JP2770458B2 - ５―置換―２，４―ジフェニルピリミジン誘導体、その製造法、それを有効成分とする除草剤およびその製造中間体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は新規な５−置換−2,4−ジフェニルピリミジ
ン誘導体、その製造法、それを有効成分とする除草剤お
よびその製造中間体に関するものである。

〈従来の技術および発明が解決しようとする課題〉 従来から数多くの除草剤が使用されているが、それら
は除草効力が不充分であったり、作物・雑草間の選択性
が劣ったりすることがあり必ずしも満足すべきものとは
言い難い。

これまでJ.Heterocyclic Chem.,28,77（1986）に2,4
−ジフェニル−５−メタンスルホニルピリミジン等が記
載されているが、化合物の生理活性については記載され
ていない。さらに、本発明の５−置換−2,4−ジフェニ
ルピリミジン誘導体についてはその化学構造、生理活性
ともに全く記載されていない。

〈課題を解決するための手段〉 本発明者らは優れた除草剤を開発すべく種々検討した
結果、下記一般式〔Ｉ〕で示される化合物が優れた除草
活性を有し、かつ、作物と雑草間に優れた選択性を示す
化合物であることを見出し本発明に至った。

即ち、本発明は一般式〔Ｉ〕 〔式中、Ｒ¹は水素原子、あるいはオルト位またはメ
タ位のハロゲン原子、低級アルキル基、低級ハロアルキ
ル基、低級アルコキシ基（不飽和結合を含んでいても良
く、また、低級アルコキシ基で置換されていても良
い）、低級アルキルチオ基、低級ハロアルコキシ基（不
飽和結合を含んでいても良い）、低級ハロアルキルチオ
基、フェノキシ基、低級アルキルカルボキシ基、低級ハ
ロアルキルカルボキシ基、低級アルキルスルホニルオキ
シ基、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基、ヒドロ
キシカルボニル基、アミノメチル基、ヒドロキシメチル
基または低級ハロアルキルスルホニルオキシ基を表わ
し、Ｒ²は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、
低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキル
チオ基、低級ハロアルキルチオ基、低級ハロアルコキシ
基またはニトロ基を表わす（ただし、Ｒ¹,R²が共に水素
原子であることはない。）。Ｒ³は低級アルキル基を表
わす。〕 で示される５−置換−2,4−ジフェニルピリミジン誘導
体（以下、本発明化合物と記す。）、その製造法、それ
を有効成分とする除草剤およびその製造中間体を提供す
るものである。

本発明化合物の製造法について以下に説明する。

（製法１） 本発明化合物は、一般式〔II〕 〔式中、Ｒ¹およびＲ²は前記と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物と、一般式〔III〕 Ｒ³OM 〔III〕 〔式中、Ｒ³は前記と同じ意味を表わし、Ｍは金属原
子を表わす。〕 で示される金属アルコキシドとを反応させることにより
製造される。

該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は20
〜100℃、反応時間の範囲は0.5〜５時間が標準的であ
り、反応に供される試剤の量は一般式〔II〕で示される
化合物１当量に対して、一般式〔III〕で示される金属
アルコキシドは通常１〜10当量である。

反応に用いられる溶媒としてはヘキサン、ヘプタン、
リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素
類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等のアルコール類、酢酸エチル、
酢酸ブチル等のエステル類、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、アセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシ
ド等の硫黄化合物などあるいはそれらの混合物があげら
れる。

また、一般式〔III〕で示される金属アルコキシドと
してはナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等
のアルカリ金属アルコキシドがあげられる。

反応終了後の反応液は、誘起溶媒抽出および濃縮等の
通常の後処理を行うことにより目的の本発明化合物
〔Ｉ〕が得られる。また、必要により、クロマトグラフ
ィー、再結晶等の操作を行うこともできる。

（製法２） 一般式〔Ｉ−１〕 〔式中、Ｒ⁴はオルト位またはメタ位の低級アルコキ
シ基または低級ハロアルコキシ基を表わし、Ｒ²および
Ｒ³は前記と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物は、一般式〔IV〕 〔式中、Ｒ²およびＲ³は前記と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物と、ハロゲンで置換されていても良い
低級オレフィンとを反応させることにより製造される。

この反応は、通常、溶媒中、塩基の存在下で行い、反
応温度の範囲は30〜150℃、反応時間の範囲は１〜100時
間であり、反応に供される試剤の量は、一般式〔IV〕で
示される化合物１当量に対してハロゲンで置換されてい
ても良い低級オレフィンが５〜30当量、塩基は１〜10当
量である。

溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石
油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル等のエーテル類、アセトニトリル、イソブチロニトリ
ル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、アセ
トアミド等の酸アミド、水等あるいは、それらの混合物
があげられる。

塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無
機塩基があげられる。

反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の
通常の後処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィ
ー、蒸留、再結晶等の操作によって精製することによ
り、目的化合物〔Ｉ−１〕を得ることができる。

（製法３） 本発明化合物のうち一般式〔Ｉ−２〕 〔式中、Ｒ⁵はオルト位またはメタ位の低級アルキル
スルホニルオキシ基もしくは低級ハロアルキルスルホニ
ルオキシ基を表わし、Ｒ²およびＲ³は前記と同じ意味を
表わす。〕 で示される化合物は、一般式〔IV〕で示される化合物
と、一般式〔Ｖ〕 Ｒ⁶−Cl 〔Ｖ〕 〔式中、Ｒ⁶は低級アルキルスルホニル基または低級
ハロアルキルスルホニル基を表わす。〕 で示される化合物とを反応させることにより製造され
る。

この反応は、通常、無溶媒または溶媒中、塩基の存在
下で行い、反応温度の範囲は０〜50℃、反応時間の範囲
は0.5〜５時間であり、反応に供される試剤の量は、一
般式〔IV〕で示される化合物１当量に対して一般式
〔Ｖ〕で示される化合物は１〜２当量、塩基は１〜５当
量である。

溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石
油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジ
エチル等のエステル類、ピリジン、N,N−ジメチルホル
ムアミド、アセトアミド等の酸アミド、あるいは、それ
らの混合物があげられる。塩基としてはピリジン等の有
機塩基があげられる。

反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の
通常の後処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィ
ー、蒸留、再結晶等の操作によって精製することによ
り、目的化合物〔Ｉ−２〕を得ることができる。

（製法４） 本発明化合物のうち、一般式〔Ｉ−３〕 〔式中、Ｒ⁷はオルト位またはメタ位の不飽和結合を
含んでいてもよい低級アルコキシ基を表わし、Ｒ²およ
びＲ³は前記と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物は、一般式〔IV〕で示される化合物と
一般式〔VI〕 Ｒ⁸−Ｘ 〔VI〕 〔式中、Ｒ⁸は低級アルキル基、低級アルケニル基ま
たは低級アルキニル基を表わし、Ｘはハロゲン原子を表
わす。〕 で示される化合物とを反応させることにより製造され
る。

この反応は、通常、溶媒中、塩基の存在下で行い、反
応温度の範囲は20〜150℃、反応時間の範囲は0.5〜50時
間であり、反応に供される試剤の量は、一般式〔IV〕で
示される化合物１当量に対して一般式〔VI〕で示される
化合物は１〜20当量、塩基は１〜20当量である。

溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石
油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸
エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエ
ステル類、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニ
トリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド
等の酸アミド、水等があげられる。塩基としては水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、水素化ナトリウム等の無機塩基があげられる。

反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の
通常の後処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィ
ー、蒸留、再結晶等の操作によって精製することによ
り、目的の本発明化合物〔Ｉ−３〕を得ることができ
る。

（製法５） 本発明化合物のうち、一般式〔Ｉ−４〕 〔式中、Ｒ⁹は低級アシル基を表わし、Ｒ²およびＲ³
は前記と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物は、一般式〔IV〕で示される化合物と
一般式〔VII〕 Ｒ⁹−Ｏ−Ｒ⁹ 〔VII〕 〔式中、Ｒ⁹は前記と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物とを反応させることにより製造され
る。

この反応は、通常、無溶媒または溶媒中、酸触媒の存
在下で行い、反応温度の範囲は０〜100℃、反応時間の
範囲は0.5〜30時間であり、反応に供される試剤の量
は、一般式〔IV〕で示される化合物１当量に対して一般
式〔VII〕で示される化合物は１〜３当量である。

溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石
油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、
アセトアミド等の酸アミド、水等あるいはそれらの混合
物があげられる。酸触媒としては、塩酸、硫酸等の鉱
酸、酢酸等の有機酸があげられる。

反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の
通常の後処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィ
ー、蒸留、再結晶等の操作によって精製することによ
り、目的化合物〔Ｉ−４〕を得ることができる。

上記の製法で製造できる一般式〔Ｉ〕で示される本発
明化合物の一部を第１表にあげる。

本発明化合物を製造する際の原料化合物である一般式
〔II〕で示される化合物は、一般式〔VIII〕 〔式中、Ｒ¹は前記と同じ意味を表す。〕 で示される化合物と一般式〔IX〕 〔式中、Ｒ²は前記と同じ意味を表す。〕 で示される化合物とを反応させることにより製造され
る。

該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は20
〜100℃、反応時間の範囲は0.5〜５時間が標準的であ
り、反応に供される試剤の量は、一般式〔VIII〕で示さ
れる化合物１当量に対して一般式〔IX〕で示される化合
物は通常1.1〜1.2当量である。

反応に用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタ
ン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化
水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール等のアルコール類、N,N−ジ
メチルホルムアミド、アセトアミド等の酸アミド類、ジ
メチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物などあ
るいはそれらの混合物があげられる。

また、上記反応では一般式〔IX〕で示される化合物と
して該化合物の酸付加体（例えば塩酸塩）が通常用いら
れ、その際に炭酸カリウム等の無機塩、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコ
キシドなどの塩基が使用される。

反応後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の通常
の後処理を行い、必要によりクロマトグラフィー、再結
晶等の操作を行う。

尚、一般式〔VIII〕で示される化合物は、一般式
〔Ｘ〕 〔式中、Ｒ¹は、前記と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物とN,Nージメチルホルムアミドジメチ
ルアセタールとを無溶媒または溶媒中、通常20〜150℃
で0.5〜10時間反応させることにより製造される。

反応に供される試剤の量は、一般式〔Ｘ〕で示される
化合物１当量に対してN,Nージメチルホルムアミドジメ
チルアセタールは通常1.0〜1.5当量であり、使用される
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油
エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化
炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベン
ゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔ
ーブタノール、オクタノール、シクロヘキサノール、メ
チルセロソルブ、ジエチレングリコール、グリセリン等
のアルコール類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニ
トロ化合物、N,Nージメチルホルムアミド、アセトアミ
ド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン
等の硫黄化合物等あるいはそれらの混合物があげられ
る。

また、一般式〔IV〕で示される化合物は、一般式〔Ｉ
−５〕 〔式中、Ｒ¹⁰はオルト位またはメタ位のメトキシメト
キシ基を表わし、Ｒ²およびＲ³は前記と同じ意味を表わ
す。〕 で示される化合物を酸と反応させることにより製造され
る。

この反応は、通常、溶媒中、反応温度の範囲は20〜10
0℃、反応時間の範囲は１〜５時間であり、反応に供さ
れる試剤の量は、化合物〔Ｉ−５〕１当量に対して酸は
１〜10当量である。

溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石
油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン類、
メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコ
ール類、水等あるいはそれらの混合物があげられる。

酸としては、酢酸等の有機酸、塩酸、硫酸等の鉱酸、
フルオロボランエーテル錯体等のルイス酸等があげられ
る。

反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の
通常の後処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィ
ー、蒸留、再結晶等の操作によって精製することによ
り、目的化合物を得ることができる。

本発明化合物は、優れた除草効力を有し、かつ作物と
雑草間に優れた選択性を示す。すなわち本発明化合物
は、畑地の茎葉処理および土壌処理において、問題とな
る種々の雑草、例えば、ハコベ、ダイコン、ノハラガラ
シ、イチビ、アメリカキンゴジカ、フィールドパンジ
ー、ヤエムグラ、アメリカアサガオ、マルバアサガオ、
イヌホオズキ、オオイヌノフグリ等の広葉雑草、ヒエ、
イヌビエ、エノコログサ、メヒシバ、エンバク、カラス
ムギ等のイネ科雑草等に対して除草効力を有し、しかも
本発明化合物は、コムギ、オオムギ、イネ、ダイズ、ワ
タ、トウモロコシ等の主要作物に対して問題となるよう
な薬害を示さない。

また、本発明化合物は、水田の湛水処理において、問
題となる種々の雑草、例えば、タイヌビエ等のイネ科雑
草等に対して除草効力を有し、しかもイネに対しては問
題となるような薬害を示さない。

本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合
は、通常固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤
用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤等に
製剤して用いる。

これらの製剤には有効成分として本発明化合物を、重
量比で１〜80％、好ましくは２〜70％含有する。

固体担体としては、カオリンクレー、アッタパルジャ
イトクレー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライ
ト、タルク、珪藻土、方解石、クルミ殻粉、尿素、硫酸
アンモニウム、合成含水酸化珪素等の微粉末あるいは粒
状物があげられ、液体担体としては、キシレン、メチル
ナフタレン等の芳香族炭化水素類、イソプロパノール、
エチレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、ア
セトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、
大豆油、綿実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、N,
N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、水等があ
げられる。

乳化、分散、湿展等のために用いられる界面活性剤と
しては、アルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸
塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホ
コハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエー
テルリン酸エステル塩等の陰イオン界面活性剤、ポリオ
キシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエ
チレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ソル
ビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン
脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等があげられ
る。

その他の製剤用補助剤としては、リグニンスルホン酸
塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビアガ
ム、CMC（カルボキシメチルセルロース）、PAP（酸性リ
ン酸イソプロピル）等があげられる。

本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出芽前または
出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理する。土壌
処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があり、茎葉
処理には、植物体の上方からの処理のほか、作物に付着
しないように雑草に限って処理する局部処理等がある。

本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、
その処理量は、気象条件、製剤形態、処理時期、方法、
場所、対象雑草、対象作物等によっても異なるが、通常
１ヘクタールあたり1g〜8000g、好ましくは、5g〜2000g
であり、乳剤、水和剤、懸濁剤等は、通常その所定量を
１ヘクタールあたり100リットル〜1000リットルの（必
要ならば、展着剤等の補助剤を添加した）水で希釈して
処理し、粒剤等は、通常なんら希釈することなくそのま
ま処理する。

展着剤としては、前記の界面活性剤のほか、ポリオキ
シエチレン樹脂酸（エステル）、リグニンスルホン酸
塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸
塩、パラフィン等があげられる。

〈実施例〉 次に、製造例、製剤例および試験例をあげ、本発明を
さらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。

まず、本発明化合物〔Ｉ〕の製造例を示す。

製造例１ 〔本発明化合物（18）の製造〕 ２−（４−フルオロフェニル）−４−（３−トリフル
オロメチルフェニル）−５−メタンスルホニルピリミジ
ン2gとナトリウムメトキシド0.3gとをエチレングリコー
ルジメチルエーテル20mlに加え、５時間加熱還流した。
減圧下に溶媒を留去して得た残渣を水洗し、乾燥して２
−（４−フルオロフェニル）−４−（３−トリフルオロ
メチルフェニル）−５−メトキシピリミジン1.5gを得
た。

製造例２ 〔本発明化合物（53）の製造〕 ２−（４−フルオロフェニル）−４−（３−ヒドロキ
シフェニル）−５−メトキシピリミジン1.5gと水素化ナ
トリウム0.25gとをN,N−ジメチルホルムアミド15mlに加
えて70℃に加熱し、次に1,1−ジクロロ−2,2−ジフルオ
ロエチレン6.6gを加え３日間加熱還流した。反応終了後
氷水を加え、酢酸エチルで抽出し、濃縮後シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製し、２−（４−フル
オロフェニル）−４−〔３−（１′,1′−ジフルオロ−
２′,2′−ジクロロエトキシ）フェニル〕−５−メトキ
シピリミジン1.0gを得た。

製造例３ 〔本発明化合物（54）の製造〕 ２−（４−フルオロフェニル）−４−（３−ヒドロキ
シフェニル）−５−メトキシピリミジン1.2gとメタンス
ルホニルクロリド0.57gとをピリジン10mlに加え室温で
３時間撹拌した。反応終了後氷水を加え、酢酸エチルで
抽出し、濃縮後シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、２−（４−フルオロフェニル）−４−（３
−メタンスルホニロキシフェニル）−５−メトキシピリ
ミジン1.0gを得た。

製造例４ 〔本発明化合物（50）の製造〕 ２−（４−フルオロフェニル）−４−（３−ヒドロキ
シフェニル）−５−メトキシピリミジン1.2g、炭酸カリ
ウム5.5gおよび２−ブロモブタン5.5gをアセトン200ml
に加え２日間加熱還流した。減圧下に溶媒を留去して得
た残渣を水洗し、カラムクロマトグラフィーで精製し、
２−（４−フルオロフェニル）−４−（３−sec−ブト
キシフェニル）−５−メトキシピリミジン1.0gを得た。

製造例５ 〔本発明化合物（55）の製造〕 ２−（４−フルオロフェニル）−４−（３−ヒドロキ
シフェニル）−５−メトキシピリミジン1.2gと無水酢酸
0.5gとの混合物に96％硫酸１滴を加えた後、室温で20時
間撹拌した。反応終了後、氷水を加えて酢酸エチルで抽
出し、濃縮後シリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り精製し、２−（４−フルオロフェニル）−４−（３−
アセトキシフェニル）−５−メトキピリミジン1.0gを得
た。

上記の製造例に準じて製造された本発明化合物のいく
つかを第２表に示す。

次に一般式〔II〕で示される化合物の製造例を示す。

製造例６ 〔化合物（112）の製造〕 １−（３−トリフルオロメチルベンゾイル）−１−メ
タンスルホニル−２−（N,N−ジメチルアミノ）エテン6
gと４−フルオロベンズアミジン塩酸塩4gとを室温でメ
タノール30mlに溶解し、ナトリウムメトキシド1.2gを加
え１時間加熱還流した。減圧下に溶媒を留去して得た残
渣を水洗し、乾燥して２−（４−フルオロフェニル）−
４−（３−トリフルオロメチルフェニル）−５−メタン
スルホニルピリミジン6gを得た。

上記の製造例６に準じて製造された一般式〔II〕で示
される化合物のいくつかを第３表に示す。

次に一般式〔VIII〕で示される化合物の製造例を示
す。

製造例７ 〔化合物（205）の製造〕 ｍ−トリフルオロメチル−α−メタンスルホニルアセ
トフェノン2.5gとN,N−ジメチルホルムアミドジメチル
アセタール1.4gとをトルエン40mlに溶解し、２時間加熱
還流した。減圧下に溶媒を留去し、残渣をカラムクロマ
トグラフィーで処理して１−（３−トリフルオロメチル
ベンゾイル）−１−メタンスルホニル−２−（N,N−ジ
メチルアミノ）エテン3gを得た。

上記の製造例７に準じて製造された一般式〔VIII〕で
示される化合物のいくつかを第４表に示す。

次に一般式〔IV〕で示される化合物の製造例を示す。

製造例８ ２−（４−フルオロフェニル）−４−（３−メトキシ
メトキシフェニル）−５−メトキシピリミジン8gをテト
ラヒドロフラン150mlとイソプロピルアルコール150mlと
の混合溶媒に加え、さらに12N塩酸10mlを加え60℃３時
間撹拌した。減圧下に溶媒を留去して得た残渣を水洗、
乾燥して２−（４−フルオロフェニル）−４−（３−ヒ
ドロキシフェニル）−５−メトキシピリミジン7gを得
た。

次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は第２表の化
合物番号で示す。部は重量部である。

製剤例１ 本発明化合物（８）または（17）70部、リグニンスル
ホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部お
よび合成含水酸化珪素25部をよく粉砕混合して水和剤を
得る。

製剤例２ 本発明化合物（10）、（18）または（20）10部、ポリ
オキシエチレンスチリルフェニルエーテル14部、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸カルシウム６部、キシレン70部を
よく混合して乳剤を得る。

製剤例３ 本発明化合物（12）または（23）２部、合成含水酸化
珪素１部、リグニンスルホン酸カリシウム２部、ベント
ナイト30部およびカオリンクレー65部をよく粉砕混合
し、水を加えてよく練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を
得る。

製剤例４ 本発明化合物（20）25部、ポリオキシエチレンソルビ
タンモノオレエート３部、CMC3部、水69部を混合し、粒
度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤を得
る。

次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用で
あることを試験例で示す。尚、本発明化合物は、第２表
の化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物は第５表
の化合物記号で示す。

また、除草効力は、調査時の供試植物の出芽および生
育阻害の程度を肉眼観察し、化合物を供試していない場
合と全くないしほとんど違いがないものを「０」とし、
供試植物が枯死ないし生育が完全に阻害されているもの
を「10」として、０〜10の11段階に評価し、０、１、
２、３、４、５、６、７、８、９、10で示す。

試験例１ 直径10cm、深さ10cmの円筒型プラスチックポットに畑
地土壌を詰め、マルバアサガオ、イチビを播種し、覆土
した。製剤例１に準じて供試化合物を水和剤にし、その
所定量を１ヘクタール当たり、1000リットル相当の水で
希釈し、小型噴霧器で土壌表面に処理した。処理後20日
間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を第
６表に示す。

試験例２ 直径10cm、深さ10cmの円筒型プラスチックポットに畑
地土壌を詰め、ダイコン、イチビ、マルバアサガオを播
種し、温室内で10日間育成した。その後、製剤例２に準
じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を１ヘクタール
あたり1000リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、小
型噴霧器で植物体の上方から茎葉処理した。処理後20日
間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を第
７表に示す。

試験例３ 直径8cm、深さ12cmの円筒型プラスチックポットに水
田土壌を詰め、タイヌビエの種子を１〜2cmの深さに混
ぜ込んだ。湛水して水田状態にして５日後（タイヌビエ
の発生初期）に製剤例２に準じて供試化合物を乳剤に
し、その所定量を５ミリリットルの水で希釈し、水面に
処理した。処理後20日間温室内で育成し、除草効力を調
査した。

その結果を第８表に示す。

試験例４ 1/5000アールのワグネルポットに水田土壌を詰め、タ
イヌビエ、広葉雑草（アゼナ、キカシグサ、ミゾハコ
ベ）、ホタルイの種子を１〜2cmの深さに混ぜ込んだ。
湛水して水田状態にした後、３葉期のイネおよびミズガ
ヤツリの塊茎を移植し、温室内で育成した。５日後（タ
イヌビエの発芽始期）に製剤例２に準じて乳剤にした供
試化合物の所定量を10ミリリットルの水で希釈し水面に
処理し、その水深を4cmとした。処理後20日間温室内で
育成し、除草効力および薬害を調査した。その結果を第
９表に示す。なお、処理の翌日から２日間は、１日あた
りり3cmの水深に相当する量の漏水を行った。

〈発明の効果〉 本発明化合物は、畑地の土壌処理および茎葉処理、さ
らに水田の湛水処理において問題となる種々の雑草に対
して優れた除草効力を有し、主要作物と雑草間に優れた
選択性を示すことから除草剤の有効成分として種々の用
途に用いることができる。

フロントページの続き (72)発明者 水戸 信彰 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友 化学工業株式会社内 (72)発明者 浜田 達裕 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友 化学工業株式会社内 (72)発明者 吉田 亮 青森県三沢市大字三沢字淋代平（番地な し） 住友化学工業株式会社内 (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C07D 239/34 C07D 239/38 A01N 43/54 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＷＰＩＤＳ（ＳＴＮ)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 〔式中、Ｒ¹は水素原子、あるいはオルト位またはメタ
   位のハロゲン原子、低級アルキル基、低級ハロアルキル
   基、低級アルコキシ基（不飽和結合を含んでいても良
   く、また、低級アルコキシ基で置換されていても良
   い）、低級アルキルチオ基、低級ハロアルコキシ基（不
   飽和結合を含んでいても良い）、低級ハロアルキルチオ
   基、フェノキシ基、低級アルキルカルボキシ基、低級ハ
   ロアルキルカルボキシ基、低級アルキルスルホニルオキ
   シ基、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基、ヒドロ
   キシカルボニル基、アミノメチル基、ヒドロキシメチル
   基、または低級ハロアルキルスルホニルオキシ基を表わ
   し、Ｒ²は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、
   低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキル
   チオ基、低級ハロアルキルチオ基、低級ハロアルコキシ
   基またはニトロ基を表わす（ただし、Ｒ¹,R²が共に水素
   原子であることはない。）。 Ｒ³は低級アルキル基を表わす。〕 で示される５−置換−2,4−ジフェニルピリミジン誘導
   体。
2. 【請求項２】一般式 〔式中、Ｒ¹は水素原子、あるいはオルト位またはメタ
   位のハロゲン原子、低級アルキル基、低級ハロアルキル
   基、低級アルコキシ基（不飽和結合を含んでいても良
   く、また、低級アルコキシ基で置換されていても良
   い）、低級アルキルチオ基、低級ハロアルコキシ基（不
   飽和結合を含んでいても良い）、低級ハロアルキルチオ
   基、フェノキシ基、低級アルキルカルボキシ基、低級ハ
   ロアルキルカルボキシ基、低級アルキルスルホニルオキ
   シ基、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基、ヒドロ
   キシカルボニル基、アミノメチル基、ヒドロキシメチル
   基、または低級ハロアルキルスルホニルオキシ基を表わ
   し、Ｒ²は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、
   低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキル
   チオ基、低級ハロアルキルチオ基、低級ハロアルコキシ
   基またはニトロ基を表わす（ただし、Ｒ¹,R²が共に水素
   原子であることはない。）。〕で示される化合物と、一
   般式 Ｒ³OM 〔式中、Ｒ³は低級アルキル基を表わし、Ｍは金属原子
   を表わす。〕 で示される金属アルコキシドとを反応させることを特徴
   とする請求項１記載の５−置換−2,4−ジフェニルピリ
   ミジン誘導体の製造法。
3. 【請求項３】請求項１記載の５−置換−2,4−ジフェニ
   ルピリミジン誘導体を有効成分として含有することを特
   徴とする除草剤。
4. 【請求項４】一般式 〔式中、Ｒ¹水素原子、あるいはオルト位またはメタ位
   のハロゲン原子、低級アルキル基、低級ハロアルキル
   基、低級アルコキシ基（不飽和結合を含んでいても良
   く、また、低級アルコキシ基で置換されていても良
   い）、低級アルキルチオ基、低級ハロアルコキシ基（不
   飽和結合を含んでいても良い）、低級ハロアルキルチオ
   基、フェノキシ基、低級アルキルカルボキシ基、低級ハ
   ロアルキルカルボキシ基、低級アルキルスルホニルオキ
   シ基、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基、ヒドロ
   キシカルボニル基、アミノメチル基、ヒドロキシメチル
   基または低級ハロアルキルスルホニルオキシ基を表わ
   し、Ｒ²は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、
   低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキル
   チオ基、低級ハロアルキルチオ基、低級ハロアルコキシ
   基またはニトロ基を表わす（ただし、Ｒ¹,R²が共に水素
   原子であることはない。）。〕 で示される化合物。