CN205115591U - 双水冷辊卷绕镀膜机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了双水冷辊卷绕镀膜机，其上溅射室和下溅射室各设有一个水冷辊，水冷辊之间设有一块横隔板，以及均与横隔板之间设有导辊，两个水冷辊均与张力检测辊之间设有导辊；上溅射室的水冷辊的右侧设有平面靶，下溅射室的水冷辊的左侧设有平面靶；基材从卷绕室的放卷辊开始依次通过下溅射室和上溅射室再回到卷绕室的收卷辊上。本实用新型能够充分冷却且溅射效率高。
Description
技术领域
本实用新型涉及镀膜机技术领域，具体涉及双水冷辊卷绕镀膜机。
背景技术
真空卷绕镀膜技术发展至今，已完全适应了现代工业生产的需要；传统的真空卷绕普通装饰镀膜不断发展，并衍生出了一系列专业性较强的真空卷绕功能膜镀制设备，真空卷绕镀膜技术的应用领域很多，在传统的包装镀膜行业应用最广，其产品主要用于装饰，彩印等。
应用磁控溅射原理的卷绕设备能够在基材上镀制ITO、SiO2、In、Cu、Ni、Ti等金属、非金属及其氧化物，ITO膜可以作为冷发光材料；在棉布表面镀上SiO2可制成防电磁辐射的防护服，镀透Ni的海绵烧制后可做镍氢电池，镀上Ti等多种材料的基材可做柔性显示器件。总之，真空卷绕镀膜技术发展至今，其应用领域越来越广，同样对真空卷绕镀膜设备的要求也越来越高。
真空卷绕镀膜设备的主要技术特征是：其一，被镀基材为柔性基材，即具有可卷绕性；其二，镀膜过程具有连续性，即在一个工作周期内镀膜是连续进行的；其三，镀膜过程始终在高真空环境中进行。
由以上特征可知：其基本结构必须有卷绕传动，有卷材(基材)的放卷和收卷，在放卷和收卷的过程中基材被镀上薄膜，镀膜部分就是真空卷绕镀膜设备的工作部，它位于基材的收放卷之间，工作部的工作原理磁控溅射镀膜。
随着社会的发展需要，被镀基材的厚度越来越薄，对于镀膜效率也要求越来越高，因此有必要针对这些要求开发出新的镀膜机。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了克服现有技术的缺点和不足，提供能够充分冷却且溅射效率高的双水冷辊卷绕镀膜机。
双水冷辊卷绕镀膜机，由纵隔板及其左侧的卷绕室、其右侧的上溅射室和下溅射室组成；所述卷绕室上下对应分别设置有收卷辊和放卷辊，所述收卷辊右上方设置有与导辊相连接的张力检测辊，收卷辊下方的放卷辊的右下方设置有与导辊相连接的张力检测辊，所述放卷辊右方设有两个上下垂直设置的导辊；所述上溅射室和下溅射室各设有一个水冷辊，所述水冷辊之间设有一块横隔板，以及均与横隔板之间设有导辊，两个水冷辊均与张力检测辊之间设有导辊；所述上溅射室的水冷辊的右侧设有平面靶，所述下溅射室的水冷辊的左侧设有平面靶；基材从卷绕室的放卷辊开始依次通过下溅射室和上溅射室再回到卷绕室的收卷辊上。
进一步的，所述平面靶由八个靶面。
进一步的，所述靶面采用大功率平面磁控靶。
本实用新型的有益效果是：
1.冷却充分：基材在通过溅射镀膜区域时与水冷镀膜辊完全贴合，水冷镀膜辊里面的冷却水温度可达到-15℃，有效降低了通过溅射区域时基材表面的温度，大幅减少了基材因靶溅射的高温产生的变形、烧焦等现象。
2.实现单/双面镀：溅射室分为上下两个区域，两个区域各有1个水冷辊，四个靶，通过不同绕法可实现基材单或双面镀膜，单/双面镀制同种材料膜层或不同材料的膜层。
3.采用大功率溅射靶，大幅提高了溅射效率：因基材冷却充分，靶溅射时基材被镀表面产生的高温被水冷镀膜辊中的冷却水带走，基材因靶溅射的高温产生的变形、烧焦等现象大幅减少，使得基材被镀表面能承受的溅射功率大幅增加，才有了采用大功率溅射靶的可能，采用大功率溅射靶，大幅提高基材单位面积膜层的沉积速率，在相同膜层厚度的要求下，基材的卷绕行走速度得到大幅提高，从而大幅提高了溅射效率。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图；
图2是本实用新型的立体图。
附图中：111、收卷辊，112、放卷辊，121、导辊，122、张力检测辊，211、纵隔板，212、横隔板，221、基材，231、水冷辊，232、平面靶。
具体实施方式
下面结合实施例对本实用新型的具体实施方式作进一步详细说明：
如图1、图2所示，双水冷辊卷绕镀膜机为双面镀膜，由纵隔板211及其左侧的卷绕室、其右侧的上溅射室和下溅射室组成；卷绕室上下对应分别设置有收卷辊111和放卷辊112，收卷辊111右上方设置有与导辊121相连接的张力检测辊122，收卷辊111下方的放卷辊112的右下方设置有与导辊121相连接的张力检测辊122，放卷辊112右方设有两个上下垂直设置的导辊121；上溅射室和下溅射室各设有一个水冷辊231，水冷辊231之间设有一块横隔板212，以及均与横隔板212之间设有一个导辊121，两个水冷辊231均与张力检测辊122之间设有一个导辊121；上溅射室的水冷辊231的右侧设有平面靶232，下溅射室的水冷辊231的左侧设有平面靶232，平面靶232由八个靶面，靶面采用大功率平面磁控靶；基材从卷绕室的放卷辊112开始依次通过下溅射室和上溅射室再回到卷绕室的收卷辊111上。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应当视为在本实用新型的保护范围之内。
Claims (3)
1.双水冷辊卷绕镀膜机，由纵隔板及其左侧的卷绕室、其右侧的上溅射室和下溅射室组成，其特征在于，所述卷绕室上下对应分别设置有收卷辊和放卷辊，所述收卷辊右上方设置有与导辊相连接的张力检测辊，收卷辊下方的放卷辊的右下方设置有与导辊相连接的张力检测辊，所述放卷辊右方设有两个上下垂直设置的导辊；所述上溅射室和下溅射室各设有一个水冷辊，所述水冷辊之间设有一块横隔板，以及均与横隔板之间设有导辊，两个水冷辊均与张力检测辊之间设有导辊：所述上溅射室的水冷辊的右侧设有平面靶，所述下溅射室的水冷辊的左侧设有平面靶；基材从卷绕室的放卷辊开始依次通过下溅射室和上溅射室再回到卷绕室的收卷辊上。
2.根据权利要求1所述的双水冷辊卷绕镀膜机，其特征在于，所述平面靶由八个靶面。
3.根据权利要求2所述的双水冷辊卷绕镀膜机，其特征在于，所述靶面采用大功率平面磁控靶。
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