第一面及第二面的双面镀膜作业，使基材无需另外再从真空腔体中取出，因此能避免基材受到大气环境污染，使镀着的薄膜具有良好质量，并且节省镀膜时间，提高产能。
附图说明
图1是一个成卷的基材的示意图；
图2是显示本实用新型双面卷对卷真空镀膜设备的一较佳实施例的主视图。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本实用新型进行详细说明。
参阅图1与图2。图中示出本实用新型双面卷对卷真空镀膜设备的较佳实施例，该双面卷对卷真空镀膜设备是借助卷对卷(roll-to-roll)镀膜工艺在一基材1的两相反面上镀膜，本实施例的基材1为聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，简称PET)，但不限于此，且该基材1包含相反的一第一面11及一第二面12。需要说明的是，为了方便示意，图2中该基材1只以线条示意出，而未示意该基材1的厚度，图2的数个箭头示意该基材1的传输方向，也就是生产线的进行方向，在以下说明中，所谓的上游及下游是依生产线的进行方向而定。所述镀膜设备包含：一放料装置2、一第一镀膜装置3、一第二镀膜装置4，以及一收料装置5。
该放料装置2可供成卷的基材1摆放，并包括两个前后间隔的放料侧壁21(图2只示出一个)，以及一个位于所述放料侧壁21间并供该基材1卷绕穿套的放料转轴22，所述放料转轴22用于卷放该基材1。由于该放料装置2非本实用新型的改进重点，所以不再说明。
该第一镀膜装置3位于该放料装置2的下游，并包括一个第一滚轮单元31、一个加热器32、一个位于该加热器32的下游的第一清洁机构33、至少一个位于该第一清洁机构33的下游的第一镀膜机构34，数个第一隔板35，以及一个位于第一镀膜机构34的下游的第一电性测量仪36。
其中，该第一滚轮单元31用于输送来自于该放料装置2的该基材1，并包括数个间隔的第一张力轮311，以及一个第一转轮312。所述第一张力轮311中的其中两个位于该放料装置2与该加热器32之间，其中三个第一张力轮311位于该加热器32与该第一转轮312之间，另外两个第一张力轮311位于该第一转轮312与该第二镀膜装置4之间。所述第一张力轮311用于将该放料装置2输送而来的基材1输送通过该加热器32、该第一转轮312之后，再往该第二镀膜装置4输送，而且第一张力轮311能感应张力，其彼此间能相互回馈信号以达到控制张力的目的。该第一转轮312可通过一未图示的冷却水管中的循环水流产生降温效果，使受到该第一转轮312输送的基材1降温，避免基材1过热。
该加热器32为一个红外线(IR)加热器32，利用红外线照射可去除该基材1表面的水分，并且使该基材1的第一面11及第二面12(如图1所示)两面的水分都去除。
该第一清洁机构33为一个用于产生等离子体的等离子体系统，并利用等离子体轰击该基材1的表面，能将基材1表面的杂质清除而达到表面清洁效果，使该基材1表面能提供更好的附着力，有利于后续的薄膜披覆。所述第一清洁机构33主要是清洁该基材1的第一面11。
本实施例的第一镀膜机构34的数量为三个，但不限于此，至少一个就可以。每一第一镀膜机构34为一溅镀系统，并包括一个朝向该第一转轮312并供一靶材设置的第一阴极板341，以及一用于轰击靶材以使靶材材料沉积在该基材1的第一面11的电子枪或离子枪(未图示)。本实施例的三个第一镀膜机构34的靶材材料可以不同，进而可在该基材1的第一面11形成三种不同材料的薄膜。
所述第一隔板35分别位于该第一清洁机构33及第一镀膜机构34周围，借此将该第一清洁机构33及第一镀膜机构34分别独立隔离，使该第一清洁机构33只对通过其前方的基材1的第一面11进行等离子体轰击，避免等离子体影响到该设备中的其它组件或该基材1的其它部位。同样地，第一隔板35遮挡隔离第一镀膜机构34，一方面使第一镀膜机构34只对通过其前方的基材1的第一面11进行镀膜，另一方面可防止第一镀膜机构34彼此间的互相干扰，同时也避免影响该设备中的其它元件。
该第一电性测量仪36用于测量披覆在该基材1的第一面11上的薄膜阻抗值，以检测薄膜电性是否符合要求。
该第二镀膜装置4与该第一镀膜装置3上下设置，而且是位于该第一镀膜装置3的下游，并包括一个第二滚轮单元41、一个第二清洁机构42、至少一个位于该第二清洁机构42的下游的第二镀膜机构43，数个第二隔板44，以及位于所述第二镀膜机构43下游的一个第二电性测量仪45与一个光学检测仪46。
其中，该第二滚轮单元41用于输送来自于该第一镀膜装置3的该基材1，并包括数个间隔的第二张力轮411，以及一个第二转轮412。所述第二张力轮411中的其中两个位于该第一镀膜装置3与该第二转轮412之间，另外四个第二张力轮411位于该第二转轮412与该收料装置5之间，所述第二张力轮411能感应张力并作张力控制。所述第二张力轮411用于将基材1输送至该第二转轮412上镀膜之后，再使该基材1通过该第二电性测量仪45及该光学检测仪46后，往该收料装置5输送。该第二转轮412与该第一转轮312同样具有降温、避免该基材1过热的功能。
该第二清洁机构42的结构及功能相同于该第一清洁机构33，因此不再说明，所述第二清洁机构42主要是清洁该基材1的第二面12。
本实施例的第二镀膜机构43的数量为三个，但不限于此，至少一个就可以。每一个第二镀膜机构43包括一个朝向该第二转轮412并供靶材设置的第二阴极板431，以及一用于轰击靶材以使靶材材料沉积在该基材1的第二面12的电子枪或离子枪(未图示)。所述第二镀膜机构43的结构及功能类似于所述第一镀膜机构34，因此不再说明。
所述第二隔板44分别位于该第二清洁机构42及第二镀膜机构43周围，借此将该第二清洁机构42及第二镀膜机构43分别独立隔离，避免影响到设备中的其它元件。
该第二电性测量仪45用于测量披覆在该基材1的第二面12上的薄膜阻抗值，以检测薄膜电性是否符合要求。该光学检测仪46用于测量已完成双面镀膜的基材1的光学性质，例如透光度、雾度等，以检测该基材1的光学性质是否符合要求。
该收料装置5位于该第二镀膜装置4的下游，用于卷收已完成双面镀膜的基材1，其结构与该放料装置2相同，并包括两个前后间隔的收料侧壁51(图2只示出一个)，以及一个位于所述收料侧壁51之间并供该基材1卷绕穿套的收料转轴52，所述收料转轴52用于卷收该基材1。由于该收料装置5非本实用新型的改进重点，所以不再说明。
本实用新型使用时，该基材1受到该第一镀膜装置3的第一张力轮311带动，首先通过该加热器32而进行干燥、去除水分作业，接着该基材1披覆在该第一转轮312上，而且基材1是以该第二面12贴合该第一转轮312的表面，该第一面11露出而朝向该第一清洁机构33及第一镀膜机构34上的靶材，该基材1的第一面11先受到该第一清洁机构33作表面清洁后，通过第一镀膜机构34在该第一面11沉积薄膜，再利用该第一电性测量仪36测量薄膜阻抗值。
接着该基材1被输送到该第二镀膜装置4，当该基材1披覆在该第二转轮412上时，该基材1是以该第一面11贴合该第二转轮412的表面，该第二面12露出而朝向该第二清洁机构42及第二镀膜机构43上的靶材，该基材1的第二面12先受到该第二清洁机构42作表面清洁后，再由所述第二镀膜机构43在该第二面12沉积薄膜，并且利用该第二电性测量仪45测量薄膜阻抗值，以及利用光学检测仪46检测基材1的光学性质，最后由该收料装置5将已完成双面镀膜的基材1卷收。
综上所述，通过该第一镀膜装置3及该第二镀膜装置4的配合，能一次且连续地完成该基材1的第一面11及第二面12的双面镀膜作业，使基材1无需另外再从真空腔体中取出，因此能避免基材1受到大气环境污染。本实用新型使镀着的薄膜具有良好质量，并且节省镀膜时间，提高产能。而且所述两镀膜装置3、4为上下设置，使该基材1的输送方向及生产线的进行方向较顺畅，并且能产生类似于使该基材1翻面镀膜的效果。
Claims (8)
1.一种双面卷对卷真空镀膜设备，适用于在一个成卷的基材的相反的一个第一面与一个第二面上镀膜，并包含：一个用于卷放该基材的放料装置，以及一个位于该放料装置的下游的第一镀膜装置，其特征在于：该第一镀膜装置包括一个输送来自于该放料装置的基材的第一滚轮单元、一个用于干燥该基材的加热器、一个位于该加热器的下游并清洁该基材的第一面的第一清洁机构，以及一个位于该第一清洁机构的下游并在该基材的第一面镀膜的第一镀膜机构；该第一滚轮单元包括一个与该基材的第二面贴合并使该基材的第一面露出的第一转轮；该双面卷对卷真空镀膜设备还包含一个位于该第一镀膜装置的下游的第二镀膜装置，以及一个位于该第二镀膜装置的下游并用于卷收该基材的收料装置；该第二镀膜装置包括一个输送来自于该第一镀膜装置的基材的第二滚轮单元、一个清洁该基材的第二面的第二清洁机构，以及一个位于该第二清洁机构下游并在该基材的第二面镀膜的第二镀膜机构；该第二滚轮单元包括一个与该基材的第一面贴合并使该基材的第二面露出的第二转轮。
2.如权利要求1所述的双面卷对卷真空镀膜设备，其特征在于：该第一镀膜装置及该第二镀膜装置为上下设置。
3.如权利要求1或2所述的双面卷对卷真空镀膜设备，其特征在于：该第一镀膜装置还包括一个位于所述第一镀膜机构的下游的第一电性测量仪，该第二镀膜装置还包括一个位于所述第二镀膜机构的下游的第二电性测量仪。
4.如权利要求3所述的双面卷对卷真空镀膜设备，其特征在于：该第二镀膜装置还包括一个位于所述第二镀膜机构的下游的光学检测仪。
5.如权利要求1所述的双面卷对卷真空镀膜设备，其特征在于：该第一滚轮单元还包括数个间隔的第一张力轮，所述第一张力轮分别位于该放料装置与该加热器之间、该加热器与该第一转轮之间，以及该第一转轮与该第二镀膜装置之间；该第二滚轮单元还包括数个间隔的第二张力轮，所述第二张力轮分别位于该第一镀膜装置与该第二转轮之间，以及该第二转轮与该收料装置之间。
6.如权利要求1所述的双面卷对卷真空镀膜设备，其特征在于：该加热器为一个红外线加热器。
7.如权利要求1所述的双面卷对卷真空镀膜设备，其特征在于：该第一镀膜装置还包括数个分别位于该第一清洁机构及该第一镀膜机构周围的第一隔板，该第二镀膜装置还包括数个分别位于该第二清洁机构及该第二镀膜机构周围的第二隔板。
8.如权利要求1所述的双面卷对卷真空镀膜设备，其特征在于：该第一清洁机构及该第二清洁机构皆为一个产生等离子体的等离子体系统。
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