JP2004115534A5

JP2004115534A5 -

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Publication number: JP2004115534A5
Application number: JP2003394308A
Authority: JP
Filing date: 2003-11-25
Publication date: 2005-05-26

Claims

歯周病を治療する薬剤の製造のための、下式（Ｉ）の化合物またはその溶媒和物の使用：

｛式中、
Ｚは５もしくは６員のシクロアルキル、アリール、置換シクロアルキル、または置換アリール（該シクロアルキル、アリール、置換シクロアルキルまたは置換アリールは所望によりＯ、ＮまたはＳから選択される１以上のヘテロ原子を含む）を表し；
Ｒ^１は水素またはメチルを表し；
Ｒ^２は水素、Ｃ_１−１２アルキル、アリールまたはアラルキルを表し；
ｋは０または１を表し；
ｎは５〜２０の整数を表し；
Ｘは−Ｏ−、−Ｎ（Ｈ）−、−Ｎ（Ｃ_１−６アルキル）−、−Ｎ（Ｃ_３−８シクロアルキル）−、−Ｎ[(Ｃ_１−８アルキル)(Ｃ_３−８シクロアルキル)]−、−Ｎ［（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｍ（Ｃ_１−１２アルキル、アリールまたはアラルキル）］−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＮＨ−、−ＣＨ_２Ｎ（Ｃ_１−６アルキル）−、−ＣＨ_２Ｎ（Ｃ_３−８シクロアルキル）−、または−Ｃ_１−１２アルキル−を表し；
ｍは０〜１２を表し；
Ｑは（−ＣＨ_２）_ｐ、（−ＣＨ＝ＣＨ−）_ｐ、（−Ｃ≡Ｃ−）_ｐ、（−（Ｏ）_ｐ１ＣＨ_２−）_ｐまたは（−ＣＨ_２（Ｏ）_ｐ１）_ｐ（式中、ｐおよびｐ^１は独立に０〜４までの整数を表す）を表し；
ｙおよびｙ’は独立に０〜１０までの整数を表し；
Ｒ^３はＨ、直鎖もしくは分枝Ｃ_１−１２アルキル（所望によりフェニル、−ＣＯ−フェニル、ＣＮ、−ＣＯ（Ｃ_１−３）アルキル、−ＣＯ_２（Ｃ_１−３）アルキルで置換されていてもよいし、またはアルキル鎖に１以上のＯ原子を含んでいてもよい）、Ｃ_２−６直鎖もしくは分枝アルケニル、Ｃ_２−６直鎖もしくは分枝アルキニル、または−Ｃ_１−３アルキル−ＮＲ^８Ｒ^９基（ここで、Ｒ^８およびＲ^９は独立にＨ、Ｃ_１−３アルキルであるか、またはともに、所望によりＯ、ＮもしくはＳから選択される他のヘテロ原子を含んでもよい５もしくは６員の複素環式基を形成する）を表し；
Ｒ^４およびＲ^５は独立に
−Ｃ_３−８シクロアルキル
−直鎖もしくは分枝Ｃ_１−６アルキル
−水素
−直鎖もしくは分枝Ｃ_２−６アルケニル
−アリールまたは置換アリール、
−ヘテロアリールおよび置換ヘテロアリール基をはじめとする、複素環式基または置換複素環式基を表し；
Ｒ^６およびＲ^７は独立にＯまたはＳを表す
（ただし、
ｙおよびｙ’がともに１を表し；
ｋが１を表し；
ｐ^１が０を表し；
Ｒ^２がＨまたはＭｅを表し；
Ｒ^３がＨを表し；
ＸがＯまたはＮＨを表し；かつ、
Ｚがフェニルを表す場合、
Ｒ^４およびＲ^５はともにはシクロヘキシルを表さない）｝。
請求項１に記載の化合物を医薬上許容される賦形剤または担体とともに含んでなる、医薬組成物であって、
歯周病の治療に用いられる、医薬組成物。
請求項１に記載の化合物の治療上有効な量をヒト以外の患者に投与することを含んでなる、歯周病の治療方法。
歯周病を治療する薬剤の製造における、細胞接着分子阻害剤の使用。
歯周病を治療する薬剤の製造のための、下式（Ib）の化合物、またはその溶媒和物の使用：

｛式中、
Ｘは−Ｏ−または−ＮＨ−であり；
Ｑは（−ＣＨ_２−）_ｐ、（−ＣＨ＝ＣＨ−）_ｐ、（−Ｃ≡Ｃ−）_ｐ（式中、ｐは０〜４までの整数である）であり；
Ｒ^１は水素またはメチルであり；
Ｒ^２およびＲ^３は独立にＯまたはＳを表し；
ｎは１〜５０までの整数であり；かつ、
Ｒは水素またはメチルである｝。
歯周病を治療する薬剤の製造のための、
（Ｅ）−４−（１，３−ビス（シクロヘキシルメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロ−２，６−ジオキソ−９Ｈ−プリン−８−イル）桂皮酸デカエチレングリコールメチルエーテルエステル；
（Ｅ）−４−（１，３−ビス（シクロヘキシルメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロ−２，６−ジオキソ−９Ｈ−プリン−８−イル）桂皮酸ノナエチレングリコールメチルエーテルエステル；
（Ｅ）−３−［１，３−ビス（シクロヘキシルメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロ−２，６−ジオキソ−９Ｈ−プリン−８−イル］桂皮酸ノナエチレングリコールメチルエーテルエステル；
（Ｅ）−４−［１，３−ビス（シクロヘキシルメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロ−２，６−ジオキソ−９Ｈ−プリン−８−イル）桂皮酸ノナエチレングリコールメチルエーテルアミド；または
（Ｅ）−４−［１，３−ビス（シクロヘキシルメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロ−２，６−ジオキソ−９Ｈ−プリン−８−イル］安息香酸ノナエチレングリコールメチルエーテルエステル
である化合物の使用。
歯周病を治療する薬剤の製造における、（Ｅ）−４−（１，３−ビス（シクロヘキシルメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロ−２，６−ジオキソ−９Ｈ−プリン−８−イル）桂皮酸ノナエチレングリコールメチルエーテルエステルの使用。
治療上有効な量の細胞接着分子阻害剤をヒト以外の患者に投与することを含んでなる、歯周病の治療方法。
下式（Ib）の化合物、またはその溶媒和物の治療上有効な量をヒト以外の患者に投与することを含んでなる、歯周病の治療方法：

｛式中、
Ｘは−Ｏ−または−ＮＨ−であり；
Ｑは（−ＣＨ_２−）_ｐ、（−ＣＨ＝ＣＨ−）_ｐ、（−Ｃ≡Ｃ−）_ｐ（式中、ｐは０〜４までの整数である）であり；
Ｒ^１は水素またはメチルであり；
Ｒ^２およびＲ^３は独立にＯまたはＳを表し；
ｎは１〜５０までの整数であり；かつ、
Ｒは水素またはメチルである｝。
（Ｅ）−４−（１，３−ビス（シクロヘキシルメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロ−２，６−ジオキソ−９Ｈ−プリン−８−イル）桂皮酸デカエチレングリコールメチルエーテルエステル；
（Ｅ）−４−（１，３−ビス（シクロヘキシルメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロ−２，６−ジオキソ−９Ｈ−プリン−８−イル）桂皮酸ノナエチレングリコールメチルエーテルエステル；
（Ｅ）−３−［１，３−ビス（シクロヘキシルメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロ−２，６−ジオキソ−９Ｈ−プリン−８−イル］桂皮酸ノナエチレングリコールメチルエーテルエステル；
（Ｅ）−４−［１，３−ビス（シクロヘキシルメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロ−２，６−ジオキソ−９Ｈ−プリン−８−イル）桂皮酸ノナエチレングリコールメチルエーテルアミド；
（Ｅ）−４−［１，３−ビス（シクロヘキシルメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロ−２，６−ジオキソ−９Ｈ−プリン−８−イル］安息香酸ノナエチレングリコールメチルエーテルエステル
である化合物の治療上有効な量をヒト以外の患者に投与することを含んでなる、歯周病の治療方法。
治療上有効な量の（Ｅ）−４−（１，３−ビス（シクロヘキシルメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロ−２，６−ジオキソ−９Ｈ−プリン−８−イル）桂皮酸ノナエチレングリコールメチルエーテルエステルをヒト以外の患者に投与することを含んでなる、歯周病の治療方法。