JP2004143055A - フッ素化ケトン化合物およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】炭化水素系やフッ素系ポリマー中に含まれる芳香族環に、耐酸化性を維持しつつ、高温でも可逆的に脱離しないスルホン酸基、ホスホン酸基、カルボン酸基、ベンツイミダゾール基、イミダゾール基、ピラゾール基、ベンゾピラゾール基等の官能基を導入できる高分子反応試薬の提供。
【解決手段】一般式(XCF2CFY)2COで示されるフッ素化ケトン化合物
【化1】
【解決手段】一般式(XCF2CFY)2COで示されるフッ素化ケトン化合物
【化1】
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気自動車用、熱電併給用、携帯機器用等の固体高分子型燃料電池に用いられる高分子電解質膜を製造するのに有用な、フッ素化ケトン化合物およびその製造方法に関する。
【0002】
【技術的背景】
従来、固体高分子型燃料電池の性能を支配する高分子電解質膜としては、式(1)で示されるパ−フロロスルホン酸膜が用いられてきた。
【化3】
この膜は、テトラフロロエチレンと式(2)のパ−フロロビニルエ−テルモノマーを共重合し、得られたポリマーを25−100μに押し出し成膜後、加水分解して製造されるが、側鎖が長いためイオン交換容量が1(meq/g−乾燥樹脂)以下となり、プロトン伝導性の面で充分では無い。
【化4】
また、非特許文献1の32−33ページに記載されているように、式(2)のモノマーの合成には多段工程が必要であり、式(1)で示されるパーフロロスルホン酸膜の価格は極めて高価である。
【0003】
こうした欠点を克服するため、非特許文献1の94ページに例示されているように、炭化水素系であるSt−DVB架橋ポリマーやPES、PEEK、PPS等の芳香族系縮合ポリマーの膜状物をconcH2SO4、ClSO3H、SO3等のスルホン化剤と反応させ、ポリマー中に含まれる芳香族環にスルホン酸基を導入することが、試みられている。しかしながら、非特許文献1の30ページに述べられているように、芳香族環のスルホン化は可逆反応であり、燃料電池運転時、高分子電解質膜の内部に存在するプロトンが芳香族環を攻撃する親電子置換反応により、長期的にはスルホン酸基が脱離してしまうという致命的な欠点がある。この現象は、燃料電池のエネルギー効率が高くなる高温領域程起こり易いため、炭化水素系高分子電解質膜を実用化する上で大きな障害となっている。また上記のスルホン化剤は、スルホン架橋やポリマーの分解等の副反応を生じ易い問題もある。
これらの問題に対処するため、非特許文献1の98ページに述べられているように、アルキルスルトン化合物を用いてアルキルスルホン化する方法も試みられているが、燃料電池用の高分子電解質膜に必要な耐酸化性が、芳香族環よりも酸化に弱いメチレン基の導入により低下してしまう欠点がある上、基質のポリマー側に、スルトン環を攻撃するアニオンを形成する必要があるので、適用範囲が限られている。
【0004】
一方、非特許文献2には、下記の反応式で合成されるフッ素化ケトン化合物と架橋ポリスチレンとの反応が記載されている。
【化5】
しかしながら、上記の合成反応には一般性がないため、スルホン酸基以外の官能基を有するフッ素化ケトン化合物を合成することは不可能である上、該ケトン化合物中に1単位のスルホン酸基しか含まれていない。また架橋ポリスチレンとの反応は、粒状樹脂の表面にスルホン酸基が結合したと記載されているのみであり、十分確認されたとは言えない。
【0005】
なお、本願発明者らが出願した特許文献1、特許文献2には、次ぎに示すフッ素化ケトン化合物が開示されている。
【化6】
しかしながら、特許文献1,2に開示されている官能基変換方法を適用すると、ケトンはジオールに変化してしまう。この反応は、次の反応式で示すように、フッ素化ケトン化合物のスルフィド基は、塩素でスルフェニルクロライド基に変えられ、次に塩素水でスルホニルクロライド基に変換されるが、同時に、ケトンに水が付加してジオールに変化してしまう。
【化7】
従って、特許文献1,2の発明時には、フッ素化ケトン化合物の使用を、全く意識していなかったのである。
【0006】
また、次ぎの反応式で得られるフッ素化ケトン化合物を、カルボン酸基の導入には用いることができるが、他のイオン交換基には適用できない。
【化8】
【0007】
【非特許文献1】
「固体高分子型燃料電池用イオン交換膜の開発」(木本監修、CMC出版、2000)
【非特許文献2】
J.Org.Chem.,Vol.44,4924−4929(1979)
【特許文献1】
U.S.P.4,329,434
【特許文献2】
U.S.P.4,329,435
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、炭化水素系やフッ素系ポリマー中に含まれる芳香族環に、スルホン酸基、ホスホン酸基、カルボン酸基、ベンツイミダゾール基、イミダゾール基、ピラゾール基、ベンゾピラゾール基等の官能基を導入でき、燃料電池の高分子電解質膜として用いた場合、これらの官能基が高温でも可逆的に脱離せず、耐酸化性を保つような高分子反応試薬を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明は、一般式(XCF2CFY)2COで示されるフッ素化ケトン化合物である。
【化9】
また、上記のフッ素化ケトン化合物を、アルカリ金属塩QM、フッ素化オレフィンCF2=CFYおよびカルボニル化合物COW2を反応させて製造する方法も本発明である。
【化10】
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明のフッ素化ケトン化合物は、一般式(XCF2CFY)2COで示されるものである。
【化11】
このフッ素化ケトン化合物は、炭化水素系やフッ素系ポリマー中に含まれる芳香族環に、例えば下に示すような高分子反応により、スルホン酸基、ホスホン酸基、カルボン酸基、ベンツイミダゾール基、イミダゾール基、ピラゾール基、ベンゾピラゾール基等の官能基を導入することができる。ここで、ポリマー中の芳香族環にエーテル結合等の電子供与性基が結合している方が、スルホン結合やケトン結合等の電子吸引性基が結合している場合よりも反応速度が大きくなる。
【化12】
上記の高分子反応は、非プロトン性極性溶媒やハロゲン化炭化水素溶媒等を用い、トリフロロメタンスルホン酸等の酸触媒を添加して、一般に0−100℃の反応温度で行われる。反応後、XがSO2Zの場合はアルカリで加水分解してスルホン酸基に変換し、XがPO(OR)2,CNの場合は、酸で加水分解して、それぞれ、ホスホン酸基、カルボン酸基に変えることができる。また、Xがベンツイミダゾール基、イミダゾール基、ピラゾール基、ベンゾピラゾール基の場合は、そのまま塩基性官能基として使用できる。
なお、本発明のフッ素化ケトン化合物では、反応性およびコストの面から、Y=F又はClが好ましく、Y=Fが特に好ましい。
【0011】
本発明のフッ素化ケトン化合物は、従来のスルホン化剤と異なり、2単位のスルホン酸基と1単位の水酸基を同時に導入でき、イオン交換容量を高める上で有利である。また、従来のものでは、スルホン化率が高くなるとポリマーが水溶性となってしまうが、本発明の化合物では、イオン交換基の導入と同時に、疎水性のフッ素化アルキル基が導入されるので、こうした傾向が抑制される。イオン交換基が結合しているフッ素化アルキル基は耐酸化性であり、また親電子置換反応を生じないので,高温でもイオン交換基が脱離しない。更に、本発明のフッ素化ケトン化合物は、高分子反応時は不活性な−CF2SO2Zの形なので、スルホン架橋やポリマーの分解等の副反応を生じない。
【0012】
本発明のフッ素化ケトン化合物は、アルカリ金属塩QM、フッ素化オレフィンCF2=CFYおよびカルボニル化合物COW2を、次ぎのように反応させることで製造される。反応は非プロトン性極性溶媒中で、一般にフッ素化オレフィンの圧力0−10kg/cm2、反応温度0−60℃の条件で行われる。
【化13】
ここでQ=R’Sの場合は、官能基変換反応でX=SO2Zに変換することができる。この反応は、次の反応式で示すように、フッ素化ケトン化合物のスルフイド基を塩素でスルフェニルクロライド基に変え、次にオゾンと空気の混合ガスで、スルホニルクロライド基に変える。さらに、必要によりKFで、スルホニルフロライド基に変換することができる。それ以外の場合は、Q=Xである。
【化14】
【0013】
【実施例】
次に実施例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(A)1000ccのステンレス製オ−トクレ−ブに、ナトリウムエチルメルカプチド200gとジメチルカーボネート90gおよびテトラヒドロフラン300ccを入れた後、反応系を40−60mmHgの減圧にした。反応系を激しく攪拌しながら、温度を10−30℃に維持しつつテトラフロロエチレンを減圧下で徐々に吹き込んだ。反応の進行と共にテトラフロロエチレンの消費速度は低下し、最終的にはテトラフロロエチレンの圧力が1.1−1.3kg/cm2のところで、テトラフロロエチレンの消費は停止した。反応終了後、反応混合物に塩酸ガスを吹き込み中和した。生成した食塩をロ別し、ロ液からエバポレーターを用いてテトラヒドロフランとメタノールを除去した後、残渣を減圧蒸留して主留分172gを得た。該留分の構造は、IR、NMRにより(C2H5SCF2CF2)2COであることが確認された。
IR
C2H5−:3000−2900cm−1,−CO−:1810cm−1,−CF2−:1300−1100cm−1
NMR(CFCl3内部標準)
−CO−CF2− : −120ppm、C2H5S−CF2−:−93ppm
(B)前記(A)によって得られた(C2H5SCF2CF2)2CO 350gを、塩化スルフリル200ccに400cc/分の塩素ガスを通じている反応器へ、激しく攪拌しつつ室温で約2時間にわたり滴下をした。滴下終了後更に10時間攪拌をしながら反応させた後減圧蒸留し、主留分254gを得た。その構造は、IR、NMRにより、(ClSCF2CF2)2COであることが確認された。
IR
−CO−:1810cm−1,−CF2−:1300−1100cm−1
NMR(CFCl3内部標準)
−CO−CF2−:−120ppm,ClS−CF2−:−98ppm
(C)塩化スルフリル300ccと、前記(B)で得られたスルフェニルクロライド化合物360gを混合した溶液に、20%のオゾンを含む空気を500cc/分の流量で、激しく攪拌しながら吹き込んだ。30時間反応せしめた後、反応混合物を減圧蒸留し、主留分298gを得た。その構造は、IR、NMR、元素分析により、(ClSO2CF2CF2)2COであることが確認された。
IR
−CO−:1810cm−1,−SO2Cl:1415cm−1,−CF2−:1300−1100cm−1
NMR(CFCl3内部標準)
−CO−CF2−:−118ppm,ClSO2−CF2−:−115ppm
元素分析 C5F8O5S2Cl2
計算値 C:14.1、F:35.6、S:15.0、Cl:16.6
分析値 C:13.7、F:36.1、S:14.8、Cl:16.1
【0014】
[使用例]
ポリエーテルサルホン樹脂10gを、ジクロロメタン100gに溶解し、実施例の(C)で得られた、(ClSO2CF2CF2)2CO 5gとCF3SO3H 0.1gを加えて、マイクロボンベ中で、80℃で一晩反応させた。反応終了後、ガラス板に溶液をキャスティングして溶媒を飛ばし、得られた膜をアセトンで洗浄後、透過IRを測定した所、−SO2Cl:1415cm−1、−CF2−:1300−1100cm−1、−OH:3500cm−1の吸収が認められ、ポリエーテルサルホンの芳香族環に、上記のケトン化合物が付加していることが確認された。
【0015】
【発明の効果】
本発明においては、一般式(XCF2CFY)2COで示されるフッ素化ケトン化合物、およびアルカリ金属塩QM、フッ素化オレフィンCF2=CFYおよびカルボニル化合物COW2を反応させることを特徴とする該ケトン化合物の製造方法が提供される。本発明のフッ素化ケトン化合物を用いることで、炭化水素系やフッ素系ポリマー中に含まれる芳香族環に、スルホン酸基、ホスホン酸基、カルボン酸基、ベンツイミダゾール基、イミダゾール基、ピラゾール基、ベンゾピラゾール基等の官能基を、高分子反応により導入することができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気自動車用、熱電併給用、携帯機器用等の固体高分子型燃料電池に用いられる高分子電解質膜を製造するのに有用な、フッ素化ケトン化合物およびその製造方法に関する。
【0002】
【技術的背景】
従来、固体高分子型燃料電池の性能を支配する高分子電解質膜としては、式(1)で示されるパ−フロロスルホン酸膜が用いられてきた。
【化3】
この膜は、テトラフロロエチレンと式(2)のパ−フロロビニルエ−テルモノマーを共重合し、得られたポリマーを25−100μに押し出し成膜後、加水分解して製造されるが、側鎖が長いためイオン交換容量が1(meq/g−乾燥樹脂)以下となり、プロトン伝導性の面で充分では無い。
【化4】
また、非特許文献1の32−33ページに記載されているように、式(2)のモノマーの合成には多段工程が必要であり、式(1)で示されるパーフロロスルホン酸膜の価格は極めて高価である。
【0003】
こうした欠点を克服するため、非特許文献1の94ページに例示されているように、炭化水素系であるSt−DVB架橋ポリマーやPES、PEEK、PPS等の芳香族系縮合ポリマーの膜状物をconcH2SO4、ClSO3H、SO3等のスルホン化剤と反応させ、ポリマー中に含まれる芳香族環にスルホン酸基を導入することが、試みられている。しかしながら、非特許文献1の30ページに述べられているように、芳香族環のスルホン化は可逆反応であり、燃料電池運転時、高分子電解質膜の内部に存在するプロトンが芳香族環を攻撃する親電子置換反応により、長期的にはスルホン酸基が脱離してしまうという致命的な欠点がある。この現象は、燃料電池のエネルギー効率が高くなる高温領域程起こり易いため、炭化水素系高分子電解質膜を実用化する上で大きな障害となっている。また上記のスルホン化剤は、スルホン架橋やポリマーの分解等の副反応を生じ易い問題もある。
これらの問題に対処するため、非特許文献1の98ページに述べられているように、アルキルスルトン化合物を用いてアルキルスルホン化する方法も試みられているが、燃料電池用の高分子電解質膜に必要な耐酸化性が、芳香族環よりも酸化に弱いメチレン基の導入により低下してしまう欠点がある上、基質のポリマー側に、スルトン環を攻撃するアニオンを形成する必要があるので、適用範囲が限られている。
【0004】
一方、非特許文献2には、下記の反応式で合成されるフッ素化ケトン化合物と架橋ポリスチレンとの反応が記載されている。
【化5】
しかしながら、上記の合成反応には一般性がないため、スルホン酸基以外の官能基を有するフッ素化ケトン化合物を合成することは不可能である上、該ケトン化合物中に1単位のスルホン酸基しか含まれていない。また架橋ポリスチレンとの反応は、粒状樹脂の表面にスルホン酸基が結合したと記載されているのみであり、十分確認されたとは言えない。
【0005】
なお、本願発明者らが出願した特許文献1、特許文献2には、次ぎに示すフッ素化ケトン化合物が開示されている。
【化6】
しかしながら、特許文献1,2に開示されている官能基変換方法を適用すると、ケトンはジオールに変化してしまう。この反応は、次の反応式で示すように、フッ素化ケトン化合物のスルフィド基は、塩素でスルフェニルクロライド基に変えられ、次に塩素水でスルホニルクロライド基に変換されるが、同時に、ケトンに水が付加してジオールに変化してしまう。
【化7】
従って、特許文献1,2の発明時には、フッ素化ケトン化合物の使用を、全く意識していなかったのである。
【0006】
また、次ぎの反応式で得られるフッ素化ケトン化合物を、カルボン酸基の導入には用いることができるが、他のイオン交換基には適用できない。
【化8】
【0007】
【非特許文献1】
「固体高分子型燃料電池用イオン交換膜の開発」(木本監修、CMC出版、2000)
【非特許文献2】
J.Org.Chem.,Vol.44,4924−4929(1979)
【特許文献1】
U.S.P.4,329,434
【特許文献2】
U.S.P.4,329,435
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、炭化水素系やフッ素系ポリマー中に含まれる芳香族環に、スルホン酸基、ホスホン酸基、カルボン酸基、ベンツイミダゾール基、イミダゾール基、ピラゾール基、ベンゾピラゾール基等の官能基を導入でき、燃料電池の高分子電解質膜として用いた場合、これらの官能基が高温でも可逆的に脱離せず、耐酸化性を保つような高分子反応試薬を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明は、一般式(XCF2CFY)2COで示されるフッ素化ケトン化合物である。
【化9】
また、上記のフッ素化ケトン化合物を、アルカリ金属塩QM、フッ素化オレフィンCF2=CFYおよびカルボニル化合物COW2を反応させて製造する方法も本発明である。
【化10】
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明のフッ素化ケトン化合物は、一般式(XCF2CFY)2COで示されるものである。
【化11】
このフッ素化ケトン化合物は、炭化水素系やフッ素系ポリマー中に含まれる芳香族環に、例えば下に示すような高分子反応により、スルホン酸基、ホスホン酸基、カルボン酸基、ベンツイミダゾール基、イミダゾール基、ピラゾール基、ベンゾピラゾール基等の官能基を導入することができる。ここで、ポリマー中の芳香族環にエーテル結合等の電子供与性基が結合している方が、スルホン結合やケトン結合等の電子吸引性基が結合している場合よりも反応速度が大きくなる。
【化12】
上記の高分子反応は、非プロトン性極性溶媒やハロゲン化炭化水素溶媒等を用い、トリフロロメタンスルホン酸等の酸触媒を添加して、一般に0−100℃の反応温度で行われる。反応後、XがSO2Zの場合はアルカリで加水分解してスルホン酸基に変換し、XがPO(OR)2,CNの場合は、酸で加水分解して、それぞれ、ホスホン酸基、カルボン酸基に変えることができる。また、Xがベンツイミダゾール基、イミダゾール基、ピラゾール基、ベンゾピラゾール基の場合は、そのまま塩基性官能基として使用できる。
なお、本発明のフッ素化ケトン化合物では、反応性およびコストの面から、Y=F又はClが好ましく、Y=Fが特に好ましい。
【0011】
本発明のフッ素化ケトン化合物は、従来のスルホン化剤と異なり、2単位のスルホン酸基と1単位の水酸基を同時に導入でき、イオン交換容量を高める上で有利である。また、従来のものでは、スルホン化率が高くなるとポリマーが水溶性となってしまうが、本発明の化合物では、イオン交換基の導入と同時に、疎水性のフッ素化アルキル基が導入されるので、こうした傾向が抑制される。イオン交換基が結合しているフッ素化アルキル基は耐酸化性であり、また親電子置換反応を生じないので,高温でもイオン交換基が脱離しない。更に、本発明のフッ素化ケトン化合物は、高分子反応時は不活性な−CF2SO2Zの形なので、スルホン架橋やポリマーの分解等の副反応を生じない。
【0012】
本発明のフッ素化ケトン化合物は、アルカリ金属塩QM、フッ素化オレフィンCF2=CFYおよびカルボニル化合物COW2を、次ぎのように反応させることで製造される。反応は非プロトン性極性溶媒中で、一般にフッ素化オレフィンの圧力0−10kg/cm2、反応温度0−60℃の条件で行われる。
【化13】
ここでQ=R’Sの場合は、官能基変換反応でX=SO2Zに変換することができる。この反応は、次の反応式で示すように、フッ素化ケトン化合物のスルフイド基を塩素でスルフェニルクロライド基に変え、次にオゾンと空気の混合ガスで、スルホニルクロライド基に変える。さらに、必要によりKFで、スルホニルフロライド基に変換することができる。それ以外の場合は、Q=Xである。
【化14】
【0013】
【実施例】
次に実施例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(A)1000ccのステンレス製オ−トクレ−ブに、ナトリウムエチルメルカプチド200gとジメチルカーボネート90gおよびテトラヒドロフラン300ccを入れた後、反応系を40−60mmHgの減圧にした。反応系を激しく攪拌しながら、温度を10−30℃に維持しつつテトラフロロエチレンを減圧下で徐々に吹き込んだ。反応の進行と共にテトラフロロエチレンの消費速度は低下し、最終的にはテトラフロロエチレンの圧力が1.1−1.3kg/cm2のところで、テトラフロロエチレンの消費は停止した。反応終了後、反応混合物に塩酸ガスを吹き込み中和した。生成した食塩をロ別し、ロ液からエバポレーターを用いてテトラヒドロフランとメタノールを除去した後、残渣を減圧蒸留して主留分172gを得た。該留分の構造は、IR、NMRにより(C2H5SCF2CF2)2COであることが確認された。
IR
C2H5−:3000−2900cm−1,−CO−:1810cm−1,−CF2−:1300−1100cm−1
NMR(CFCl3内部標準)
−CO−CF2− : −120ppm、C2H5S−CF2−:−93ppm
(B)前記(A)によって得られた(C2H5SCF2CF2)2CO 350gを、塩化スルフリル200ccに400cc/分の塩素ガスを通じている反応器へ、激しく攪拌しつつ室温で約2時間にわたり滴下をした。滴下終了後更に10時間攪拌をしながら反応させた後減圧蒸留し、主留分254gを得た。その構造は、IR、NMRにより、(ClSCF2CF2)2COであることが確認された。
IR
−CO−:1810cm−1,−CF2−:1300−1100cm−1
NMR(CFCl3内部標準)
−CO−CF2−:−120ppm,ClS−CF2−:−98ppm
(C)塩化スルフリル300ccと、前記(B)で得られたスルフェニルクロライド化合物360gを混合した溶液に、20%のオゾンを含む空気を500cc/分の流量で、激しく攪拌しながら吹き込んだ。30時間反応せしめた後、反応混合物を減圧蒸留し、主留分298gを得た。その構造は、IR、NMR、元素分析により、(ClSO2CF2CF2)2COであることが確認された。
IR
−CO−:1810cm−1,−SO2Cl:1415cm−1,−CF2−:1300−1100cm−1
NMR(CFCl3内部標準)
−CO−CF2−:−118ppm,ClSO2−CF2−:−115ppm
元素分析 C5F8O5S2Cl2
計算値 C:14.1、F:35.6、S:15.0、Cl:16.6
分析値 C:13.7、F:36.1、S:14.8、Cl:16.1
【0014】
[使用例]
ポリエーテルサルホン樹脂10gを、ジクロロメタン100gに溶解し、実施例の(C)で得られた、(ClSO2CF2CF2)2CO 5gとCF3SO3H 0.1gを加えて、マイクロボンベ中で、80℃で一晩反応させた。反応終了後、ガラス板に溶液をキャスティングして溶媒を飛ばし、得られた膜をアセトンで洗浄後、透過IRを測定した所、−SO2Cl:1415cm−1、−CF2−:1300−1100cm−1、−OH:3500cm−1の吸収が認められ、ポリエーテルサルホンの芳香族環に、上記のケトン化合物が付加していることが確認された。
【0015】
【発明の効果】
本発明においては、一般式(XCF2CFY)2COで示されるフッ素化ケトン化合物、およびアルカリ金属塩QM、フッ素化オレフィンCF2=CFYおよびカルボニル化合物COW2を反応させることを特徴とする該ケトン化合物の製造方法が提供される。本発明のフッ素化ケトン化合物を用いることで、炭化水素系やフッ素系ポリマー中に含まれる芳香族環に、スルホン酸基、ホスホン酸基、カルボン酸基、ベンツイミダゾール基、イミダゾール基、ピラゾール基、ベンゾピラゾール基等の官能基を、高分子反応により導入することができる。
Claims (2)
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2002307692A JP2004143055A (ja) | 2002-10-22 | 2002-10-22 | フッ素化ケトン化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP2002307692A JP2004143055A (ja) | 2002-10-22 | 2002-10-22 | フッ素化ケトン化合物およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004143055A true JP2004143055A (ja) | 2004-05-20 |
Family
ID=32454031
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002307692A Pending JP2004143055A (ja) | 2002-10-22 | 2002-10-22 | フッ素化ケトン化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004143055A (ja) |
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-
2002
- 2002-10-22 JP JP2002307692A patent/JP2004143055A/ja active Pending
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