JP2004071983A - バンプの形成方法及びバンプ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1導体と第2導体間をワイヤボンディングする際、予め第2導体上にボールボンディングによりバンプを形成する方法であって、キャピラリを第2導体20上に下降させ、ワイヤ50の先端に形成されたボール51を第2導体上にボンディングしてバンプ51aを形成する第1の工程と、次いで前記キャピラリを垂直上昇させる第2の工程と、次に前記キャピラリを前記第1導体の位置する方向と反対方向へ横移動させる第3の工程と、続いて前記キャピラリを下降させてキャピラリ底部をバンプ面に押し付ける第4の工程と、更に前記キャピラリを前記第1導体の方向へ横移動させる第5の工程とを備える。
【選択図】 図2
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、第1導体上に1次ボンディングを行うとともに、第2導体上に2次ボンディングを行って、第1導体と第2導体間をワイヤボンディングするにあたり、ワイヤボンディングしたワイヤが他のワイヤと接触したり或いは回路基板面と接触したりすることがないように、予め第2導体上にボールボンディングにより好適な形状のバンプを形成する方法及びバンプに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
ワイヤボンディングを行う場合、キャピラリ内にAuワイヤが挿通されたキャピラリを用い、トーチ電極からの放電によりキャピラリから突出したAuワイヤの先端にボールを形成し、キャピラリを半導体チップ上に位置させ1次ボンディングを行った後、キャピラリを配線上に移動させ2次ボンディングを行うことにより、半導体チップと配線間をワイヤボンディングする方法が一般的に用いられている。
【0003】
この場合、配線材料が、例えばCu、Ni、フラッシュAuめっき等のようにAuワイヤと接合性の悪い材料であると、配線上に直接ボンディングを行うことができないため、ボンディングを行う部分に、予めAgメッキあるいはAu厚膜等の下地を形成するようにしている。
【0004】
しかしながら、そのような下地を設けるのは実用上好ましくなく、配線材料がAuワイヤと接合性の悪い材料であっても、配線上に直接ボンディングできるようにする方法が望まれている。
【0005】
例えば、特開平10−112471号公報には、図7に示すように、回路基板30の第2導体20上にボールボンディングを行ってバンプ51aを形成し、そのウエッジボンディングをバンプ51aに対して第1導体10と反対側の位置にて行った後、バンプ51aに対し第1導体10側からワイヤ50をルーピングしてバンプ51a上に2次ボンディングを行い、第1導体10と第2導体20間をワイヤボンディングする方法が記載されている。
【0006】
この方法によれば、ボールボンディングによりバンプを形成した後に、そのウエッジボンディングをバンプ後方の配線部上に行うので、ウエッジボンディングは屈曲した形状になり、バンプのテールの発生がなくなる。
また、バンプ上に2次ボンディングを行う場合、バンプ51aからのびるワイヤ50の屈曲部51bが貫通孔41内に入り込むようにキヤピラリ40を位置させたとき、貫通孔41の内壁により屈曲部51bが押され、ワイヤ50が貫通孔41の他側の内壁にて押しつぶされた状態で接合される特徴を持っていると記載されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記公報に掲載された方法では、図8に示すように、バンプ形成後のウエッジボンディングとワイヤ部との接合になり、すなわち曲面同士での接合となり、接合位置ずれを起こした場合、結果としてワイヤ曲がりを発生させ、隣り合うワイヤ間で接触が発生するおそれがある。
また、バンプ後のウエッジボンディングを後方へ湾曲形状に形成することによりワイヤテールの発生は抑制出来るが、ワイヤとバンプ接合において十分な傾斜、及び平面が確保出来ないため、図8の破線で示したように、バンプ51aとワイヤ50を接合した後に発生するワイヤ50と回路基板30との接触、ワイヤ50と配線間の接触を防止出来ない。
【0008】
本発明の課題は、バンプとワイヤ接合後のワイヤ部と回路基板との接触、及びワイヤと配線間との接触の発生を防止でき、かつバンプとワイヤ接合時のワイヤ曲がりの発生を防止できるバンプの形成方法及びバンプの提供にある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上述課題を解決するために、本発明は、次のような手段を採用した。
請求項1記載のバンプの形成方法は、第1導体上に1次ボンディングを行うとともに、第2導体上に2次ボンディングを行って、第1導体と第2導体間をワイヤボンディングするにあたり、予め第2導体上にボールボンディングによりバンプを形成する方法であって、キャピラリを第2導体上に下降させ、ワイヤの先端に形成されたボールを第2導体上にボンディングしてバンプを形成する第1の工程と、前記第1の工程後に、前記キャピラリを垂直上昇させる第2の工程と、前記第2の工程後に、前記キャピラリを前記第1導体の位置する方向と反対方向へ横移動させる第3の工程と、前記第3の工程後に、前記キャピラリを下降させてキャピラリ底部をバンプ面に押し付ける第4の工程と、前記第4の工程後に、前記キャピラリを前記第1導体の方向へ横移動させる第5の工程と、を備えバンプ上面が傾斜面となるようにしたものである。
【0010】
請求項2記載のバンプの形成方法は、第1導体上に1次ボンディングを行うとともに、第2導体上に2次ボンディングを行って、第1導体と第2導体間をワイヤボンディングするにあたり、予め第2導体上にボールボンディングによりバンプを形成する方法であって、キャピラリを第2導体上に下降させ、ワイヤの先端に形成されたボールを第2導体上にボンディングしてバンプを形成する第1の工程と、前記第1の工程後に、前記キャピラリを垂直上昇させる第2の工程と、前記第2の工程後に、前記キャピラリを前記第1導体の位置する方向へ横移動させる第3の工程と、前記第3の工程後に、前記キャピラリを垂直上昇させる第4の工程と、前記第4の工程後に、前記キャピラリを前記第1導体の位置する方向と反対方向へ横移動させる第5の工程と、前記第5の工程後に、前記キャピラリを下降させてキャピラリ底部をバンプ面に押し付ける第6の工程と、前記代6の工程後に、前記キャピラリを前記第1導体の位置する方向へ横移動させる第7の工程と、を備えバンプ上面が傾斜面となるようにしたものである。
【0011】
請求項3記載のバンプの形成方法は、請求項1又は2記載の発明において、前記第1導体と第2導体とで結ぶ垂直断面視、バンプの上面端部間の第2導体面に対する傾斜角が、第1導体に向かって2°〜60°の開角になるように、前記各工程を行わせるようにしたことを特徴としている。
【0012】
請求項4記載のバンプは、第1導体上に1次ボンディングを行うとともに、第2導体上に2次ボンディングを行って、第1導体と第2導体間をワイヤボンディングするにあたり、予め第2導体上にボールボンディングにより形成されたバンプであって、上面が平面又は凹面で形成されているとともに、前記第1導体と第2導体とで結ぶ垂直断面視、バンプの上面端部間の第2導体面に対する傾斜角が、第1導体に向かって2°〜60°の開角に形成されていることを特徴としている。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明に係るバンプの形成方法の実施の形態について説明する。なお、従来の技術の項や発明が解決しようとする課題の項の説明で用いた部材と同等のものには同一符号を付す。
図1は、セラミック基板やプリント基板等の基板又はリードフレーム等からなる回路基板30上に設けられた第1導体10と第2導体20、及びボンディング装置の一部を構成するキャピラリ40とその貫通孔41内を通って下降し先端にボール51が形成されたワイヤ50を示したものである。
【0014】
次に、請求項1に係るバンプの形成方法の実施の形態を図2に基づいて説明する。
先ず、キャピラリ40の底部の貫通孔41から突出しているワイヤ50の先端に、図示を省略した電気トーチの熱によってボール51を形成する。ここまでは、一般的工程である。
次に、第1の工程として、図2(a)に示すように、キャピラリ40を第2導体上20に下降させ、ワイヤ50の先端に形成されたボール51を第2導体上にボンディングしてバンプ51aを形成する。
続いて、第2の工程として、図2(b)に示すように、前記キャピラリ40を垂直に上昇させる。
次に、第3の工程として、図2(c)に示すように、前記キャピラリ40を前記第1導体10の位置する方向と反対方向へ横移動させる。
更に、第4の工程として、図2(d)に示すように、前記キャピラリ40を下降させてキャピラリ底部42をバンプ51a面に押し付ける。
続いて、第5の工程として、図2(e)に示すように、前記キャピラリ40を前記第1導体10の方向へ横移動させる。
これらの工程をキャピラリの動きで示すと、図2(f)に示すように、▲1▼→▲2▼→▲3▼→▲4▼→▲5▼となり、これらの工程を経ることで、上面が傾斜面となるバンプを第2導体20面上に形成することができる。
【0015】
上記の各工程におけるキャピラリ40の移動距離及び移動方向の制御は、それによって形成されたバンプが、図3に示すように、第1導体10と第2導体20とで結ぶ垂直断面視において、バンプ51aの上面端部(イ)(ロ)間の第2導体20面に対する傾斜角θが、第1導体に向かって2°〜60°の開角になるように行う。
なお、図において、Aはバンプ51aの基底部の径、Bは基底部の高さ、Cはバンプ51aの高さを示している。
【0016】
実際には、上記A,B,Cの数値は、ワイヤ50の直径にも関係するもので、ワイヤ50の直径が7〜100μmの場合、基底部の径Aは25〜300μmであり、基底部の厚さBは4〜60μm、バンプの高さCは10〜200μmの範囲で形成することが可能である。一例をあげれば、ワイヤ直径=30μmの金線の場合で、基底部径A=75μm、基底部厚さB=17μm、バンプ高さC=60μmのバンプ51aを形成した。また、他の例では、ワイヤ直径=50μmの金線の場合で、基底部径A=190μm、基底部厚さB=35μm、バンプ高さC=110μmのバンプ51aを形成した。
【0017】
また、バンプ51a上面の傾斜角θを2°〜60°としたのは、第1導体10と第2導体20の高さ方向における位置関係によって、実験によりこの範囲が適当としたものである。すなわち、第1導体10と第2導体20間をワイヤボンディングする際に、回路基板30上で第1導体10が第2導体20より低い位置にある場合は、傾斜角θを小さくした方が第1導体10からルーピングさせたワイヤを第2導体20面上のバンプ51a上面に案内し易くなるからである。一方、第1導体10が第2導体20より高い位置にある場合、逆に傾斜角θを大きくする方が案内し易くなるからである。
【0018】
次に、請求項2に係るバンプの形成方法の実施の形態を図4に基づいて説明する。
先ず、キャピラリ40の底部の貫通孔41から突出しているワイヤ50の先端に、図示を省略した電気トーチの熱によってボール51を形成する。
次に、第1の工程として、図4(a)に示すように、キャピラリ40を第2導体上20に下降させ、ワイヤ50の先端に形成されたボール51を第2導体上にボンディングしてバンプ51aを形成する。
続いて、第2の工程として、図4(b)に示すように、前記キャピラリ40を垂直に上昇させる。
そして、第3の工程として、図4(c)に示すように、前記キャピラリ40を前記第1導体10の位置する方向へ横移動させる。
続いて、第4の工程として、図4(d)に示すように、前記キャピラリ40を垂直に上昇させる。
次に、第5の工程として、図4(e)に示すように、前記キャピラリ40を前記第1導体10の位置する方向と反対方向へ横移動させる。
更に、第6の工程として、図4(f)に示すように、前記キャピラリ40を下降させてキャピラリ底部42をバンプ51a面に押し付ける。
最後に、第7の工程として、図4(g)に示すように、前記キャピラリ40を前記第1導体10の方向へと横移動させる。
これらの工程をキャピラリの動きで示すと、図4(h)に示すように、▲1▼→▲2▼→▲3▼→▲4▼→▲5▼→▲6▼→▲7▼となり、これらの工程を経ることで、上面が傾斜面となるバンプを第2導体20面上に形成することができる。
【0019】
上記の各工程におけるキャピラリ40の移動距離及び移動方向の制御は、それによって形成されたバンプが、図5(a)、(b)に示すように、第1導体10と第2導体20とで結ぶ垂直断面視において、バンプ51aの上面端部(イ)(ロ)間の第2導体20面に対する傾斜角θが、第1導体に向かって2°〜60°の開角になるように行う。
上記の工程において、キャピラリ40を図4(h)の破線のように移動させると、バンプ51a上面に積載されるワイヤ50の屈曲部51bの量が変わるため、最終的に形成されるバンプ51aの高さを、図5(a)のように高くしたり、図5(b)のように上部面積を基底部面積より広くしたりすることもできる。
【0020】
次に、請求項4に係るバンプの実施の形態について説明する。
この実施形態に係るバンプは、第1導体10上に1次ボンディングを行うとともに、第2導体20上に2次ボンディングを行って、第1導体10と第2導体20間をワイヤボンディングするにあたり(図1参照)、予め第2導体20上にボールボンディングにより形成されたバンプであって、図3,図5,図6に示すように、上面が平面又は凹面で形成されているとともに、第1導体10と第2導体20とで結ぶ垂直断面視、バンプの上面端部(イ)、(ロ)間の第2導体20面に対する傾斜角θが、第1導体10に向かって2°〜60°の開角に形成されているものである。
【0021】
上記のような形状のバンプを、予め第2導体20面上に形成しておくと、図6に示すように、第1導体10から第2導体20にワイヤループ接続するときに、傾斜面が案内面となって、ワイヤの曲がりが少なくなり、ワイヤ同士の接触やワイヤの弛みによる回路基板面との接触等を少なくすることができる。
【0022】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のバンプの形成方法によれば、第2導体面上に、第1導体と第2導体とで結ぶ垂直断面視、バンプの上面端部間の第2導体面に対する傾斜角が、第1導体に向かって2°〜60°の開角となるような傾斜面を有するバンプを形成できるので、第1導体から第2導体にワイヤループ接続するときに、傾斜面が案内面となって、ワイヤの曲がりを少なくすることができ、ワイヤ同士の接触やワイヤの弛みによる回路基板面との接触等を少なくすることができるとともに、バンプとワイヤ接合時のワイヤ曲がりの発生も防止できる
【0023】
また、傾斜角を自在に形成することができるので、傾斜角を小さくすれば、ワイヤ残りを少なくすることができ、パッケージングを薄くすることができる。また、第1導体が高い位置にあれば、傾斜角を大きくすることで、ワイヤの接続を容易にかつ完全にすることができる。
【0024】
また、バンプ上面の面積を大きくすることができるので、ワイヤとの接合面積を拡大でき、接合強度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るバンプの形成方法を実施する前の状態を示し、回路基板上の第1導体と第2導体及びキャピラリの位置関係を示す図である。
【図2】請求項1に係るバンプの形成方法に対応した実施の形態を示す工程図である。
【図3】上記実施の形態により形成されたバンプの断面図である。
【図4】請求項2に係るバンプの形成方法に対応した実施の形態を示す工程図である。
【図5】図4に示す実施の形態により形成されたバンプの断面図である。
【図6】本発明に係るバンプの形成方法の実施の形態により形成されたバンプを用いてワイヤボンディングした例である。
【図7】従来のバンプ形成方法で形成されたバンプを用いてワイヤボンディングした図である。
【図8】従来のバンプ形成方法で形成されたバンプを用いてワイヤボンディングした場合の問題点を説明する図である。
【符号の説明】
10 第1導体
20 第2導体
30 回路基板
40 キャピラリ
41 貫通孔
42 キャピラリ底面
50 ワイヤ
51 ボール
51a バンプ
Claims (4)
- 第1導体上に1次ボンディングを行うとともに、第2導体上に2次ボンディングを行って、第1導体と第2導体間をワイヤボンディングするにあたり、予め第2導体上にボールボンディングによりバンプを形成する方法であって、
キャピラリを第2導体上に下降させ、ワイヤの先端に形成されたボールを第2導体上にボンディングしてバンプを形成する第1の工程と、
前記第1の工程後に、前記キャピラリを垂直上昇させる第2の工程と、
前記第2の工程後に、前記キャピラリを前記第1導体の位置する方向と反対方向へ横移動させる第3の工程と、
前記第3の工程後に、前記キャピラリを下降させてキャピラリ底部をバンプ面に押し付ける第4の工程と、
前記第4の工程後に、前記キャピラリを前記第1導体の方向へ横移動させる第5の工程と、
を備えバンプ上面が傾斜面となるようにしたことを特徴とするバンプの形成方法。 - 第1導体上に1次ボンディングを行うとともに、第2導体上に2次ボンディングを行って、第1導体と第2導体間をワイヤボンディングするにあたり、予め第2導体上にボールボンディングによりバンプを形成する方法であって、
キャピラリを第2導体上に下降させ、ワイヤの先端に形成されたボールを第2導体上にボンディングしてバンプを形成する第1の工程と、
前記第1の工程後に、前記キャピラリを垂直上昇させる第2の工程と、
前記第2の工程後に、前記キャピラリを前記第1導体の位置する方向へ横移動させる第3の工程と、
前記第3の工程後に、前記キャピラリを垂直上昇させる第4の工程と、
前記第4の工程後に、前記キャピラリを前記第1導体の位置する方向と反対方向へ横移動させる第5の工程と、
前記第5の工程後に、前記キャピラリを下降させてキャピラリ底部をバンプ面に押し付ける第6の工程と、
前記第6の工程後に、前記キャピラリを前記第1導体の位置する方向へ横移動させる第7の工程と、
を備えバンプ上面が傾斜面となるようにしたことを特徴とするバンプの形成方法。 - 前記第1導体と第2導体とで結ぶ垂直断面視、バンプの上面端部間の第2導体面に対する傾斜角が、第1導体に向かって2°〜60°の開角になるように、前記各工程を行わせるようにしたことを特徴とする請求項1又は2記載のバンプの形成方法。
- 第1導体上に1次ボンディングを行うとともに、第2導体上に2次ボンディングを行って、第1導体と第2導体間をワイヤボンディングするにあたり、予め第2導体上にボールボンディングにより形成されたバンプであって、
上面が平面又は凹面で形成されているとともに、前記第1導体と第2導体とで結ぶ垂直断面視、バンプの上面端部間の第2導体面に対する傾斜角が、第1導体に向かって2°〜60°の開角に形成されていることを特徴とするバンプ。
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