JP2003506747A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2003506747A5
JP2003506747A5 JP2001514632A JP2001514632A JP2003506747A5 JP 2003506747 A5 JP2003506747 A5 JP 2003506747A5 JP 2001514632 A JP2001514632 A JP 2001514632A JP 2001514632 A JP2001514632 A JP 2001514632A JP 2003506747 A5 JP2003506747 A5 JP 2003506747A5
Authority
JP
Japan
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001514632A
Other versions
JP2003506747A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE19935568A external-priority patent/DE19935568A1/de
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/EP2000/007258 external-priority patent/WO2001009681A2/en
Publication of JP2003506747A publication Critical patent/JP2003506747A/ja
Publication of JP2003506747A5 publication Critical patent/JP2003506747A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2001514632A 1999-07-30 2000-07-28 照明光学系用の多重反射鏡光学系 Pending JP2003506747A (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19935568.1 1999-07-30
DE19935568A DE19935568A1 (de) 1999-07-30 1999-07-30 Steuerung der Beleuchtungsverteilung in der Austrittspupille eines EUV-Beleuchtungssystems
DE29915847U DE29915847U1 (de) 1999-07-30 1999-09-09 Steuerung der Beleuchtungsverteilung in der Austrittspupille eines EUV-Beleuchtungssystems
DE29915847.0 1999-09-09
PCT/EP2000/007258 WO2001009681A2 (en) 1999-07-30 2000-07-28 Multi mirror system for an illumination system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003506747A JP2003506747A (ja) 2003-02-18
JP2003506747A5 true JP2003506747A5 (ja) 2007-09-20

Family

ID=26054381

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001514635A Abandoned JP2003506881A (ja) 1999-07-30 2000-07-26 Ｅｕｖ照明光学系の射出瞳における照明分布の制御
JP2001514632A Pending JP2003506747A (ja) 1999-07-30 2000-07-28 照明光学系用の多重反射鏡光学系

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001514635A Abandoned JP2003506881A (ja) 1999-07-30 2000-07-26 Ｅｕｖ照明光学系の射出瞳における照明分布の制御

Country Status (6)

Country Link
US (3) US6840640B2 (ja)
EP (2) EP1200879B1 (ja)
JP (2) JP2003506881A (ja)
DE (2) DE50014428D1 (ja)
TW (2) TW472176B (ja)
WO (2) WO2001009684A1 (ja)

Families Citing this family (79)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4238390B2 (ja) * 1998-02-27 2009-03-18 株式会社ニコン 照明装置、該照明装置を備えた露光装置および該露光装置を用いて半導体デバイスを製造する方法
DE10100265A1 (de) * 2001-01-08 2002-07-11 Zeiss Carl Beleuchtungssystem mit Rasterelementen unterschiedlicher Größe
DE10053587A1 (de) * 2000-10-27 2002-05-02 Zeiss Carl Beleuchtungssystem mit variabler Einstellung der Ausleuchtung
US6947124B2 (en) 1998-05-05 2005-09-20 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
DE10138313A1 (de) 2001-01-23 2002-07-25 Zeiss Carl Kollektor für Beleuchtugnssysteme mit einer Wellenlänge < 193 nm
DE19855106A1 (de) * 1998-11-30 2000-05-31 Zeiss Carl Fa Beleuchtungssystem für die VUV-Mikrolithographie
US7248667B2 (en) 1999-05-04 2007-07-24 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system with a grating element
EP1200879B1 (de) * 1999-07-30 2007-06-20 Carl Zeiss SMT AG Steuerung der Beleuchtungsverteilung in der Austrittspupille eines EUV-Beleuchtungssystems
TW594847B (en) 2001-07-27 2004-06-21 Canon Kk Illumination system, projection exposure apparatus and method for manufacturing a device provided with a pattern to be exposed
CN1273871C (zh) * 2002-03-18 2006-09-06 Asml荷兰有限公司 光刻装置和器件的制作方法
US7170587B2 (en) 2002-03-18 2007-01-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7333178B2 (en) 2002-03-18 2008-02-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7084412B2 (en) 2002-03-28 2006-08-01 Carl Zeiss Smt Ag Collector unit with a reflective element for illumination systems with a wavelength of smaller than 193 nm
DE10240002A1 (de) * 2002-08-27 2004-03-11 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag Optisches Teilsystem insbesondere für eine Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem in mindestens zwei Stellungen verbringbaren optischen Element
JPWO2004090955A1 (ja) * 2003-04-04 2006-07-06 株式会社ニコン 照明光学装置、投影露光装置及び露光方法
KR101144458B1 (ko) 2003-07-30 2012-05-14 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 마이크로 인쇄술용 조명 시스템
JP4241281B2 (ja) 2003-09-17 2009-03-18 キヤノン株式会社 露光装置
WO2005036266A1 (de) 2003-09-17 2005-04-21 Carl Zeiss Smt Ag Masken, lithographievorrichtung und halbleiterbauelement
JP2005109304A (ja) * 2003-10-01 2005-04-21 Canon Inc 照明光学系及び露光装置
EP1811547A4 (en) * 2005-02-03 2010-06-02 Nikon Corp OPTICAL INTEGRATOR, OPTICAL LIGHTING DEVICE, EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD
JP2006216917A (ja) * 2005-02-07 2006-08-17 Canon Inc 照明光学系、露光装置およびデバイス製造方法
US7405871B2 (en) * 2005-02-08 2008-07-29 Intel Corporation Efficient EUV collector designs
US7982854B2 (en) 2005-04-20 2011-07-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection exposure system, method for manufacturing a micro-structured structural member by the aid of such a projection exposure system and polarization-optical element adapted for use in such a system
KR101213950B1 (ko) * 2005-05-03 2012-12-18 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 편광을 이용한 마이크로리소그래피 노광장치 및 제1 및 제2오목거울을 구비한 마이크로리소그래피 투영시스템
US7372570B2 (en) 2005-05-13 2008-05-13 Bio-Rad Laboratories, Inc. Incident light redistribution to compensate for radial gradient in detector
EP1894063A1 (en) * 2005-06-21 2008-03-05 Carl Zeiss SMT AG A double-facetted illumination system with attenuator elements on the pupil facet mirror
DE112006001820T5 (de) 2005-07-08 2008-06-26 Electro Scientific Industries, Inc., Portland Optimieren der Verwendung und Leistung von optischen Systemen, die mit telezentrischer Dunkelfeldbeleuchtung auf der Achse implementiert werden
US20070085980A1 (en) * 2005-10-18 2007-04-19 Scott Lerner Projection assembly
KR101370203B1 (ko) 2005-11-10 2014-03-05 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 광원의 요동을 측정하기 위한 시스템을 구비한 ｅｕｖ 조명시스템
JP2007150295A (ja) 2005-11-10 2007-06-14 Carl Zeiss Smt Ag ラスタ要素を有する光学装置、及びこの光学装置を有する照射システム
US20070109520A1 (en) * 2005-11-17 2007-05-17 Whitney Theodore R Modular illuminator for a scanning printer
DE102006017336B4 (de) * 2006-04-11 2011-07-28 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Beleuchtungssystem mit Zoomobjektiv
DE102006036064A1 (de) * 2006-08-02 2008-02-07 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage mit Wellenlängen ≦ 193 nm
DE102006056035A1 (de) * 2006-11-28 2008-05-29 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektions-Mikrolithographie, Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils sowie durch das Verfahren hergestelltes mikrostrukturiertes Bauteil
DE102008014832A1 (de) * 2007-04-19 2008-10-23 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
JP5077724B2 (ja) * 2007-06-07 2012-11-21 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィツール用の反射照明システム
US20090040493A1 (en) * 2007-08-09 2009-02-12 Hideki Komatsuda Illumination optical system, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8081296B2 (en) * 2007-08-09 2011-12-20 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
DE102007045396A1 (de) * 2007-09-21 2009-04-23 Carl Zeiss Smt Ag Bündelführender optischer Kollektor zur Erfassung der Emission einer Strahlungsquelle
EP2243047B1 (en) 2008-02-15 2021-03-31 Carl Zeiss SMT GmbH Facet mirror for use in a projection exposure apparatus for microlithography
DE102008000788A1 (de) * 2008-03-20 2009-09-24 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
EP2541324B1 (en) 2008-03-20 2016-04-13 Carl Zeiss SMT GmbH Optical system
WO2009124595A1 (en) 2008-04-11 2009-10-15 Carl Zeiss Smt Ag Optical aperture device
NL1036771A1 (nl) * 2008-04-22 2009-10-26 Asml Netherlands Bv Illumination System and Lithographic Method.
EP2146248B1 (en) * 2008-07-16 2012-08-29 Carl Zeiss SMT GmbH Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
DE102008042462B4 (de) 2008-09-30 2010-11-04 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für die EUV-Mikrolithographie
CN102422225B (zh) 2009-03-06 2014-07-09 卡尔蔡司Smt有限责任公司 用于微光刻的照明光学系统与光学系统
US8497977B2 (en) * 2009-03-12 2013-07-30 Nikon Corporation Optical integrator, illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8969969B2 (en) * 2009-03-20 2015-03-03 International Business Machines Corporation High threshold voltage NMOS transistors for low power IC technology
DE102009041405B4 (de) * 2009-09-14 2020-08-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Maskeninspektionsmikroskop mit variabler Beleuchtungseinstellung
DE102009048553A1 (de) 2009-09-29 2011-03-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit Umlenkspiegeln und Projektionsbelichtungsverfahren
DE102009047316A1 (de) * 2009-11-30 2010-12-23 Carl Zeiss Smt Ag Optische reflektierende Komponente zum Einsatz in einer Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage der EUV-Mikrolithographie
KR20230160966A (ko) 2010-04-02 2023-11-24 가부시키가이샤 니콘 조명 광학계, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법
DE102010029049B4 (de) * 2010-05-18 2014-03-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für ein Metrologiesystem für die Untersuchung eines Objekts mit EUV-Beleuchtungslicht sowie Metrologiesystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
DE102010040811A1 (de) * 2010-09-15 2012-03-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik
DE102010043498A1 (de) 2010-11-05 2012-05-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv einer für EUV ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum optischen Justieren eines Projektionsobjektives
DE102012203950A1 (de) * 2012-03-14 2013-09-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage
DE102012208096A1 (de) 2012-05-15 2013-05-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem für die EUV- Projektionslithografie
KR101992516B1 (ko) * 2012-10-08 2019-06-24 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 마이크로리소그래피 장치의 작동 방법
US9046500B2 (en) * 2012-12-20 2015-06-02 Kla-Tencor Corporation Adaptable illuminating apparatus, system, and method for extreme ultra-violet light
US9158124B2 (en) 2012-12-21 2015-10-13 Ricoh Company, Ltd. Image display device and vehicle incorporating the same
DE102013204443A1 (de) * 2013-03-14 2014-10-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Baugruppe zur Lichtleitwerterhöhung
US9448343B2 (en) * 2013-03-15 2016-09-20 Kla-Tencor Corporation Segmented mirror apparatus for imaging and method of using the same
CN103226240B (zh) * 2013-04-17 2015-04-15 同济大学 一种多通道正入射成像系统及其装调方法
DE102013223935A1 (de) 2013-11-22 2015-05-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem für die EUV-Belichtungslithographie
DE102014221175A1 (de) * 2014-10-17 2016-04-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für ein Projektionsbelichtungssystem
DE102014221313A1 (de) 2014-10-21 2016-04-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtung für die EUV-Projektionslithografie
KR20170086559A (ko) 2014-11-18 2017-07-26 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 투영 리소그라피를 위한 광학 서브시스템 및 투영 리소그라피를 위한 조명 광학 유닛
DE102014226917A1 (de) 2014-12-23 2015-12-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem für die EUV-Projektionslithographie
JP6324912B2 (ja) * 2015-01-27 2018-05-16 東芝テック株式会社 レンズミラーアレイ、光学ユニット及び画像形成装置
JP2018507437A (ja) 2015-02-19 2018-03-15 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． 放射源
US10580546B2 (en) * 2015-03-02 2020-03-03 Asml Netherlands B.V. Radiation system
DE102015212619A1 (de) * 2015-07-06 2017-01-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
DE102017205548A1 (de) 2017-03-31 2018-10-04 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Baugruppe zum Führen eines Ausgabestrahls eines Freie-Elektronen-Lasers
KR102001457B1 (ko) * 2018-03-12 2019-07-18 한국 천문 연구원 비축-포물면을 결정하는 방법
DE102018215505A1 (de) 2018-09-12 2018-10-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage
CN109683327B (zh) * 2018-12-06 2021-02-26 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 基于等离子体调控的光束焦斑整形及动态控制系统和方法
CN109613689A (zh) * 2018-12-24 2019-04-12 珠海博明软件有限公司 一种远心平行光源
US11543753B2 (en) * 2019-10-30 2023-01-03 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Tunable illuminator for lithography systems

Family Cites Families (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2910280C2 (de) * 1978-03-18 1993-10-28 Canon Kk Optische Abbildungssysteme
US4458302A (en) 1981-06-03 1984-07-03 Hitachi, Ltd. Reflection type optical focusing apparatus
JPS5964830A (ja) * 1982-10-05 1984-04-12 Canon Inc 照明装置
JPS59218729A (ja) * 1983-05-27 1984-12-10 Hitachi Ltd 投影露光装置
ATE121555T1 (de) * 1988-03-11 1995-05-15 Rosser Roy J Optische vorrichtungen und methoden für ihre herstellung.
US5222112A (en) 1990-12-27 1993-06-22 Hitachi, Ltd. X-ray pattern masking by a reflective reduction projection optical system
US5305054A (en) 1991-02-22 1994-04-19 Canon Kabushiki Kaisha Imaging method for manufacture of microdevices
JPH04353800A (ja) * 1991-05-31 1992-12-08 Olympus Optical Co Ltd 軟ｘ線顕微鏡
JP3102076B2 (ja) 1991-08-09 2000-10-23 キヤノン株式会社 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
JP3010844B2 (ja) * 1991-10-03 2000-02-21 株式会社ニコン Ｘ線反射鏡
JP3304378B2 (ja) 1992-02-25 2002-07-22 株式会社ニコン 投影露光装置、及び素子製造方法
US5581605A (en) 1993-02-10 1996-12-03 Nikon Corporation Optical element, production method of optical element, optical system, and optical apparatus
US5439781A (en) * 1993-05-10 1995-08-08 At&T Corp. Device fabrication entailing synchrotron radiation
US5339346A (en) 1993-05-20 1994-08-16 At&T Bell Laboratories Device fabrication entailing plasma-derived x-ray delineation
JP3093528B2 (ja) 1993-07-15 2000-10-03 キヤノン株式会社 走査型露光装置
US5677939A (en) * 1994-02-23 1997-10-14 Nikon Corporation Illuminating apparatus
JP3278317B2 (ja) * 1995-03-24 2002-04-30 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
US5512759A (en) * 1995-06-06 1996-04-30 Sweatt; William C. Condenser for illuminating a ringfield camera with synchrotron emission light
JPH0963943A (ja) 1995-08-23 1997-03-07 Nikon Corp 照明光学装置および該装置を備えた露光装置
US6038279A (en) 1995-10-16 2000-03-14 Canon Kabushiki Kaisha X-ray generating device, and exposure apparatus and semiconductor device production method using the X-ray generating device
US5757882A (en) 1995-12-18 1998-05-26 Osmic, Inc. Steerable x-ray optical system
DE59700582D1 (de) * 1996-01-10 1999-11-25 Bastian Niemann Kondensor-monochromator-anordnung für röntgenstrahlung
JPH09251097A (ja) * 1996-03-15 1997-09-22 Nikon Corp Ｘ線リソグラフィー用反射縮小結像光学系
JP3862347B2 (ja) 1996-04-11 2006-12-27 キヤノン株式会社 Ｘ線縮小露光装置およびこれを利用したデバイス製造方法
DE19716794A1 (de) 1996-04-22 1997-10-30 Nikon Corp Verfahren und Vorrichtung zur Nah-Typ-Mikrolithographie
JP3284045B2 (ja) * 1996-04-30 2002-05-20 キヤノン株式会社 Ｘ線光学装置およびデバイス製造方法
JPH1062710A (ja) 1996-08-22 1998-03-06 Nikon Corp 照明光学系
JPH1092727A (ja) 1996-09-11 1998-04-10 Canon Inc 投影露光装置
JPH10275771A (ja) 1997-02-03 1998-10-13 Nikon Corp 照明光学装置
JP3259657B2 (ja) 1997-04-30 2002-02-25 キヤノン株式会社 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
JPH1152289A (ja) 1997-08-05 1999-02-26 Minolta Co Ltd 二次元照明光学系及びこれを用いた液晶プロジェクター
US5920380A (en) 1997-12-19 1999-07-06 Sandia Corporation Apparatus and method for generating partially coherent illumination for photolithography
JP4238390B2 (ja) * 1998-02-27 2009-03-18 株式会社ニコン 照明装置、該照明装置を備えた露光装置および該露光装置を用いて半導体デバイスを製造する方法
US6947120B2 (en) * 1998-05-05 2005-09-20 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
EP0955641B1 (de) * 1998-05-05 2004-04-28 Carl Zeiss Beleuchtungssystem insbesondere für die EUV-Lithographie
DE19903807A1 (de) 1998-05-05 1999-11-11 Zeiss Carl Fa Beleuchtungssystem insbesondere für die EUV-Lithographie
US6438199B1 (en) * 1998-05-05 2002-08-20 Carl-Zeiss-Stiftung Illumination system particularly for microlithography
US6118577A (en) * 1998-08-06 2000-09-12 Euv, L.L.C Diffractive element in extreme-UV lithography condenser
JP2000091220A (ja) 1998-09-08 2000-03-31 Nikon Corp 投影露光装置及び投影露光方法
US6186632B1 (en) * 1998-12-31 2001-02-13 The Regents Of The University Of California Condenser for ring-field deep-ultraviolet and extreme-ultraviolet lithography
US6398374B1 (en) * 1998-12-31 2002-06-04 The Regents Of The University Of California Condenser for ring-field deep ultraviolet and extreme ultraviolet lithography
US6195201B1 (en) 1999-01-27 2001-02-27 Svg Lithography Systems, Inc. Reflective fly's eye condenser for EUV lithography
EP1200879B1 (de) * 1999-07-30 2007-06-20 Carl Zeiss SMT AG Steuerung der Beleuchtungsverteilung in der Austrittspupille eines EUV-Beleuchtungssystems
US6285737B1 (en) * 2000-01-21 2001-09-04 Euv Llc Condenser for extreme-UV lithography with discharge source

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BE2016C018I2 (ja)
BE2012C026I2 (ja)
BE2012C016I2 (ja)
BE2009C057I2 (ja)
JP2002541963A5 (ja)
JP2001132374A5 (ja)
JP2002537964A5 (ja)
BRPI0113372A8 (ja)
CH694022C1 (ja)
BR0112866A2 (ja)
BY5768C1 (ja)
CN3135639S (ja)
CN3141398S (ja)
AU2001294354A8 (ja)
BY4905C1 (ja)
AU2000276891A8 (ja)
AU2000271150A8 (ja)
CN3133795S (ja)
CN3133951S (ja)
CN3134542S (ja)
CN3134543S (ja)
CN3135488S (ja)
CN3135489S (ja)
CN3135585S (ja)
AU2000270908A8 (ja)