JP3854232B2 - バンプ形成方法及びワイヤボンディング方法 - Google Patents

バンプ形成方法及びワイヤボンディング方法 Download PDF

Info

Publication number
JP3854232B2
JP3854232B2 JP2003038312A JP2003038312A JP3854232B2 JP 3854232 B2 JP3854232 B2 JP 3854232B2 JP 2003038312 A JP2003038312 A JP 2003038312A JP 2003038312 A JP2003038312 A JP 2003038312A JP 3854232 B2 JP3854232 B2 JP 3854232B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bump
capillary
wire
ball
conductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003038312A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004247672A (ja
Inventor
竜成 三井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinkawa Ltd
Original Assignee
Shinkawa Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinkawa Ltd filed Critical Shinkawa Ltd
Priority to JP2003038312A priority Critical patent/JP3854232B2/ja
Priority to TW092135141A priority patent/TW200416891A/zh
Priority to KR10-2004-0000221A priority patent/KR100538407B1/ko
Priority to US10/781,189 priority patent/US7044357B2/en
Publication of JP2004247672A publication Critical patent/JP2004247672A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3854232B2 publication Critical patent/JP3854232B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • B23K20/002Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating specially adapted for particular articles or work
    • B23K20/004Wire welding
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61CDENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C8/00Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools
    • A61C8/0048Connecting the upper structure to the implant, e.g. bridging bars
    • A61C8/005Connecting devices for joining an upper structure with an implant member, e.g. spacers
    • A61C8/0068Connecting devices for joining an upper structure with an implant member, e.g. spacers with an additional screw
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61CDENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C8/00Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools
    • A61C8/0048Connecting the upper structure to the implant, e.g. bridging bars
    • A61C8/005Connecting devices for joining an upper structure with an implant member, e.g. spacers
    • A61C8/006Connecting devices for joining an upper structure with an implant member, e.g. spacers with polygonal positional means, e.g. hexagonal or octagonal
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61CDENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C8/00Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools
    • A61C8/0048Connecting the upper structure to the implant, e.g. bridging bars
    • A61C8/005Connecting devices for joining an upper structure with an implant member, e.g. spacers
    • A61C8/0074Connecting devices for joining an upper structure with an implant member, e.g. spacers with external threads
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/01Manufacture or treatment
    • H10W72/012Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps
    • H10W72/01221Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps using local deposition
    • H10W72/01225Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps using local deposition in solid form, e.g. by using a powder or by stud bumping
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/01Manufacture or treatment
    • H10W72/015Manufacture or treatment of bond wires
    • H10W72/01551Changing the shapes of bond wires
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/0711Apparatus therefor
    • H10W72/07141Means for applying energy, e.g. ovens or lasers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/075Connecting or disconnecting of bond wires
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/075Connecting or disconnecting of bond wires
    • H10W72/07511Treating the bonding area before connecting, e.g. by applying flux or cleaning
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/075Connecting or disconnecting of bond wires
    • H10W72/07521Aligning
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/075Connecting or disconnecting of bond wires
    • H10W72/07531Techniques
    • H10W72/07532Compression bonding, e.g. thermocompression bonding
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/075Connecting or disconnecting of bond wires
    • H10W72/07531Techniques
    • H10W72/07532Compression bonding, e.g. thermocompression bonding
    • H10W72/07533Ultrasonic bonding, e.g. thermosonic bonding
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/20Bump connectors, e.g. solder bumps or copper pillars; Dummy bumps; Thermal bumps
    • H10W72/221Structures or relative sizes
    • H10W72/222Multilayered bumps, e.g. a coating on top and side surfaces of a bump core
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/20Bump connectors, e.g. solder bumps or copper pillars; Dummy bumps; Thermal bumps
    • H10W72/29Bond pads specially adapted therefor
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/531Shapes of wire connectors
    • H10W72/536Shapes of wire connectors the connected ends being ball-shaped
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/531Shapes of wire connectors
    • H10W72/5363Shapes of wire connectors the connected ends being wedge-shaped
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/541Dispositions of bond wires
    • H10W72/5434Dispositions of bond wires the connected ends being on auxiliary connecting means on bond pads, e.g. on other bond wires
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90Bond pads, in general
    • H10W72/951Materials of bond pads
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/754Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
  • Orthopedic Medicine & Surgery (AREA)
  • Dentistry (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体素子実装用又はワイヤ接続用等のバンプ形成方法及び2つの導体間をワイヤボンディングするワイヤボンディング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、高さの高いバンプを極めて簡単に形成することができるバンプ形成方法として、例えば図5に示す方法(特許文献1参照)及び図6に示す方法(特許文献2参照)が挙げられる。
【0003】
【特許文献1】
特公平6−95468号公報
【特許文献2】
特許第2735022号公報
【0004】
図5のバンプ形成方法は、図5(e)に示すように半導体素子1上の電極パッド2上に突起状接点の底部20を形成し、この底部20上に連続してリング状や逆U字型の突起状接点の頂部21を形成するものである。その形成工程は、まず図5(a)に示すように,キャピラリ3に挿通されたワイヤ4の先端に放電スパーク等によりボール22を形成する。次に図5(b)に示すように、キャピラリ3を下降させてボール22を電極パッド2上に熱圧着及び超音波振動によって接合させて突起状接点の底部20を形成する。続いて、図5(c)に示すように、キャピラリ3をループ状に移動させた後、図5(d)に示すように、キャピラリ3を下降させてワイヤ4を底部20の上面に接続してワイヤ4を切断し、リング状や逆U字型の形状の頂部21を形成する。
【0005】
図6のバンプ形成方法は、図6(i)に示すように、半導体素子1上の電極パッド2上に第1のバンプ30を形成し、この第1のバンプ30上に第2のバンプ31を形成して2段バンプ32を形成するものである。その形成工程は、まず、図6(a)に示すように、キャピラリ3に挿通されたワイヤ4の先端に放電スパーク等によりボール33を形成する。次いで図6(b)に示すように、キャピラリ3を下降させてボール33を電極パッド2上に熱圧着及び超音波振動によって接合させて第1のバンプ30を形成する。次に図6(c)に示すように、キャピラリ3を上昇させると共に、キャピラリ3の先端の平坦部が第1のバンプ30の中心に対応して位置するようにキャピラリ3を横方向に移動させる。
【0006】
次に図6(d)に示すように、キャピラリ3を下降させて第1のバンプ30を形成し、超音波を印加してワイヤ4に切欠き部34を形成し、続いてキャピラリ3が上昇してワイヤ4を切断し、第1のバンプ30が形成される。次に図6(e)に示すように、ワイヤ4の先端にボール35を形成する。その後は、図6(b)乃至図6(d)の工程と同様に、図6(f)乃至図6(h)の工程 により、第1のバンプ30上に第2のバンプ31を形成する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
図5に示す特許文献1の方法は、頂部21の形状をリング状や逆U字型に形成するが、キャピラリ3の先端の孔の内径とワイヤの外径間にクリアランスがあるので、キャピラリ3の駆動中にワイヤ4の弛みが生じ、頂部21を均一なリング状や逆U字型の形状が得られなく、またその形状の向きにばらつきが生じる。
【0008】
図6に示す特許文献2の方法は、2段バンプ32を形成する場合、2回ボール22、33を形成する工程及び2回ワイヤ4を切断する工程を必要とする。即ち、バンプの段数分のボール形成工程及びワイヤ切断工程を必要とするので、生産性が悪いという問題があった。
【0009】
本発明の課題は、高さ及び形状が均一に形成でき、かつ生産性に優れたバンプ形成方法及びワイヤボンディング方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための本発明の請求項1は、キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを導体に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して第2のバンプを形成する第5の工程と、次にワイヤを前記第2のバンプから切断する第6の工程とからなることを特徴とする。
【0011】
上記課題を解決するための本発明の請求項2は、キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを導体に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して第2のバンプを形成する第5の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第4の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第2のバンプに対応して位置させる第6の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第2のバンプ上に押圧して第3のバンプを形成する第7の工程と、これらの第1乃至第7の工程を少なくとも有し、最後にワイヤを上段のバンプから切断する第8の工程とからなることを特徴とする。
【0012】
上記課題を解決するための本発明の請求項3は、第1導体上に1次ボンディングを行った後、第2導体上に2次ボンディングを行い、前記第1導体と前記第2導体間をワイヤボンディングする方法において、
キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを前記第2導体上に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して傾斜ウェッジの傾斜方向が第1導体側と反対側になるように第2のバンプを形成する第5の工程と、次にワイヤを前記第2のバンプから切断する第6の工程とによって2段バンプを形成し、
その後前記1次ボンディングを行い、次に前記バンプに対して前記第1導体側からワイヤをルーピングして前記バンプ上部の傾斜ウェッジ上に前記2次ボンディングを行うことを特徴とする。
【0013】
上記課題を解決するための本発明の請求項4は、第1導体上に1次ボンディングを行った後、第2導体上に2次ボンディングを行い、前記第1導体と前記第2導体間をワイヤボンディングする方法において、
キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを導体に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して第2のバンプを形成する第5の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第4の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第2のバンプに対応して位置させる第6の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第2のバンプ上に押圧して第3のバンプを形成する第7の工程と、これらの第1乃至第7の工程を少なくとも有し、最後の上段のバンプに傾斜ウェッジの傾斜方向が第1導体側と反対側になるように形成し、ワイヤを上段のバンプから切断する第8の工程とから多段バンプを形成し、
その後前記1次ボンディングを行い、次に前記バンプに対して前記第1導体側からワイヤをルーピングして前記バンプ上部の傾斜ウェッジ上に前記2次ボンディングを行うことを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明の第1の実施の形態を図1により説明する。1は半導体素子、2は半導体素子1上に形成された電極パッドを示す。図1(a)に示すように、図示しないクランパが閉じた状態で、キャピラリ3に挿通されたワイヤ4の先端に放電スパーク等によりボール5を形成する。次に図示しないクランパが開き、図1(b)に2点鎖線で示すように、キャピラリ3を下降させてボール5を電極パッド2上に超音波振動によって接合させて圧着ボール6を形成する。次に図1(b)に実線で示すようにキャピラリ3を上昇させる。続いて図1(c)に示すように、キャピラリ3の下端の平坦部3aが圧着ボール6に対応して位置するようにキャピラリ3を横方向(右方向)に移動させる。
【0015】
次に図1(d)に示すように、キャピラリ3を下降させて圧着ボール6を押圧して第1のバンプ7を形成する。次に図1(e)に示すようにキャピラリ3を上昇させる。続いて図1(f)に示すように、キャピラリ3の下端の平坦部3bが第1のバンプ7に対応して位置するように、キャピラリ3を前記と逆の横方向(左方向)に移動させる。続いて図1(g)に示すように、キャピラリ3を下降させてワイヤ4を折り曲げて第1のバンプ7上に完全に重ねて押圧し、超音波を印加して切欠き部10を形成する。これにより、第1のバンプ7上にキャピラリ3の下端面3bの外形形状が転写された傾斜ウェッジ11を持つ第2のバンプ8が形成される。次に図示しないクランパ及びキャピラリ3が共に上昇し、この上昇途中でクランパが閉じ、図1(h)に示すように、ワイヤ4は第2のバンプ8の根元より切断される。これにより、2段バンプ9が形成される。
【0016】
図2は本発明の第2の実施の形態を示す。本実施の形態は、図1(g)の工程に続く工程で、図2(d)に示すように、前記実施の形態で形成された第2のバンプ8上にキャピラリ3の下端面3aの外形形状が転写された傾斜ウェッジ15を持つ第3のバンプ12を形成して3段バンプ13を形成する場合を示す。
【0017】
図1(g)の状態より、図示しないクランパは開いたままで、図2(a)に示すようにキャピラリ3は上昇する。次に図2(b)に示すように、キャピラリ3の平坦部3aが第2のバンプ8に対応して位置するようにキャピラリ3を横方向(右方向)に移動させる。続いて図2(c)に示すように、キャピラリ3を下降させてワイヤ4を折り曲げて第2のバンプ8上に完全に重ねて押圧し、超音波を印加して切欠き部14を形成する。これにより、第2のバンプ8上にキャピラリ3の下端面3aの外形形状が転写された傾斜ウェッジ15を持つ第3のバンプ12が形成される。次に図示しないクランパ及びキャピラリ3が共に上昇し、この上昇途中でクランパが閉じ、図2(d)に示すように、ワイヤ4は第3のバンプ12の根元より切断される。これにより、3段バンプ13が形成される。
【0018】
このように、図1に示すように2段バンプ9を形成する場合、図2に示すように3段バンプ13を形成する場合、ボール5の形成は図1(a)に示す1回の工程でよく、またワイヤ切断は図1(h)又は図2(d)に示す1回の工程でよいので、生産性が向上する。また図1の2段バンプ9を形成する場合は、第1のバンプ7上にワイヤ4を完全に重ねて押圧して第2のバンプ8を形成し、図2の3段バンプ13を形成する場合も、第2のバンプ8上にワイヤ4を完全に重ねて押圧して第3のバンプ12を形成するので、2段バンプ9及び3段バンプ13の高さ及び形状が均一に形成される。
【0019】
なお、上記実施の形態においては、2段バンプ9及び3段バンプ13を形成する場合について説明したが、4段バンプ以上を形成することができることは勿論である。
【0020】
図3は、図1に示す本発明の一実施の形態に係るワイヤボンディング方法を用いて半導体素子と配線間にワイヤボンディングする工程の1例を示す。図3において、16はセラミック基板やプリント基板等の基板又はリードフレーム等よりなる回路基板を示し、この回路基板16上には、前記電極パット2が形成された半導体素子1がマウントされ、また回路基板16には配線17が形成されている。ワイヤボンデイングする場合には、図1(h)に示す2段バンプ9の傾斜ウェッジ11の方向は、図3(a)に示すように、配線17側と反対側になるように形成する。
【0021】
次に図3(a)に示すように、ワイヤ4の先端に放電スパーク等によりボール5を形成させる。続いて図3(b)に示すように、キャピラリ3を配線17上に位置させ1次ボンディングを行う。次に図3(c)に示すように、ワイヤ4のルーピングを行い、ワイヤ4を2段バンプ9の傾斜ウェッジ11の上部に位置させ、ワイヤ4を傾斜ウェッジ11に2次ボンディングを行い、ワイヤ4を切断する。このように、傾斜ウェッジ11に沿ってワイヤ4は接合されるので、ワイヤ4と半導体素子1との接触を防止できる。また傾斜ウェッジ11の接合面積が広くなり、接合強度が向上する。
【0022】
図4は本発明の一実施の形態に係るワイヤボンディング方法を用いて半導体素子と配線間にワイヤボンディングした状態の他の例を示す。前記実施の形態においては、電極パッド2上に2段バンプ9を形成し、配線17上に1次ボンディングを行い、2段バンプ9上の傾斜ウェッジ11に2次ボンディングを行った。図4の場合は、配線17上に図1(a)乃至図1(h)の工程で2段バンプ9を形成し、2段バンプ9上の傾斜ウェッジ11を半導体素子1側の反対側に形成した。そして、図3(a)乃至図3(c)の工程で電極パッド2上に1次ボンディングを行い、2段バンプ9上の傾斜ウェッジ11に2次ボンディングを行ってワイヤ4を切断した。即ち、図3の場合は、配線17が第1導体となり、電極パッド2が第2導体となる。図4の場合は、電極パッド2が第1導体となり、配線17が第2導体となる。
【0023】
なお、図2に示す3段バンプ13の場合も同様に半導体素子1と配線17間にワイヤボンディングすることもできることは言うまでもない。この場合も、傾斜ウェッジ15の傾斜方向は、第1導体側と反対側に形成することは勿論である。
【0024】
【発明の効果】
本発明は、キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを導体に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して第2のバンプを形成する第5の工程と、次にワイヤを前記第2のバンプから切断する第6の工程とからなるので、高さ及び形状が均一に形成でき、かつ生産性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のバンプ形成方法の第1の実施の形態を工程順に示す断面図である。
【図2】本発明のバンプ形成方法の第2の実施の形態で、図1(g)の工程に続く工程を工程順に示す断面図である。
【図3】本発明の一実施の形態に係るワイヤボンディング方法を用いてダイと配線間がワイヤボンディングされた状態の一例を示す図である。
【図4】本発明の一実施の形態に係るワイヤボンディング方法を用いてダイと配線間がワイヤボンディングされた状態の他の例を示す図である。
【図5】従来のバンプ形成方法を工程順に示す断面図である。
【図6】従来の他のバンプ形成方法を工程順に示す断面図である。
【符号の説明】
1 半導体素子
2 電極パッド
3 キャピラリ
3a、3b 平坦部
4 ワイヤ
5 ボール
6 圧着ボール
7 第1のバンプ
8 第2のバンプ
9 2段バンプ
12 第3のバンプ
13 3段バンプ

Claims (4)

  1. キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを導体に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して第2のバンプを形成する第5の工程と、次にワイヤを前記第2のバンプから切断する第6の工程とからなることを特徴とするバンプ形成方法。
  2. キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを導体に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して第2のバンプを形成する第5の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第4の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第2のバンプに対応して位置させる第6の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第2のバンプ上に押圧して第3のバンプを形成する第7の工程と、これらの第1乃至第7の工程を少なくとも有し、最後にワイヤを上段のバンプから切断する第8の工程とからなることを特徴とするバンプ形成方法。
  3. 第1導体上に1次ボンディングを行った後、第2導体上に2次ボンディングを行い、前記第1導体と前記第2導体間をワイヤボンディングする方法において、
    キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを前記第2導体上に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して傾斜ウェッジの傾斜方向が第1導体側と反対側になるように第2のバンプを形成する第5の工程と、次にワイヤを前記第2のバンプから切断する第6の工程とによって2段バンプを形成し、
    その後前記1次ボンディングを行い、次に前記バンプに対して前記第1導体側からワイヤをルーピングして前記バンプ上部の傾斜ウェッジ上に前記2次ボンディングを行うことを特徴とするワイヤボンディング方法。
  4. 第1導体上に1次ボンディングを行った後、第2導体上に2次ボンディングを行い、前記第1導体と前記第2導体間をワイヤボンディングする方法において、
    キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを導体に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して第2のバンプを形成する第5の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第4の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第2のバンプに対応して位置させる第6の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第2のバンプ上に押圧して第3のバンプを形成する第7の工程と、これらの第1乃至第7の工程を少なくとも有し、最後の上段のバンプに傾斜ウェッジの傾斜方向が第1導体側と反対側になるように形成し、ワイヤを上段のバンプから切断する第8の工程とから多段バンプを形成し、
    その後前記1次ボンディングを行い、次に前記バンプに対して前記第1導体側からワイヤをルーピングして前記バンプ上部の傾斜ウェッジ上に前記2次ボンディングを行うことを特徴とするワイヤボンディング方法。
JP2003038312A 2003-02-17 2003-02-17 バンプ形成方法及びワイヤボンディング方法 Expired - Fee Related JP3854232B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003038312A JP3854232B2 (ja) 2003-02-17 2003-02-17 バンプ形成方法及びワイヤボンディング方法
TW092135141A TW200416891A (en) 2003-02-17 2003-12-12 Bump formation method and wire bonding method
KR10-2004-0000221A KR100538407B1 (ko) 2003-02-17 2004-01-05 범프 형성 방법 및 와이어본딩 방법
US10/781,189 US7044357B2 (en) 2003-02-17 2004-02-17 Bump formation method and wire bonding method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003038312A JP3854232B2 (ja) 2003-02-17 2003-02-17 バンプ形成方法及びワイヤボンディング方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004247672A JP2004247672A (ja) 2004-09-02
JP3854232B2 true JP3854232B2 (ja) 2006-12-06

Family

ID=32866386

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003038312A Expired - Fee Related JP3854232B2 (ja) 2003-02-17 2003-02-17 バンプ形成方法及びワイヤボンディング方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7044357B2 (ja)
JP (1) JP3854232B2 (ja)
KR (1) KR100538407B1 (ja)
TW (1) TW200416891A (ja)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005159267A (ja) * 2003-10-30 2005-06-16 Shinkawa Ltd 半導体装置及びワイヤボンディング方法
US7314157B2 (en) * 2004-08-13 2008-01-01 Asm Technology Singapore Pte Ltd Wire bond with improved shear strength
JP4298665B2 (ja) 2005-02-08 2009-07-22 株式会社新川 ワイヤボンディング方法
KR20060091622A (ko) * 2005-02-16 2006-08-21 삼성테크윈 주식회사 와이어 본딩 방법
JP4558539B2 (ja) * 2005-03-09 2010-10-06 日立協和エンジニアリング株式会社 電子回路用基板、電子回路、電子回路用基板の製造方法および電子回路の製造方法
JP4369401B2 (ja) * 2005-06-28 2009-11-18 株式会社新川 ワイヤボンディング方法
US20070216026A1 (en) 2006-03-20 2007-09-20 Adams Zhu Aluminum bump bonding for fine aluminum wire
JP4216295B2 (ja) * 2006-05-01 2009-01-28 シャープ株式会社 バンプ構造およびその形成方法、ならびにそれを用いた半導体装置
JP2008028236A (ja) * 2006-07-24 2008-02-07 Shinko Electric Ind Co Ltd ボンディングツールおよびバンプ形成方法
KR100932680B1 (ko) 2007-02-21 2009-12-21 가부시키가이샤 신가와 반도체 장치 및 와이어 본딩 방법
JP5002329B2 (ja) * 2007-02-21 2012-08-15 株式会社新川 半導体装置及びワイヤボンディング方法
US7863099B2 (en) * 2007-06-27 2011-01-04 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system with overhanging connection stack
US8637394B2 (en) * 2007-07-05 2014-01-28 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system with flex bump
JP4625858B2 (ja) * 2008-09-10 2011-02-02 株式会社カイジョー ワイヤボンディング方法、ワイヤボンディング装置及びワイヤボンディング制御プログラム
US8152046B2 (en) * 2009-04-01 2012-04-10 Kulicke And Soffa Industries, Inc. Conductive bumps, wire loops, and methods of forming the same
JP4787374B2 (ja) * 2010-01-27 2011-10-05 株式会社新川 半導体装置の製造方法並びにワイヤボンディング装置
JP2012160554A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Toshiba Corp ボンディングワイヤの接合構造及び接合方法
KR20130042210A (ko) * 2011-10-18 2013-04-26 삼성전자주식회사 멀티-칩 패키지 및 그의 제조 방법
CN104471693B (zh) * 2012-07-17 2018-05-08 库利克和索夫工业公司 形成导线互连结构的方法
US9087815B2 (en) * 2013-11-12 2015-07-21 Invensas Corporation Off substrate kinking of bond wire
US9082753B2 (en) * 2013-11-12 2015-07-14 Invensas Corporation Severing bond wire by kinking and twisting
US11145620B2 (en) * 2019-03-05 2021-10-12 Asm Technology Singapore Pte Ltd Formation of bonding wire vertical interconnects
WO2022013955A1 (ja) * 2020-07-15 2022-01-20 株式会社新川 ワイヤボンディング装置及び半導体装置の製造方法
CN114078804A (zh) * 2020-08-20 2022-02-22 华为技术有限公司 一种电子载体、电器件及制备方法
US12374563B2 (en) 2020-11-25 2025-07-29 Shinkawa Ltd. Semiconductor device manufacturing method
WO2022137288A1 (ja) * 2020-12-21 2022-06-30 株式会社新川 ワイヤ構造及びワイヤ構造形成方法
US20240146018A1 (en) * 2021-02-16 2024-05-02 Mitsubishi Electric Corporation Optical communication module and method for manufacturing the same
JP7678773B2 (ja) 2022-02-15 2025-05-16 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL184184C (nl) * 1981-03-20 1989-05-01 Philips Nv Werkwijze voor het aanbrengen van kontaktverhogingen op kontaktplaatsen van een electronische microketen.
JPH0695468A (ja) 1992-09-17 1994-04-08 Mita Ind Co Ltd 画像形成装置
JP2735022B2 (ja) 1995-03-22 1998-04-02 日本電気株式会社 バンプ製造方法
TW465064B (en) * 2000-12-22 2001-11-21 Advanced Semiconductor Eng Bonding process and the structure thereof
JP3913134B2 (ja) * 2002-08-08 2007-05-09 株式会社カイジョー バンプの形成方法及びバンプ
US7229906B2 (en) * 2002-09-19 2007-06-12 Kulicke And Soffa Industries, Inc. Method and apparatus for forming bumps for semiconductor interconnections using a wire bonding machine

Also Published As

Publication number Publication date
US20040164128A1 (en) 2004-08-26
KR20040074912A (ko) 2004-08-26
US7044357B2 (en) 2006-05-16
JP2004247672A (ja) 2004-09-02
TW200416891A (en) 2004-09-01
TWI293488B (ja) 2008-02-11
KR100538407B1 (ko) 2005-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3854232B2 (ja) バンプ形成方法及びワイヤボンディング方法
JP3913134B2 (ja) バンプの形成方法及びバンプ
KR100765376B1 (ko) 와이어 본딩 방법
CN101252112B (zh) 半导体装置及引线接合方法
JP2003243436A (ja) バンプの形成方法、バンプ付き半導体素子及びその製造方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器
US7025247B2 (en) Wire bonding method
JP2005039192A (ja) 半導体装置及びワイヤボンディング方法
US20070029367A1 (en) Semiconductor device
JP2006278407A (ja) 半導体装置の製造方法
JP4021378B2 (ja) ワイヤボンディング方法
JP3570551B2 (ja) ワイヤボンディング方法
JPH0794556A (ja) ワイヤボンデイング方法
JP2005167178A (ja) 半導体装置及びワイヤボンディング方法
JP4313958B2 (ja) ワイヤボンディング方法
JP2003273148A (ja) フリップチップ実装方法
JPH05267385A (ja) ワイヤーボンディング装置
JP2976947B2 (ja) バンプ形成方法
JP5048990B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP3854233B2 (ja) ワイヤボンディング方法
JP4547405B2 (ja) ワイヤボンディング方法
JPH08153756A (ja) 半導体装置のワイヤボンディング方法及びそのための装置
JPH10199913A (ja) ワイヤボンディング方法
JP2009070930A (ja) 半導体装置とその製造方法
JP2010103477A (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050331

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060607

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060613

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060724

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060825

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060907

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100915

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100915

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110915

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees