JP2004212964A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ゲートパッド部及びデータパッド部の絶縁層をエッチングしない状態でマスク工程を完了し、上部及び下部基板を合着後ゲートパッド部及びデータパッド部の絶縁層をエッチングする方法を利用して3マスク工程により液晶表示装置を製造する。
【選択図】図6c
Description
非晶質シリコン層と不純物非晶質シリコン層が上記データ配線及びデータパッド下部に形成されることができる。
--第1の実施の形態--
図6a乃至6cは、本発明の第1の実施の形態に従う液晶表示装置用アレー基板の平面図であり、図7a乃至7h、図8a乃至8h、図9a乃至9hは、本発明の第1の実施の形態に従う液晶表示装置用アレー基板の製造方法を図示した断面図である。
本実施の形態は、上記第1の実施の形態と基本的な工程順序は同一であるが、上記第1の実施の形態では比抵抗値が低い金属物質を下部層にし、透明導電性物質を上部層にする二重層構造でゲートパターン(ゲート配線、ゲート電極、第1キャパシタ電極、ゲートパッド)を形成したが、本実施の形態ではゲートパターンをなす物質を単一層で構成するのを特徴とする。上記単一層金属物質は比抵抗値が低い金属物質から選択されるのが望ましい。
本実施の形態は、上記第1の実施の形態と同一な工程を適用するが、第3マスク工程中データ配線及びソース電極を覆う領域上の透明導電層パターンを省略する実施の形態で、例えば透明導電層パターン化工程を湿式エッチング法により行う場合、透明導電層用エッチング剤がデータパターンに影響を及ぼさない条件を前提にする。
本実施の形態では、上記第1の実施の形態とは異なり、データ配線344及びソース電極334領域には別途の画素電極と同一物質で構成された透明導電層パターンを含まないのを特徴とする。
本実施の形態は、上記第1の実施の形態に従う製造工程を適用するが、第2マスク工程でストレージキャパシタ部には別途のPRパターンを形成しないので、別途のキャパシタ電極なしにゲート配線と画素電極が重畳される領域がストレージキャパシタをなすのを特徴とする実施の形態である。
本実施の形態は別途の回折露光工程が含まれない3マスク液晶表示装置用アレー基板の製造工程に対するものである。
図26a乃至26c、図27a乃至27c、及び図28a乃至28cは本発明の第6の実施の形態に従う液晶表示装置用アレー基板の製造方法を図示した断面図である。
上記第3PRパターン626cは上記ゲートパッド616の中央部と対応された位置にオープン部を有する。
図29a乃至29f、図30a乃至30f、図31a乃至31fは本発明の第7実施の形態に従う液晶表示装置用アレー基板の製造工程を段階別に示した断面図である。
図32a乃至32g、図33a乃至33g、図34a乃至34gは本発明の第8の実施の形態に従う液晶表示装置用アレー基板の製造工程を段階別に示した断面図である。
Claims (35)
- 第1基板上に第1マスク工程を通じてゲート配線とゲート電極、ゲートパッドを形成する段階と;
上記ゲート配線、ゲート電極、ゲートパッドを含む上記第1基板上に第2マスク工程を通じてデータ配線、データパッド、ソース電極、ドレイン電極及びアクティブ層を形成する段階と;
上記データ配線とデータパッド、ソース電極及びドレイン電極を含む第1基板上に第3マスク工程を通じて画素電極とデータパッドターミナルを形成する段階と;
上記画素電極とデータパッドターミナルを含む第1基板の全面に保護膜を形成する段階と;
上記ゲートパッドを有するゲートパッド部と上記データパッドを有するデータパッド部を現わすように上記保護膜を含む第1基板を第2基板と合着する段階と;
上記第1基板と第2基板の間に液晶物質を注入させる段階と;
上記露出されたゲートパッド部とデータパッド部の保護膜を除去する段階と
を含む液晶表示装置の製造方法。 - 上記ゲートパッド部とデータパッド部の保護膜を除去する段階は、上記液晶表示装置をエッチング液に入れるディッピング方式により行われる
請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記保護膜はシリコン窒化膜とシリコン酸化膜中いずれか一つで形成される
請求項2記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記エッチング液は弗酸(HF)を含む
請求項3記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記第2マスク工程は、
上記ゲート配線とゲート電極及びゲートパッドを含む第1基板上にゲート絶縁膜を形成する段階と;
上記ゲート絶縁膜上に非晶質シリコン層、不純物非晶質シリコン層及び金属層を形成する段階と;
上記金属層上部に第1厚さと上記第1厚さより薄い第2厚さをもつホトレジストパターンを形成する段階と;
上記ホトレジストパターンにしたがい上記金属層と上記不純物非晶質シリコン層及び非晶質シリコン層を選択的にエッチングする段階と;
上記第2厚さを有するホトレジストパターンを除去する段階と;
上記第2厚さを有するホトレジストパターンを除去して露出された上記金属層を選択的にエッチングする段階と;
残っている上記ホトレジストパターンを除去する段階と
を含む請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記第3マスク工程は上記第2厚さを有するホトレジストパターンを除去して露出された上記金属層を選択的にエッチングすることで露出された上記不純物非晶質シリコン層を選択的に除去する段階を含む
請求項5記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記第2マスク工程は上記ゲート絶縁膜を選択的に除去する段階を更に含む
請求項5記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記第3マスク工程は上記データ配線とソース電極を覆うデータバッファパターンを形成する段階を含む
請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記ゲート配線とゲート電極及びゲートパッドはアルミニウムで構成される
請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記ゲート配線とゲート電極及びゲートパッドは透明導電物質層を更に含む
請求項9記載の液晶表示装置の製造方法。 - 非晶質シリコン層と不純物非晶質シリコン層が上記データ配線及びデータパッド下部に形成される
請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記第2マスク工程は上記ゲート配線上部にキャパシタ電極を形成する段階を含む
請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記画素電極は上記キャパシタキャパシタ電極と接触し、上記キャパシタ電極は上記ゲート配線と共にストレージキャパシタを形成する
請求項12記載の液晶表示装置の製造方法。 - 非晶質シリコン層と不純物非晶質シリコン層が上記キャパシタ電極下部に形成される
請求項12記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記第2マスク工程は上記ゲートパッド上部に位置し上記ゲートパッドの中央部に対応するパッドオープン部を有するゲートパッドバッファパターンを形成する段階を含む
請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。 - 非晶質シリコン層と不純物非晶質シリコン層が上記ゲートパッドバッファパターン下部に形成される
請求項15記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記第3マスク工程は上記パッドオープン部を通じて上記ゲートパッドと連結されるゲートパッドターミナルを形成する段階を含む
請求項16記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記第2マスク工程はスリットマスクを利用する
請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記第2マスク工程はハーフトーンマスクを利用する
請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。 - 第1基板上に第1マスク工程を通じてゲート配線とゲート電極、ゲートパッドを形成する段階と;
上記ゲート配線、ゲート電極、ゲートパッドを含む上記第1基板上に第2マスク工程を通じてデータ配線と、データパッド、ソース/ドレインパターン及びアクティブ層を形成する段階と;
上記データ配線とデータパッド、ソース/ドレインパターンを含む第1基板上に第3マスク工程を通じて画素電極とデータバッファパターン及びデータパッドターミナルを形成し、上記画素電極とデータバッファパターンをマスクにし上記ソース/ドレインパターンをパターン化してソース及びドレイン電極を形成する段階と;
上記画素電極とデータバッファパターン及びデータパッドターミナルを含む第1基板の全面に保護膜を形成する段階と;
上記ゲートパッドを有するゲートパッド部と上記データパッドを有するデータパッド部を現わすように上記保護膜を含む第1基板を第2基板と合着する段階と;
上記第1基板と第2基板の間に液晶物質を注入する段階と;
上記露出されたゲートパッド部とデータパッド部の保護膜を除去する段階と
を含む液晶表示装置の製造方法。 - 上記ゲートパッド部とデータパッド部の保護膜を除去する段階は上記液晶表示装置をエッチング液に入れるディッピング方式により行われる
請求項20記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記保護膜はシリコン窒化膜とシリコン酸化膜中いずれか一つで形成される
請求項21記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記エッチング液は弗酸を含む
請求項22記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記第2マスク工程は、
上記ゲート配線とゲート電極及びゲートパッドを含む第1基板上にゲート絶縁膜を形成する段階と;
上記ゲート絶縁膜上に非晶質シリコン層、不純物非晶質シリコン層及び金属層を形成する段階と;
上記金属層上部にホトレジストパターンを形成する段階と;
上記ホトレジストパターンに従い上記金属層と上記不純物非晶質シリコン層及び非晶質シリコン層を選択的にエッチングする段階と;
そして残っている上記ホトレジストパターンを除去する段階を含む
請求項20記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記第3マスク工程は上記ソース電極とドレイン電極をマスクにして上記不純物非晶質シリコン層を選択的に除去する段階を含む
請求項24記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記第2マスク工程は上記ゲート絶縁膜を選択的に除去する段階を更に含む
請求項24記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記ゲート配線とゲート電極及びゲートパッドはアルミニウムで構成される
請求項20記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記ゲート配線とゲート電極及びゲートパッドは透明導電物質層を更に含む
請求項27記載の液晶表示装置の製造方法。 - 非晶質シリコン層と不純物非晶質シリコン層が上記データ配線及びデータパッド下部に形成される
請求項20記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記第2マスク工程は上記ゲート配線上部にキャパシタ電極を形成する段階を含む
請求項20記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記画素電極は上記キャパシタ電極と接触し、上記キャパシタ電極は上記ゲート配線と共にストレージキャパシタを形成する
請求項30記載の液晶表示装置の製造方法。 - 非晶質シリコン層と不純物非晶質シリコン層が上記キャパシタ電極下部に形成される
請求項30記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記第2マスク工程は上記ゲートパッド上部に位置し上記ゲートパッドの中央部に対応するパッドオープン部を有するゲートパッドバッファパターンを形成する段階を含む
請求項20記載の液晶表示装置の製造方法。 - 非晶質シリコン層と不純物非晶質シリコン層が上記ゲートパッドバッファパターン下部に形成される
請求項33記載の液晶表示装置の製造方法。 - 上記第3マスク工程は上記パッドオープン部を通じて上記ゲートパッドと連結されるゲートパッドターミナルを形成する段階を含む
請求項33記載の液晶表示装置の製造方法。
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