CN207418855U - 一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统，包括真空室和均设置在真空室内的第一隔板、第一电极器、多个第一磁控靶、基材、用于控制基材运行的路径控制机构；路径控制机构包括沿着基材运行路径依次设置的放卷辊、第一检测辊、第一导辊、第一水冷鼓、第二导辊、第二检测辊、收卷辊；多个第一磁控靶以第一水冷鼓的轴线为中心线沿着圆周方向布置，带磁性的第一电极器设置在相邻的两个第一磁控靶之间，第一水冷鼓的两侧均设置一块第一隔板。卷绕镀膜系统能有效改善金属薄层的沉积质量，大幅度提升金属薄层和基材的结合力，属于基材镀膜的技术领域。

Description

一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统

技术领域

本实用新型涉及基材镀膜的技术领域，尤其涉及一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统。

背景技术

目前，磁控溅射柔性超薄覆铜板卷绕镀膜设备的离子处理都是采用线性离子源进行镀膜前处理，即在基材进行镀膜前采用线性离子源进行镀膜前处理，但是这样容易引起基材表面温度升高，引起基材表面起皱，且在镀膜过程中因基材放气，会导致膜层沉积质量变差，膜层结合力无法提高。

实用新型内容

针对现有技术中存在的技术问题，本实用新型的目的是：提供一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统，有效改善金属薄层的沉积质量，大幅度提升金属薄层和基材的结合力。

为了达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统，包括真空室和均设置在真空室内的第一隔板、第一电极器、多个第一磁控靶、基材、用于控制基材运行的路径控制机构；路径控制机构包括沿着基材运行路径依次设置的放卷辊、第一检测辊、第一导辊、第一水冷鼓、第二导辊、第二检测辊、收卷辊；多个第一磁控靶以第一水冷鼓的轴线为中心线沿着圆周方向布置，带磁性的第一电极器设置在相邻的两个第一磁控靶之间，第一水冷鼓的两侧均设置一块第一隔板；放卷辊、第一检测辊、第一导辊、第二导辊、第二检测辊、收卷辊均位于第一隔板的上方，第一电极器、第一磁控靶均位于第一隔板的下方。

进一步的是：第一磁控靶的数量有两个，两个第一磁控靶对称设置在真空室内；第一电极器的数量为一个，第一电极器位于第一水冷鼓的正下方。

进一步的是：第一电极器内设有磁铁，磁铁倾斜式地布置。

进一步的是：第一磁控靶为平面磁控靶或圆柱磁控靶。

进一步的是：放卷辊和收卷辊对称设置在真空室内，第一导辊和第二导辊对称设置在真空室内，第一检测辊和第二检测辊对称设置在真空室内。

进一步的是：所述的基材为聚酰亚胺薄膜或金属卷材。

进一步的是：真空室呈圆形或方形。

一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统，包括真空室和均设置在真空室内的隔板机构、第一电极器、第二电极器、多个第一磁控靶、多个第二磁控靶、基材、用于控制基材运行的路径控制机构；路径控制机构包括沿着基材运行路径依次设置的放卷辊、第一检测辊、第一导辊、第一水冷鼓、第二导辊、第三导辊、第二水冷鼓、第四导辊、第二检测辊、收卷辊；

至少两个以上的第一磁控靶以第一水冷鼓的轴线为中心线沿着圆周方向布置，至少两个以上的第二磁控靶以第二水冷鼓的轴线为中心线沿着圆周方向布置，带磁性的第一电极器设置在相邻的两个第一磁控靶之间，带磁性的第二电极器设置在相邻的两个第二磁控靶之间；

隔板机构包括第一隔板、第二隔板、第三隔板、第四隔板；第一隔板和第二隔板水平布置，第三隔板和第四隔板竖直布置，第一水冷鼓的两侧均设置一块第一隔板，第二水冷鼓的两侧均设置一块第二隔板，第一水冷鼓位于第三隔板的一侧，第二水冷鼓位于第三隔板的另一侧；放卷辊、第一检测辊、第一导辊、第二导辊均位于第一隔板的上方，第三导辊、第四导辊均位于第二隔板的下方，第一电极器、第一磁控靶均位于第一隔板的下方，第二电极器、第二磁控靶均位于第二隔板的上方，第三隔板设有用于基材穿过的缺口，一块第二隔板安装在第三隔板上，另一块第二隔板安装在第四隔板的下端。

进一步的是：第三隔板包括第三上隔板和第三下隔板，第三上隔板和第三下隔板形成一个用于基材穿过的缺口，一块第一隔板安装在第三下隔板上，一块第二隔板安装在第三上隔板上。

总的说来，本实用新型具有如下优点：

本实用新型的卷绕镀膜系统能使基材镀膜效果好，即基材与基材上面形成的金属薄层结合力好，第一电极器和第二电极器能吸除带负电的等离子体，具有清洗效果，减少基材上面的杂质，第一电极器和第二电极器内的磁铁能使从磁控靶出来的粒子正面碰撞到基材上面，因此可以加快卷绕的速度，大幅降低能源和磁控靶的能耗，通过调整电极器，还可以引导粒子的溅射角度，达到调整膜层均匀度的目的。

附图说明

图1是实施例1的结构示意原理图。

图2是实施例2的结构示意原理图。

图3是图2左半部分的放大图，即第一水冷鼓处的放大图。

图4是图2右半部分的放大图，即第二水冷鼓处的放大图。

具体实施方式

下面将结合附图和具体实施方式来对本实用新型做进一步详细的说明。

为了便于统一查看说明书附图里面的各个附图标记，现对说明书附图里出现的附图标记统一说明如下：

1为放卷辊，2为第一检测辊，3为第一导辊，4为第一水冷鼓，5为第二导辊，6为第二检测辊，7为收卷辊，8为第一隔板，9为真空室，10为第一磁控靶，11为第一电极器，12为基材，13为第三导辊，14为第二水冷鼓，15为第四导辊，16为第二隔板，17为第四隔板，18为第三上隔板，19为第三下隔板，20为第二磁控靶，21为第二电极器。

实施例1

为叙述方便，实施例1所说的上下左右方向与图1本身的上下左右方向一致。

结合图1所示，一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统，包括真空室和均设置在真空室内的第一隔板、第一电极器、多个第一磁控靶、基材、用于控制基材运行的路径控制机构。路径控制机构包括沿着基材运行路径依次设置的放卷辊、第一检测辊、第一导辊、第一水冷鼓、第二导辊、第二检测辊、收卷辊。多个第一磁控靶以第一水冷鼓的轴线为中心线沿着圆周方向布置；即多个第一磁控靶均匀布置在水冷鼓圆周表面的外侧的圆弧上；结合图1所示，即多个第一磁控靶沿着圆周方向布置，且多个第一磁控靶所在的圆弧对应的圆心在第一水冷鼓的圆心上。第一磁控靶和第一电极器距离第一水冷鼓的圆周表面有合适的距离。带磁性的第一电极器设置在相邻的两个第一磁控靶之间，本实施例中，第一磁控靶的数量有两个，两个第一磁控靶对称设置在真空室内；第一电极器的数量为一个，第一电极器位于第一水冷鼓的正下方，第一电极器为阳极型的，且必须是阳极型的。第一电极器内设有磁铁，磁铁倾斜式地布置，结合图1所示，磁铁合理地摆设，可以向左或向右倾斜。

第一水冷鼓的两侧(即图1中第一水冷鼓上部的左右两侧)均设置一块第一隔板。放卷辊、第一检测辊、第一导辊、第二导辊、第二检测辊、收卷辊均位于第一隔板的上方，第一电极器、第一磁控靶均位于第一隔板的下方。放卷辊和收卷辊对称设置在真空室内，第一导辊和第二导辊对称设置在真空室内，第一检测辊和第二检测辊对称设置在真空室内。放卷辊布置在真空室的左上部，收卷辊布置在真空室的右上部，第一检测辊布置在放卷辊的左下方，第二检测辊布置在收卷辊的右下方，第一导辊布置在放卷辊和第一水冷鼓之间，第二导辊布置在第一水冷鼓和收卷辊之间。放卷辊先放出基材，基材绕过第一检测辊，再绕过第一导辊，再穿过第一隔板和第一水冷鼓之间的缝隙从而绕入第一水冷鼓，再穿过第一隔板和第一水冷鼓之间的缝隙从而绕出水冷鼓，再绕过第二导辊，再绕过第二检测辊，再绕过第二导辊，最后由收卷辊收卷。基材贴着路径控制机构中每个部件的表面运行。路径控制机构起到了引导和控制基材运行的作用。第一检测辊和第二检测辊起到张力检测的作用，使得基材既不会过紧也不会过松；卷绕后的基材放在放卷辊时，相邻的两片基材之间会存在气体，每片基材上面也会有气孔，因此，基材在第一隔板上面运行的时候，会释放出一定量的气体，第一隔板可起到隔离作用，使得第一隔板下面的区域(即镀膜区域)保持更好的真空环境。

第一磁控靶为平面磁控靶、圆柱磁控靶或者其他磁控靶。

所述的基材为聚酰亚胺薄膜或金属卷材，聚酰亚胺薄膜，即PI膜。真空室呈圆形、方形或者其他形状。卷绕镀膜系统还设有抽真空机组，卷绕镀膜系统还可以放置在多个真空室组成的空间内。

本实施例的原理：基材沿着路径依次运行，启动第一磁控靶，第一磁控靶工作时，会产生等离子体，然后会造成金属粒子沉积在基材上面并形成金属薄层，从而实现在基材上面镀膜的效果。本实用新型的第一电极器是阳极型的，第一磁控靶产生的等离子体中有带正电的和带负电的，由于异性相吸的原理，阳极型的第一电极器会吸除等离子体中带负电的，从而达到清洗目的，因为带负电的等离子体如果沉积在基材上，带负电的等离子体会吸附杂质，从而降低结合力，而带正电的等离子体不会吸附杂质。第一电极器内的磁铁合理摆放时，即调整第一电极器上的磁场，使得从第一磁控靶出来的粒子正面碰撞在基材上面，粒子正面碰撞到基材上面，则基材上面形成的膜层质量就更好。

本实施例的基材镀膜效果好，基材与基材上面形成的金属薄层结合力好，第一电极器能吸除带负电的等离子体，具有清洗效果，减少基材上面的杂质，第一电极器内的磁铁能使从第一磁控靶出来的粒子正面碰撞到基材上面，因此可以加快卷绕的速度，大幅降低能源和第一磁控靶的能耗，通过调整第一电极器，还可以引导粒子的溅射角度，达到调整膜层均匀度的目的。

实施例2

为叙述方便，实施例2所说的上下左右方向与图1本身的上下左右方向一致。除以下技术特征外，其余未提交技术特征同实施例1。

本实施例也是一种卷绕镀膜系统，且是在实施例1的卷绕镀膜系统的基础上进行的改进，实施例1的卷绕镀膜系统只能对基材的一面进行镀膜，而本实施例的卷绕镀膜系统能对基材的正面和反面进行镀膜。具体详细介绍如下：

结合图2、图3、图4所示，一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统，包括真空室和均设置在真空室内的隔板机构、第一电极器、第二电极器、多个第一磁控靶、多个第二磁控靶、基材、用于控制基材运行的路径控制机构。路径控制机构包括沿着基材运行路径依次设置的放卷辊、第一检测辊、第一导辊、第一水冷鼓、第二导辊、第三导辊、第二水冷鼓、第四导辊、第二检测辊、收卷辊。以上部件名称前所增加的第一、第二、第三、第四仅仅是为了区别各个部件。

至少两个以上的第一磁控靶以第一水冷鼓的轴线为中心线沿着圆周方向布置，至少两个以上的第二磁控靶以第二水冷鼓的轴线为中心线沿着圆周方向布置。带磁性的第一电极器设置在相邻的两个第一磁控靶之间，带磁性的第二电极器设置在相邻的两个第二磁控靶之间。本实施例中，第一磁控靶的数量和第二磁控靶的数量均是两个，第一电极器的数量和第二电极器的数量均为一个。为了便于放置，可将第一水冷鼓和第二水冷鼓放置在同一高度上。第一磁控靶、第一电极器和第一水冷鼓的设置方式同实施例1；第二磁控靶和第二电极器的设置方式与第一磁控靶和第一电极器类似，只是第一磁控靶和第一电极器在第一水冷鼓的下方，第二磁控靶和第二电极器在第二水冷鼓的上方，这样能对基材的正面和反面进行镀膜。

隔板机构包括第一隔板、第二隔板、第三隔板、第四隔板；第一隔板和第二隔板水平布置，第三隔板和第四隔板竖直布置，第一水冷鼓的左右两侧均设置一块第一隔板，第二水冷鼓的左右两侧均设置一块第二隔板，第一水冷鼓位于第三隔板的一侧(左侧)，第二水冷鼓位于第三隔板的另一侧(右侧)。放卷辊、第一检测辊、第一导辊、第二导辊均位于第一隔板的上方；第三导辊、第四导辊均位于第二隔板的下方；第一电极器、第一磁控靶均位于第一隔板的下方；第二电极器、第二磁控靶均位于第二隔板的上方；放卷辊、第一检测辊、第一导辊、第一水冷鼓、第二导辊、第一电极器、第一磁控靶位于第三隔板的左边；第三导辊、第二水冷鼓、第四导辊、第二电极器、第二磁控靶位于第三隔板的右边。第三隔板设有用于基材穿过的缺口，本实施例中，第一隔板和第二隔板的数量均为两块，一块第二隔板(左边的第二隔板)安装在第三隔板上，另一块第二隔板(右边的第二隔板)安装在第四隔板的下端。

第三隔板包括第三上隔板和第三下隔板，第三上隔板和第三下隔板形成一个用于基材穿过的缺口，一块第一隔板(右边的第一隔板)安装在第三下隔板上，一块第二隔板(左边的第二隔板)安装在第三上隔板上。隔板机构的作用是：使得第一隔板下面的区域(即镀膜区域)保持更好的真空环境，使得第二隔板上面的区域(即镀膜区域)保持更好的真空环境。

本实施例卷绕镀膜系统的工作原理同实施例1，只是本实施例的卷绕镀膜系统能对基材的正面和反面进行镀膜。

上述实施例为本实用新型较佳的实施方式，但本实用新型的实施方式并不受上述实施例的限制，其他的任何未背离本实用新型的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统，其特征在于：包括真空室和均设置在真空室内的第一隔板、第一电极器、多个第一磁控靶、基材、用于控制基材运行的路径控制机构；路径控制机构包括沿着基材运行路径依次设置的放卷辊、第一检测辊、第一导辊、第一水冷鼓、第二导辊、第二检测辊、收卷辊；多个第一磁控靶以第一水冷鼓的轴线为中心线沿着圆周方向布置，带磁性的第一电极器设置在相邻的两个第一磁控靶之间，第一水冷鼓的两侧均设置一块第一隔板；放卷辊、第一检测辊、第一导辊、第二导辊、第二检测辊、收卷辊均位于第一隔板的上方，第一电极器、第一磁控靶均位于第一隔板的下方。

2.按照权利要求1所述的一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统，其特征在于：第一磁控靶的数量有两个，两个第一磁控靶对称设置在真空室内；第一电极器的数量为一个，第一电极器位于第一水冷鼓的正下方。

3.按照权利要求2所述的一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统，其特征在于：第一电极器内设有磁铁，磁铁倾斜式地布置。

4.按照权利要求1所述的一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统，其特征在于：第一磁控靶为平面磁控靶或圆柱磁控靶。

5.按照权利要求1所述的一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统，其特征在于：放卷辊和收卷辊对称设置在真空室内，第一导辊和第二导辊对称设置在真空室内，第一检测辊和第二检测辊对称设置在真空室内。

6.按照权利要求1所述的一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统，其特征在于：所述的基材为聚酰亚胺薄膜或金属卷材。

7.按照权利要求1所述的一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统，其特征在于：真空室呈圆形或方形。

8.一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统，其特征在于：包括真空室和均设置在真空室内的隔板机构、第一电极器、第二电极器、多个第一磁控靶、多个第二磁控靶、基材、用于控制基材运行的路径控制机构；路径控制机构包括沿着基材运行路径依次设置的放卷辊、第一检测辊、第一导辊、第一水冷鼓、第二导辊、第三导辊、第二水冷鼓、第四导辊、第二检测辊、收卷辊；

至少两个以上的第一磁控靶以第一水冷鼓的轴线为中心线沿着圆周方向布置，至少两个以上的第二磁控靶以第二水冷鼓的轴线为中心线沿着圆周方向布置，带磁性的第一电极器设置在相邻的两个第一磁控靶之间，带磁性的第二电极器设置在相邻的两个第二磁控靶之间；

隔板机构包括第一隔板、第二隔板、第三隔板、第四隔板；第一隔板和第二隔板水平布置，第三隔板和第四隔板竖直布置，第一水冷鼓的两侧均设置一块第一隔板，第二水冷鼓的两侧均设置一块第二隔板，第一水冷鼓位于第三隔板的一侧，第二水冷鼓位于第三隔板的另一侧；放卷辊、第一检测辊、第一导辊、第二导辊均位于第一隔板的上方，第三导辊、第四导辊均位于第二隔板的下方，第一电极器、第一磁控靶均位于第一隔板的下方，第二电极器、第二磁控靶均位于第二隔板的上方，第三隔板设有用于基材穿过的缺口，一块第二隔板安装在第三隔板上，另一块第二隔板安装在第四隔板的下端。

9.按照权利要求8所述的一种带磁性电极器的柔性覆铜板卷绕镀膜系统，其特征在于：第三隔板包括第三上隔板和第三下隔板，第三上隔板和第三下隔板形成一个用于基材穿过的缺口，一块第一隔板安装在第三下隔板上，一块第二隔板安装在第三上隔板上。