JP2003505476A

JP2003505476A - 高選択性除草剤フェノキシプロピオン酸アルコキシカルボニルアニリド化合物及びその製造方法

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Publication number: JP2003505476A
Application number: JP2001513227A
Authority: JP
Inventors: テワンキム; ヘソンチャン; ヨンクワンコ; ジェウクリュ; ジェチョンウー; ドンワンクー; テ−ジューンキム
Original assignee: Dongbu Hannong Chemical Co Ltd
Current assignee: DB HiTek Co Ltd
Priority date: 1999-08-03
Filing date: 2000-07-31
Publication date: 2003-02-12
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Also published as: US6489268B1; WO2001008479A2; ATE250855T1; ES2211573T3; CN100334949C; JP3889967B2; DK1206187T3; BR0012933B1; WO2001008479A3; KR20010049975A; KR100398083B1; CN1402614A; AR022352A1; AU6186800A; CA2378795C; EP1206187A2; BR0012933A; CA2378795A1; DE60005694D1; EP1206187B1

Abstract

(57)【要約】本発明は、高選択除草剤フェノキシプロピオン酸アルコキシカルボニルアニリド化合物とその製造方法、稲作において発生するヒエを防除する用途、これらの化合物を含む除草剤組成物に関する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】（発明の属する技術分野）本発明は、下記一般式（１）で表されるフェノキシプロピオン酸アルコキシカ
ルボニルアニリド化合物とその製造方法、稲作において発生するヒエを防除する
用途、これらの化合物を含む除草剤組成物に関する。

【化１８】（式中、Ｒは、水素原子；メチル基；またはエチル基を示し；Ｒ^１は、水素原子；Ｃ₁〜Ｃ_６アルキル基；ヒドロキシ基、カルボキシル基、
およびハロゲン原子から選ばれた置換基で１〜３個置換されたＣ₁〜Ｃ_６アルキ
ル基；Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基；Ｃ_３〜Ｃ_４アルケニル基；Ｃ_３〜Ｃ_４アル
キニル基；またはＣ_２〜Ｃ_４アルコキシアルキル基を示し；ｎは１、または２の整数を示し、ｎが２の場合Ｒ^１は各々異なる置換体の組合
せであってもよい。）

【０００２】（従来の技術）米国特許第４，１３０，４１３号には、下記一般式（２）で表される化合物が
開示されている。

【化１９】 [式中、（Ｒ_１）_ｍは水素原子、ハロゲン原子、ＣＦ_３、ＮＯ_２、ＣＮ、アルキ
ル基などであり；ＡはＯ、Ｓ、ＮＨなどであり；Ｒ_２は水素原子、またはアルキ
ル基であり；Ｚは様々な基のうち、

【外１】（この際、Ｒ_３とＲ_４は同じであるか、異なっているものであって、水素原子
、Ｃ₁〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ₁〜Ｃ_６ヒドロキシアルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_６シクロア
ルキル基、Ｃ₁〜Ｃ_４アルコキシ基、またはフェニル基であって、Ｃ₁〜Ｃ_４アル
キル基、Ｃ₁〜Ｃ_６アルコキシ基、ハロゲンおよびＣＦ_３から選ばれた１〜３個
の置換基で置換されたもの）を示す]。

【０００３】米国特許第４，５３１，９６９号には、下記一般式(３)で表される化合物が開
示されている。

【化２０】 [（式中、Ｒ_５は

【外２】（この際、Ｒ_６は水素原子、ハロゲンなどであり、Ｒ_７は水素原子、アルキル
基などであり）などを示し；Ｚは前記で定義した通りである）]。

【０００４】米国特許第５，２５４，５２７号には、下記一般式(４)で表される化合物が開
示されている。

【化２１】（式中、Ｒ_５およびＺは各々前記で定義した通りである。）

【０００５】日本国特開平２−１１５８０号には、下記一般式(５)で表される化合物が開示
されている。

【化２２】（式中、Ｌは低級アルキル基、ハロゲン原子、メトキシ基、メトキシフェノキシ
基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、メチルビニル基を示し；ｎは０〜３の整
数を示す）。

【０００６】米国特許第４，９６８，３４３号には、下記一般式(６)で表される化合物が開
示されている。

【化２３】

【０００７】以上述べた特許以外に日本国特開昭５３−４０７６７号と昭５４−１１２８２
８号にもフェノキシプロピオン酸アミド誘導体が除草活性を有していると記述さ
れている。

【０００８】しかし、前述の従来技術を含めていずれの文献においても、上記一般式（１）
の化合物の合成が教示されておらず、その除草活性が試験されていない。また、
イネに対して優れた選択性を示し、かつ稲作において発生するヒエを良好に防除
するという事実は知られていない。

【０００９】（発明が解決しようとする課題）現在、稲作には様々な田除草剤が使用されているが、いまだに稲作において最
も問題となっている雑草はヒエである。したがって、水田のヒエを良好に防除する薬剤の開発が、稲作に従事する農夫
により、最も強く要求されている。特に、田植え後処理するこれまでに開発され
た従来の除草剤等は水田のヒエ発生を効果的に抑制できないため、水田のヒエが
イネの生育中期に再度生え、イネの収穫に大きな被害を与えている。田で発生す
るヒエはイネの収穫量に大きな影響を及ぼすが、たとえば、１ｍ^２当りヒエ１株
が発生する場合のイネ収穫量の減少は２％程であり、１ｍ^２当りヒエ５株が発生
する場合のイネ収穫量の減少は１０％程であり、１０株の場合は１９％、２０株
の場合は３５％程のイネ収穫量の減少をもたらすと報告されている。

【００１０】イネの収穫量に大きな損害を与えるヒエの防除目的に、数多くの田除草剤が使
用されてきている。しかしながら、除草活性により幅があり、環境にやさしい特
性及び優れた費用効果を有する除草剤が、依然として要求されている。

【００１１】（課題を解決するための手段）本発明者らは、このような水田のヒエを効果的に防除できる除草剤を発見する
ために鋭意研究した結果、フェノキシプロピオン酸アルコキシカルボニルアニリ
ド化合物のうちイネに対して高い安定性を示し、かつヒエ防除効果に優れた誘導
体を見出すことにより本発明を完成するに至った。このような効能を示す本発明
は従来の発明とは明確に区別される。

【００１２】本発明は、イネに極めて安全で、かつヒエの防除活性に優れた下記一般式（１
）で表される新規なフェノキシプロピオン酸アルコキシカルボニルアニリド化合
物をその特徴とする。

【化２４】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々前記で定義した通りである）。

【００１３】（発明の実施の形態）本発明による前記一般式（１）で表される化合物をより具体的に例示すると次
の表１の通りである。

【００１４】

【表１】

【００１５】以上述べたような本発明による前記一般式（１）で表される化合物は、通常の
有機合成方法を応用して下記反応式１に示すように、下記一般式(７)で表される
化合物と一般式（８）で表される化合物を結合反応させて製造できる。

【化２５】式中、Ｘ´はＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒまたはフェノキシ基などの脱離基を示し；Ｒ、Ｒ ^１、およびｎは各々前記で定義した通りである）。

【００１６】前記反応式１による製造方法では、トリフェニルホスフィン、１，３−ジシク
ロカルボジイミドなどの結合剤とトリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基を反応させて製造できる。この際、反応温度は０〜１００℃の適当な温度を保持
し、稀釈溶媒としてはテトラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸エチル、アセ
トニトリル、トルエン、キシレン、ヘキサン、塩化メチレン、四塩化炭素、ジク
ロロエタンなどの不活性溶媒を使用する。反応終了後、生成物は、溶媒を蒸発さ
せた後、残滓をクロマトグラフィー方法で分離精製して得られる。

【００１７】他の製造方法では、下記反応式２に示すように一般式(９)で表される化合物を
一般式（１０）で表される化合物でアルキル化反応させて一般式（１）の化合物
が得られる。

【化２６】（式中、Ｘ"はＣｌ、Ｂｒ、Ｉ、ベンゼンスルホニルオキシ基、トルエンスルホ
ニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、または低級硫酸アルキル基を示し；
Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々前記で定義した通りである）。

【００１８】前記反応式２による反応は、アニリドのＮＨから水素を引き抜ける強塩基の存
在下で反応させることが好ましいが、たとえば、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＬｉＯＨ、
ＮａＨ、ｎ-BuLi、ＬＤＡなどのような強塩基が好ましい。反応温度は、−７８
〜５０℃の範囲を保持し、溶媒としては、エチルエーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフランなどのエーテル類とヘキサンなどの炭化水素溶媒などのように反応
に影響を及ぼさない不活性溶媒が好ましい。

【００１９】また他の方法では、下記反応式３に示すように、下記一般式（１１）で表され
る化合物と一般式（１２）で表される化合物を塩基の存在下で反応させて一般式
（１）の化合物を製造できる。

【化２７】（式中、Ｙ'はハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ、ハロアルキルスルホ
ニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ基、またはトルエンスルホニルオキシ基
を示し；Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々前記で定義した通りである。）

【００２０】前記反応式３による製造方法では、塩基としてたとえば、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
などのアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどの
アルカリ金属の重炭酸塩類などの無機塩基類、またはトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリン、ピリジン、１，８−ジアザビシクロ[５，４，０]ウンデ−
７−センなどの有機塩基類が使用できる。

【００２１】また、必要に応じてテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド、１８−クラウ
ン−６[1,4,7,10,13,16−ヘキサオクタシクロオクタデカン]などの相間移動触媒
を添加することにより、目的とする反応を迅速に終結することもできる。また、
この反応は、必要に応じて１種または２種以上の適当な溶媒の存在下で行い得る
が、この際使用可能な溶媒としては不活性有機溶媒、たとえば、アセトンなどの
ケトン類、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類、石油
エーテル、リグロインなどの脂肪族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンなどのエーテル類；アセトニトリル、プロピオニトリルな
どのニトリル類、またはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類などが使用可能である。反応温
度は０℃から反応が行われる還流温度までの任意の温度範囲であり、好ましくは
２５℃〜１００℃範囲である。反応時間は１〜２４時間反応させる場合よい収率
で目的物が得られる。

【００２２】また他の製造方法では、下記反応式４に示すように、一般式（１３）で表され
る化合物と一般式（１４）で表される化合物を塩基の存在下で反応させて一般式
（１）で表される化合物を製造できる。

【化２８】（式中、Ｙ'、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々前記で定義した通りである。）前記反応式４による製造方法では、塩基としてたとえば、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムなどのアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなど
のアルカリ金属の重炭酸塩類などの無機塩基類、またはトリエチルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、ピコリン、キノリン、１，８−ジアザビシク
ロ[５，４，０]ウンデ−７−センなどの有機塩基類が好ましい。

【００２３】また、必要に応じてテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド、１８−クラウ
ン−６[1,4,7,10,13,16−ヘキサオクタシクロオクタデカン]などの相間移動触媒
を添加することにより反応を促進することができる。さらに、必要に応じて適当な１種または２種以上の稀釈溶媒下で行い得るが、
この際使用可能な溶媒としては不活性有機溶媒、たとえば、アセトン、ブタノン
などのケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族
炭化水素類；石油エーテル、リグロインなどの脂肪族炭化水素類；ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類；アセトニトリル、プ
ロピオニトリルなどのニトリル類；またはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド溶媒類が好まし
い。反応温度は０℃から反応溶媒の還流温度までの任意の温度であり、好ましく
は２０℃〜１００℃範囲である。反応時間は、１〜２４時間反応させる場合よい
収率で目的物が得られる。前記で例示した方法によって一般式（１）の化合物を製造できるが、特にＲ^１がＨの化合物の場合は通常のエーテル基の加水分解方法によって得られる。

【００２４】（実施例）以下、本発明を下記実施例によってより詳しく説明するが、本発明はこれらに
よって限定されるものではない。実施例１:Ｎ−(３−エトキシカルボニルフェニル）−２−ブロモ−プロピオンア
ミドの合成２−ブロモプロピオン酸(3.4 g, 0.022 mol)と３−アミノ安息香酸エチルエス
テル(3.96 g, 0.024 mol)をクロロホルム５０ｍｌに溶解した後、反応物の温度
を０℃に冷却した。ジシクロヘキシルカルボジイミド(5 g, 0.024 mol)をＣＨＣ
ｌ_３１０ｍｌに溶解した溶液を注射器を用いて徐々に注入した。反応混合物の
温度を常温まで徐々に上げた後、常温で１時間攪拌した。反応混合物中に溶けな
い固体を濾過した後、固体濾過物をＣＨＣｌ_３２０ｍｌで２回洗浄した。濾
過液を減圧蒸留した後カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ｎ−
ヘキサン＝１／５)で精製して純粋な目的物５．２ｇを得た。¹ H-NMR(CDCl₃) : δ1.39(3H, t), 1.95(3H, d), 4.36(2H, q), 4.58(1H, q), 7.
37 〜 8.08(4H, m), 8.45(1H, br)

【００２５】実施例２：Ｎ−(３−エトキシカルボニルフェニル）−２−（４−ヒドロキシフ
ェノキシ）プロピオンアミドの合成Ｎ−（３−エトキシカルボニルフェニル）−２−ブロモ−プロピオンアミド(3
0 g, 0.1 mol)とヒドロキノン(10 g, 0.091 mol)、Ｋ_２ＣＯ_３(15.2 g, 0.11 mo
l)およびテトラ-ｎ-ブチルアンモニウムブロミド(1.5 g)を５００ｍｌのアセト
ニトリルに溶解した後、１０時間還流した。反応混合物の温度を常温に下げた後
、反応混合物中に溶けない固体を濾過して除去し、濾過液を減圧蒸留した後カラ
ムクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／２)で精製し
て純粋な目的物２７ｇを得た。¹ H-NMR(CDCl₃) : 1.38(3H, t), 1.58(3H, d), 4.34(2H, q), 4.65(1H, q), 6.7
〜8.27(8H, m), 8.4(1H, br)

【００２６】実施例３：２−[４−（６−クロロ−２−ベンズオキサゾリルオキシ）−フェノ
キシ]プロピオン酸−Ｎ−（３−エトキシカルボニルフェニル）アミドの合成Ｎ−（３−エトキシカルボニルフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェノキシ
）プロピオンアミド(13.2 g, 0.04 mol)と２，６−ジクロロベンズオキサゾール
(6.85 g, 0.036 mol)、Ｋ_２ＣＯ_３(6 g, 0.043 mol)およびテトラ-ｎ-ブチルア
ンモニウムブロミド(1 g)を２５０ｍｌのアセトニトリルに溶解した後６時間還
流した。反応混合物の温度を常温に下げた後、反応混合物中に溶けない固体を濾
過して除去し、濾過液を減圧蒸留した後カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒：
酢酸エチル／ｎ−ヘキサン=１／４)で精製して純粋な目的物１４．２ｇを得た。
m.p : 128〜130℃ ¹ H-NMR(CDCl₃) : δ1.4(3H, t), 1.67(3H, d), 4.4(2H, q), 4.8(1H, q), 7.05
〜8.04(11H, m), 8.29(1H, br)

【００２７】実施例４：２−[４−（６−クロロ−２−ベンズオキサゾリルオキシ）−フェノ
キシ]プロピオン酸−Ｎ−（３−エトキシカルボニルフェニル）アミドの合成２−[４−（６−クロロ−２−ベンズオキサゾリルオキシ）−フェノキシ]プロ
ピオン酸(346.7 mg, 1 mmol)をテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶媒した後、３−
アミノ安息香酸エチルエステル(165.19 mg, 1 mmol)、トリフェニルホスフィン(
393.4 mg, 1.5 mmol)、トリエチルアミン(0.15 ml, 1 mmol)とＣＣｌ_４(1 ml)を
順次入れ、６時間還流した。常温に温度を下げた後、反応混合物を５％ＨＣｌ
で酸性化した後、水を入れ、酢酸エチルで３回抽出した。抽出した有機溶媒層を
ＭｇＳＯ_４で乾燥、減圧蒸留した後、カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢
酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／４)で精製して純粋な目的物２５０ｍｇを得た。
¹H-NMR(CDCl₃) : δ1.4(3H, t), 1.67(3H, d), 4.4(2H, q), 4.8(1H, q), 7.05
〜8.04(11H, m), 8.29(1H, br)

【００２８】実施例５：２−[４−（６−クロロ−２−ベンズオキサゾリルオキシ）−フェノ
キシ]プロピオン酸−Ｎ−（３−エトキシカルボニルフェニル）アミドの合成２−[４−（６−クロロ−２−ベンズオキサゾリルオキシ）−フェノキシ]プロ
ピオン酸(0.693 g, 2 mmol)をベンゼン２０ｍｌに溶解した後、ＳＯＣｌ_２６
ｍｌを入れ、１０時間還流した。過量の塩化チオニルとベンゼンを減圧蒸留して
除去した。無水テトラヒドロフラン１０ｍｌ中に無水テトラヒドロフラン（10ｍ
ｌ）と３−アミノ安息香酸エチルエステル(0.33 g, 2 mmol)とを溶解させた溶液
を、前記反応混合物に０℃で徐々に滴加した。反応混合物を０℃で３０分間攪拌
した後、常温で１時間反応させ、水を入れて酢酸エチルで３回抽出した。抽出し
た有機溶媒層をＭｇＳＯ_４で乾燥、濾過、減圧蒸留した後、カラムクロマトグラ
フィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／４)で精製して純粋な目的物
０．７５ｇを得た。

【００２９】実施例６：２−[４−（６−クロロ−２−ベンズオキサゾリルオキシ）−フェノ
キシ]プロピオン酸−Ｎ−（３−エトキシカルボニルフェニル）−Ｎ−メチルア
ミドの合成２−[４−（６−クロロ−２−ベンズオキサゾリルオキシ）−フェノキシ]プロ
ピオン酸−Ｎ−（３−エトキシカルボニルフェニル）アミド(5.4 g, 11.2 mmol)
を無水テトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、温度を０℃に下げた後、６０％ＮａＨ(0.98 g, 24.4 mmol)と(CH₃)₂SO₄(1.41g, 11.2 mmol)を順次入れ、常
温で２時間攪拌した。反応混合物を０℃に冷却した後、３％ＨＣｌで酸性化し
た後、氷水を入れ、酢酸エチルで３回抽出し、ＭｇＳＯ_４で乾燥、濾過、減圧
蒸留し、カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン=１／
２)で精製して純粋な目的物３．２ｇを得た。

【００３０】実施例７：２−[４−（６−クロロ−２−ベンズオキサゾリルオキシ）−フェノ
キシ]プロピオン酸−Ｎ−（３−メトキシカルボニルフェニル）アミドの合成２−[４−（６−クロロ−２−ベンズオキサゾリルオキシ）−フェノキシ]プロ
ピオン酸(346.7 mg, 1mmol)と３−アミノ安息香酸メチルエステル（151.2 mg, 1 mmol）をテトラヒドロフラン１５ｍｌに溶解し、温度を−５℃に下げた後、１
，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド(226 mg, 1.1 mmol)を入れた。反応混合物の温度を常温まで徐々に上げた後、常温で２時間攪拌した。反応混
合物中に溶けない固体を濾過した後、固体濾過物をＴＨＦ１０ｍｌで２回洗浄
した。濾過液を減圧蒸留した後カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒：酢酸エチ
ル／ｎ−ヘキサン＝１／４)で精製して純粋な目的物２８０ｍｇを得た。 m.p : 135〜140℃¹ H-NMR(CDCl₃) : δ1.67(3H, d), 3.92(3H, s), 4.8(1H, q), 7.05〜8.08(11H,
m), 8.29(1H,br)

【００３１】実施例８〜１１前記実施例７の製造方法によって製造するが、但し、３−アミノ安息香酸メチ
ルエステルの代わりに対応するアミノ安息香酸エステルを用いて次の表２に示す
ような化合物を合成した。

【００３２】

【表２】

【００３３】 [製剤] 本発明による前記一般式（１）で表される化合物を除草剤として使用するため
には、本発明の化合物と農薬の製剤化に通常用いられる担体、界面活性剤、分散
剤、補助剤などを配合して各種水和剤、乳剤、各種粒剤、乳濁剤、液剤などの各
種形態に製剤化して使用する。これらの製剤は直接使用でき、適切な媒体に稀釈
して処理できる。噴霧容積量はヘクタール(ha)当り数百リットルないし数千リッ
トルまで使用できる。製剤は活性成分を重量比で約０．１％〜９９％まで含み得
るが、この際界面活性剤を約０．１％〜２０％範囲で含有させるか、または固体
または液体稀釈剤を０％〜９９．９％範囲で含ませ得る。これを簡略に要約する
と次の表３の通りである。

【００３４】

【表３】

【００３５】活性成分の比率は用途によって調節可能であり、活性成分に比べて界面活性剤
をさらに大きな比率で使用することが必要な場合もあり、製剤時に添加するかタ
ンク混合で使用できる。吸収力が高い固体稀釈剤は、水和剤に好適である。液状稀釈剤と溶剤は０℃で
も相分離が起らず、安定なものがいい。すべての製剤には、泡防止、固まり、腐
食、微生物の成長を防止するために小量の添加剤を加えてもよい。組成物を製造する方法は通常の方法であって、液剤は構成成分をただ混合すれ
ばよく、微細固状組成物はハンマーや流動製粉機で混合粉砕すればよい。乳濁剤
は湿式製粉機に混和処理して製造し、粒剤は活性物質を粒剤担体上に噴霧して製
造する。代表的製剤製造例を示すと次の通りである。

【００３６】製剤１：水和剤次の成分を完全に混合し、液体界面活性剤を固体成分上に噴霧しながら混合し
た。ハンマーミルで粉砕して粒径が１００μｍ以下になるようにした。活性成分(実施例３の化合物) ２０重量％ドデシルフェノールポリエチレングリコールエーテル２重量％ナトリウムリグニンスルホネート４重量％ナトリウムシリコンアルミネート６重量％モンモリロナイト６８重量％

【００３７】製剤２：水和剤次の成分を混合し、粒径が２５μｍ以下になるまでハンマーミルで粉砕した後
包装した。活性成分(実施例３の化合物) ８０重量％ナトリウムアルキルナフタレンスルホネート２重量％ナトリウムリグニンスルホネート２重量％合成無定形シリカ３重量％カオリナイト１３重量％

【００３８】製剤３：乳剤次の成分を混合し、均一に溶解して乳剤とした。活性成分（実施例３の化合物）３０重量％シクロヘキサノン２０重量％ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル１１重量％アルキルベンゼンスルホン酸カルシウム４重量％メチルナフタレン３５重量％

【００３９】製剤４：粒剤次の成分を均一に混合粉砕した後、この混合物１００重量部に水２０重量部を
加えて混合し、押出式造粒機を用いて１４〜３２メッシュの粒剤に加工した後乾
燥して粒剤とする。活性成分(実施例３の化合物) ５重量％ナトリウムラウリルアルコール硫酸エステル塩２重量％ナトリウムリグニンスルホネート５重量％カルボキシメチルセルロース２重量％硫酸カリウム１６重量％石膏７０重量％本発明の製剤は、実際使用においては必要に応じて適当な濃度に稀釈して散布
する。

【００４０】 [用途] 本発明の化合物は、イネの茎葉処理除草剤として高い活性を示し、特にヒエの
防除に優れるためイネに効果的である。本発明の除草剤は、有効成分としてヘクタール(ha)当り３０ｇ〜１ｋｇまで使
用できるが、好ましくは約５０ｇ〜４００ｇを使用することが好ましい。薬量の
選択は雑草発生量や生育程度、製剤などの要素によって決定する。また、本発明
の除草剤は単独で使用でき、他の除草剤や殺虫剤または殺菌剤と混合して使用で
きる。特に、ベンタゾン、キンクロラック、プロパニル、シンメトリン、２，４
−Ｄ、フェノキサプロップエチル、リニュロン、ＭＣＰＡ、アザフェニジン、カ
フェントラゾン、モリネート、チオベンカーブ、ペンジメタリン、ベンスルヒュ
ロンメチル、ピラゾスルヒュロンエチル、メトスルヒュロンメチル、チフェンス
ルヒュロンメチル、トリベニュロンメチル、トリフルラリン、アミドスルヒュロ
ン、ブロオキシニル、ブタクロ、メコプロップ、メトリビュジン、ビフェノック
ス、ベンヒュルゼイト、イソプロチュロン、シハロポップブチル、メフェナセト
、フェントラザミド、ピリミノバックメチル、ビスピリバックナトリウム、アジ
ムスルヒュロン、シクロスルファミュロン、ピアンカーからなる群から選択され
る一つまたはそれ以上の薬剤と混合して使用することも有用である。次に、本発明の化合物が示す雑草防除効果を試験した例を説明する。

【００４１】試験例１：茎葉処理試験土壌を充填した６００ｃｍ^２ポットにイネ、コムギ、ムギ、トウモロコシ、ワ
タ、キビ、ヒエ、メヒシバ、オオクサキビなど各植物の種子を播種した。２０〜
３０℃の温室内に保持したヒエが３葉期に達したとき、試験薬剤１重量部とアセ
トン５重量部および乳化剤１重量部の混合物に溶かし、水で稀釈して調剤した水
和剤をヘクタール(ha)当り2000ｌの比率で植物茎葉表面に散布した。活性化合物
の量は所望する特定量になるように選択した。薬効調査は薬剤処理後１４日目に
なる日に植物の損傷程度を薬剤を処理しなかった対照群と視覚的に比較して損傷
％として評価した。評価数値は次の通りである。０％無効果(薬剤を処理しなかったものと同じである) ２０％若干の効果７０％除草効果１００％全滅（完全枯死）前記試験結果から分かるように、本発明による一般式（１）で表される化合物
は、作物には高い選択性を示し、雑草には強力な殺草効果を示す。本試験に用いられた植物名を次の表４に示す。

【００４２】

【表４】

【００４３】本発明による一般式（１）で表される化合物のうち、次の表５に示す化合物に
対する除草活性効果を評価して次の表６〜表８に示す。

【００４４】

【表５】

【００４５】

【表６】

【００４６】

【表７】

【００４７】

【表８】

【００４８】（発明の効果）これらの試験の結果として、本発明の化合物は、イネに対する選択性とヒエに
対する除草活性に優れていることが分かる。この他にも、本発明による化合物は
、大豆、ジャガイモ、野菜類などに高い安全性を示し、雑草の防除に有用である
ことが明らかとなった。

【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書

【提出日】平成１３年６月２２日（２００１．６．２２）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【化１】（式中、Ｒは、水素原子；メチル基；またはエチル基を示し；Ｒ^１は、水素原子；Ｃ₁〜Ｃ_６アルキル基；ヒドロキシ基、カルボキシル基、
およびハロゲン原子から選ばれた置換基で１〜３個置換されたＣ₁〜Ｃ_６アルキ
ル基；Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基；Ｃ_３〜Ｃ_４アルケニル基；Ｃ_３〜Ｃ_４アル
キニル基；またはＣ_２〜Ｃ_４アルコキシアルキル基を示し；ｎは１、または２の整数を示し、ｎが２の場合Ｒ^１は各々異なる置換体の組合
せであってもよい。）

【化２】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々請求項１で定義した通りである）。

【化３】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々請求項１で定義した通りである）。

【化４】

【化５】

【化６】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々請求項１で定義した通りであり；Ｘ'はＯＨ
、Ｃｌ、Ｂｒ、またはフェノキシ基を示す）。

【化７】

【化８】

【化９】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々請求項１で定義した通りであり；Ｘ"はＣ
ｌ、Ｂｒ、Ｉ、ベンゼンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基、メ
タンスルホニルオキシ基、または低級硫酸アルキル基を示す）。

【化１０】

【化１１】

【化１２】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々請求項１で定義した通りであり；Ｙ'はハロ
ゲン原子、アルキルスルホニルオキシ、ハロアルキルスルホニルオキシ、ベンゼ
ンスルホニルオキシ基、またはトルエンスルホニルオキシ基を示す）。

【化１３】

【化１４】

【化１５】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々請求項１で定義した通りであり；Ｙ'はハロ
ゲン原子、アルキルスルホニルオキシ、ハロアルキルスルホニルオキシ、ベンゼ
ンスルホニルオキシ基、またはトルエンスルホニルオキシ基を示す）。

【化１６】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々請求項１で定義した通りである）。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＢＺ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者コヨンクワン韓国テジョン 305−333 ユソン−クウフン−ドン99 ハンビットアパートメント 102−1702 (72)発明者リュジェウク韓国テジョン 305−333 ユソン−クウフン−ドン99 ハンビットアパートメント 120−305 (72)発明者ウージェチョン韓国テジョン 302−162 ソ−クドマ −２ドン 193 キョンナムアパートメント 111−603 (72)発明者クードンワン韓国テジョン 305−333 ユソン−クウフン−ドン99 ハンビットアパートメント 128−604 (72)発明者キムテ−ジューン韓国テジョン 305−340 ユソン−クドリョン−ドンコンドンクワンリアパートメント６−503 Ｆターム(参考） 4C056 AA01 AB01 AC02 AD03 AE02 AF05 CA16 CC01 CD05 4H006 AA01 AB84 BJ50 BM10 BM73 BN30 BP30 BT32 BV25 4H011 AB01 AB02 BA01 BB10 BC05 BC07 BC18 BC19 BC20 DA14 DA16 DC04 DD03 DD04 DH03 DH09

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（１）で表されることを特徴とする除草活性化合物。【化１】（式中、Ｒは、水素原子；メチル基；またはエチル基を示し；Ｒ^１は、水素原子；Ｃ₁〜Ｃ_６アルキル基；ヒドロキシ基、カルボキシル基、
およびハロゲン原子から選ばれた置換基で１〜３個置換されたＣ₁〜Ｃ_６アルキ
ル基；Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基；Ｃ_３〜Ｃ_４アルケニル基；Ｃ_３〜Ｃ_４アル
キニル基；またはＣ_２〜Ｃ_４アルコキシアルキル基を示し；ｎは１、または２の整数を示し、ｎが２の場合Ｒ^１は各々異なる置換体の組合
せであってもよい。）
【請求項２】前記一般式（１）で表される化合物は、Ｒが水素原子、またはメ
チル基であり；Ｒ^１が水素原子、メチル基、またはエチル基であり；ｎ＝１であ
ることを特徴とする請求項１記載の除草活性化合物。
【請求項３】前記一般式（１）で表される化合物は、Ｒが水素原子、またはメ
チル基であり；Ｒ^１はメチル基、またはエチル基であり；ｎは１であり；ＣＯ_２Ｒ^１の置換位置が３、または４位置であることを特徴とする請求項１記載の除草
活性化合物。
【請求項４】前記一般式（１）で表される化合物は、Ｒが水素原子であり；Ｒ ^１がメチル基、またはエチル基であり；ｎは１であり；ＣＯ_２Ｒ^１の置換位置が
３位置であることを特徴とする請求項１記載の除草活性化合物。
【請求項５】前記一般式（１）で表される化合物は、Ｒが水素原子であり；Ｒ ^１がエチル基であり；ｎは１であり;ＣＯ_２Ｒ^１の置換位置が３位置であること
を特徴とする請求項１記載の除草活性化合物。
【請求項６】下記一般式（１）で表される化合物の有効量を散布してイネが育
っている田に発生するヒエをイネに実質的な害を与えないで防除する方法。【化２】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々請求項１で定義した通りである）。
【請求項７】前記一般式（１）で表される化合物は、Ｒが水素原子、またはメ
チル基であり；Ｒ^１が水素原子、またはエチル基であり；ｎは１であり；ＣＯ_２Ｒ^１の置換位置が３、または４位置であることを特徴とする請求項６記載の防除
方法。
【請求項８】前記一般式（１）で表される化合物は、Ｒが水素原子、またはメ
チル基であり；Ｒ^１がメチル基、またはエチル基であり；ｎは１であり；ＣＯ_２Ｒ^１の置換位置が３、または４位置であることを特徴とする請求項６記載の防除
方法。
【請求項９】前記一般式（１）で表される化合物は、Ｒが水素原子であり；Ｒ ^１がメチル基、またはエチル基であり；ｎは１であり；ＣＯ_２Ｒ^１の置換位置が
３位置であることを特徴とする請求項６記載の防除方法。
【請求項１０】前記一般式（１）で表される化合物は、Ｒが水素原子であり；
Ｒ^１がエチル基であり；ｎは１であり；ＣＯ_２Ｒ^１の置換位置が３位置であるこ
とを特徴とする請求項６記載の防除方法。
【請求項１１】下記一般式（１）で表される化合物と農業的に使用できる担体
、補助剤、界面活性剤、または他の除草剤化合物が含有されていることを特徴と
する除草剤組成物。【化３】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々請求項１で定義した通りである）。
【請求項１２】前記一般式（１）で表される化合物は、Ｒが水素原子、または
メチル基であり；Ｒ^１はメチル基、またはエチル基であり；ｎ＝１であることを
特徴とする請求項１１記載の除草剤組成物。
【請求項１３】前記一般式（１）で表される化合物は、Ｒが水素原子、または
メチル基であり；Ｒ^１がメチル基、またはエチル基であり；ｎは１であり；ＣＯ _２Ｒ^１の置換位置が３または４であることを特徴とする請求項１１記載の除草剤
組成物。
【請求項１４】前記一般式（１）で表される化合物は、Ｒが水素原子であり；
Ｒ^１がメチル基、またはエチル基であり；ｎは１であり；ＣＯ_２Ｒ^１の置換位置
が３位置であることを特徴とする請求項１１記載の除草剤組成物。
【請求項１５】前記一般式（１）で表される化合物は、Ｒが水素原子であり；
Ｒ^１がエチル基であり；ｎは１であり；ＣＯ_２Ｒ^１の置換位置が３位置であるこ
とを特徴とする請求項１１記載の除草剤組成物。
【請求項１６】下記一般式（７）で表される化合物と下記一般式（８）で表さ
れる化合物を反応させて製造することを特徴とする下記一般式（１）で表される
化合物の製造方法。【化４】【化５】【化６】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々請求項１で定義した通りであり；Ｘ'はＯＨ
、Ｃｌ、Ｂｒ、またはフェノキシ基を示す）。
【請求項１７】下記一般式（９）で表される化合物と下記一般式（１０）で表
される化合物を用いて製造することを特徴とする下記一般式（１）で表される化
合物の製造方法。【化７】【化８】【化９】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々請求項１で定義した通りであり；Ｘ"はＣｌ
、Ｂｒ、Ｉ、ベンゼンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基、メタ
ンスルホニルオキシ基、または低級硫酸アルキル基を示す）。
【請求項１８】下記一般式（１１）で表される化合物と下記一般式（１２）で
表される化合物を用いて製造することを特徴とする下記一般式（１）で表される
化合物の製造方法。【化１０】【化１１】【化１２】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々請求項１で定義した通りであり；Ｙ'はハロ
ゲン原子、アルキルスルホニルオキシ、ハロアルキルスルホニルオキシ、ベンゼ
ンスルホニルオキシ基、またはトルエンスルホニルオキシ基を示す）。
【請求項１９】下記一般式（１３）で表される化合物と下記一般式（１４）で
表される化合物を用いて製造することを特徴とする下記一般式（１）で表される
化合物の製造方法。【化１３】【化１４】【化１５】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々請求項１で定義した通りであり；Ｙ'はハロ
ゲン原子、アルキルスルホニルオキシ、ハロアルキルスルホニルオキシ、ベンゼ
ンスルホニルオキシ基、またはトルエンスルホニルオキシ基を示す）。
【請求項２０】下記一般式（１２）で表されることを特徴とする中間体化合物
。【化１６】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々請求項１で定義した通りであり；Ｙ'はハロ
ゲン原子、アルキルスルホニルオキシ、ハロアルキルスルホニルオキシ、ベンゼ
ンスルホニルオキシ基、またはトルエンスルホニルオキシ基を示す）。
【請求項２１】下記一般式（１４）で表されることを特徴とする中間体化合物
。【化１７】（式中、Ｒ、Ｒ^１、およびｎは各々請求項１で定義した通りである）。