JP4852926B2 - スルホン酸基含有芳香族ジハライドの製造方法 - Google Patents
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Description
「ポリマー」(Polymer), 1987, vol. 28, 1009. 「ジャーナル オブ メンブレン サイエンス」(Journal of Membrane Science), 83 (1993) 211-220. 「マクロモル ケム フィズ」(Macromol. Chem. Phys.), 199, 1421-1426 (1998).
本発明は、上記課題を解決するため次のような手段を採用するものである。すなわち、本発明のスルホン酸基含有芳香族ジハライドの製造方法は、芳香族ジハライドを液状無水硫酸に接触させることおよび濃硫酸を加えることにより、スルホン化反応を行うことを特徴とするものである。
本発明において、液状無水硫酸に接触させる工程のスルホン化反応を行う反応温度については、反応させる芳香族ジハライドの反応性を考慮し、適宜選択することが可能である。ただし、液状無水硫酸の安定性を考慮し、20℃以上150℃以下でスルホン化反応を行うことが好ましい。さらに、好ましくは30℃以上120℃以下である。
本発明において、濃硫酸を加えることが必要である。濃硫酸を加えることにより、未反応の液状無水硫酸を発煙硫酸化し、反応性を低下させ、スルホン化反応後の引き抜きおよび後処理工程における安全性を向上させ、取り扱いが容易になる。また、濃硫酸を加えることにより反応溶液の流動性を確保し、引き抜き等の作業性を向上させることができる。該濃硫酸は、芳香族ジハライド1モルに対して、好ましくは1モル以下の低量に制御した使用量とするのがよく、より好ましくは0.3モル以下、最も好ましくは0.1モル以下であるのが、廃硫酸量および/または中和後の無機塩生成量、得られるスルホン酸基含有芳香族ジハライドの収率の点からよい。かかる濃硫酸の使用量が、該芳香族ジハライド1モルに対して、1モルを超える場合には、廃硫酸量および/または中和後の無機塩生成量が多く、廃棄コストがかさむだけでなく、スルホン酸基含有芳香族ジハライドの収率が低く、価格が高くなるので好ましくない。
前記式(A1)で表されるスルホン酸基含有芳香族ジハライドのより好適な具体例としては、3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジクロロジフェニルスルホン、3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジフルオロジフェニルスルホン、3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジクロロジフェニルケトン、3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジフルオロジフェニルケトン、3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジクロロジフェニルフェニルホスフィンオキシド、3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジフルオロジフェニルフェニルホスフィンオキシド、等を挙げることができる。なかでも該スルホン酸基含有芳香族ジハライドから得られる芳香族ポリエーテル系重合体の耐熱水性、耐熱メタノール性、燃料クロスオーバー抑制効果の点から、Yが−CO−、すわなち、3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジクロロジフェニルケトン、3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジフルオロジフェニルケトンがより好ましく、重合活性の点からYが−CO−、X1およびX2がF、すなわち3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジフルオロジフェニルケトンが最も好ましい。
下記の測定条件で、スルホン酸基含有ジハライドの純度分析をキャピラリー電気泳動(CE)およびイオンクロマトグラフ法(IC)により測定し、純度を算出した。試料は純水で希釈して調製した。
下記の測定条件で、NMRの測定を行い、スルホン酸基含有ジハライドの構造確認を行った。
共鳴周波数 :270MHz(1H−NMR)
測定温度 :室温
溶解溶媒 :DMSO−d6
内部基準物質:TMS(0ppm)
積算回数 :16回
実施例1
スルホン化剤として、液状無水硫酸を用いて、下記式(G1)で表されるジソジウム 3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジフルオロベンゾフェノンを合成した。
濃硫酸の添加量を44.9g(0.458モル、芳香族ジハライドである4,4’−ジフルオロベンゾフェノン1モルに対して0.2モル)に変更した以外は、実施例1に記載の方法と同様に上記式(G1)で示されるジソジウム 3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジフルオロベンゾフェノンの合成を行った。収率は92%であった。収率が高く、廃硫酸や副生成物の無機塩がほとんど発生しないため環境に優しく、廃棄コストが安く、大量合成や製造コスト低減に適していた。
スルホン化剤として発煙硫酸を用いて、下記式(G1)で表されるジソジウム 3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジフルオロベンゾフェノンを合成した。
Claims (9)
- 芳香族ジハライドを液状無水硫酸に接触させることおよび濃硫酸を加えることにより、スルホン化反応を行うことを特徴とするスルホン酸基含有芳香族ジハライドの製造方法。
- 該芳香族ジハライドに導入されるスルホン酸基1モルに対して、該液状無水硫酸を0.9モル以上、1.3モル以下の範囲で接触させることを特徴とする請求項1に記載のスルホン酸基含有芳香族ジハライドの製造方法。
- 該芳香族ジハライドを、液状無水硫酸に接触させた後、濃硫酸を加えることを特徴とする請求項1または2に記載のスルホン酸基含有芳香族ジハライドの製造方法。
- 該濃硫酸を、該液状無水硫酸1モルに対して0.001モル以上、0.3モル以下の範囲内で加えることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のスルホン酸基含有芳香族ジハライドの製造方法。
- 前記スルホン化反応を行った後に、アルカリ性化合物で中和する工程、ならびに、アルコール、水およびアルコール水溶液から選ばれた少なくとも一種で再結晶する工程を通すことを特徴する請求項1〜4のいずれかに記載のスルホン酸基含有芳香族ジハライドの製造方法。
- 前記一般式(A1)において、Yが−CO−、X1およびX2がFであることを特徴する請求項6に記載のスルホン酸基含有芳香族ジハライドの製造方法。
- 該スルホン酸基含有芳香族ジハライドが、芳香族ポリエーテル系重合体のモノマーとして用いられるものであることを特徴する請求項1〜7のいずれかに記載のスルホン酸基含有芳香族ジハライドの製造方法。
- 前記芳香族ポリエーテル系重合体が、高分子電解質材料用途に用いられるものであることを特徴する請求項8に記載のスルホン酸基含有芳香族ジハライドの製造方法。
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