JPH04327578A - フェノキシメチルピリミジン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents

フェノキシメチルピリミジン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤

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JPH04327578A
JPH04327578A JP3098511A JP9851191A JPH04327578A JP H04327578 A JPH04327578 A JP H04327578A JP 3098511 A JP3098511 A JP 3098511A JP 9851191 A JP9851191 A JP 9851191A JP H04327578 A JPH04327578 A JP H04327578A
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JP3098511A
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Norio Sasaki
則雄 佐々木
Sachio Kudo
祐夫 工藤
Michi Watanabe
美地 渡辺
Keiji Endo
遠藤 恵次
Shinji Kawaguchi
真二 川口
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Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D409/12Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01NPRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N43/00Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/48Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • A01N43/541,3-Diazines; Hydrogenated 1,3-diazines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D239/00Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
    • C07D239/02Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
    • C07D239/24Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D239/28Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D239/46Two or more oxygen, sulphur or nitrogen atoms
    • C07D239/52Two oxygen atoms

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、文献未記載の新規なフ
ェノキシメチルピリミジン誘導体およびそれを有効成分
として含有する除草剤に関する。
【0002】
【従来の技術】これまで、フェノキシピリミジン骨核を
有する除草剤の研究が長年にわたり続けられてきた(例
えば、特開昭54−92978号公報、特開昭54−1
17486号公報、特開昭54−55729号公報、特
開昭62−174059号公報等参照)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記文
献中に記載の化合物は、殺草スペクトラム、投下薬量、
作物選択性等の面から、実用上必ずしも満足できる性能
を有していず、さらに優れた除草剤の開発が望まれてい
る。本発明者等は、殺草スペクトラムが広く、除草効果
が高く、作物に対する安全性の優れた除草剤を開発すべ
く鋭意研究した結果、フェニル基とピリミジンの2位を
酸素原子及びメチレン基で結合したフェノキシメチルピ
リミジン誘導体が、一年生はもとより多年生の雑草に対
して優れた除草効果を示すとともに、作物に対して高い
安全性を有することを見い出し本発明を完成するに至っ
た。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の化合物は、下記
一般式(1)
【0005】
【化3】
【0006】(式中、Xはハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、低級アシルオキシ基、ニトロ基
を示し、nは0,1,2を示す。Yは水素原子、低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、置換
低級アルキル基、置換低級アルケニル基、置換低級アル
キニル基、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、
アルキル基で置換されていてもよいアンモニウムカチオ
ンを示す。R1 およびR2 は各々独立して低級アル
キル基を示す。)で表されるフェノキシメチルピリミジ
ン誘導体である。
【0007】上記一般式(1)において、Xはハロゲン
原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アシル
オキシ基、ニトロ基を示し、nは0,1,2を示すが、
これらの中で、Xが塩素原子、メチル基またはメトキシ
基であり、nが1の場合が最も好ましい。またフェニル
環上のXn の結合位置としては、nが1の場合は6位
が最も好ましい。
【0008】Yは水素原子、低級アルキル基、低級アル
ケニル基、低級アルキニル基、置換低級アルキル基、置
換低級アルケニル基、置換低級アルキニル基、アルカリ
金属原子、アルカリ土類金属原子、アルキル基で置換さ
れていてもよいアンモニウムカチオンを示し、置換低級
アルキル基、置換低級アルケニル基および置換低級アル
キニル基の置換基としては、ハロゲン原子、低級アルコ
キシ基、低級アルキルチオ基、カルボキシル基、カルボ
キシアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置
換されていてもよい複素環基が挙げられるが、これらの
中で、水素原子、メチル基、エチル基、アンモニウムカ
チオンまたはアルキル置換アンモニウムカチオンが好ま
しい。
【0009】R1 およびR2 は各々独立して低級ア
ルキル基を示すが、この中で、R1 およびR2 がと
もにメチル基である場合が最も好ましい。上記一般式(
1)における、X,Y,R1 およびR2 の定義にお
いて、それぞれの基および原子についての具体例を下記
に示す。 ハロゲン原子;例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等
、 低級アルキル基;例えば、メチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチル、第二ブチル、第三ブチ
ル基等の如き炭素数4以下の低級アルキル基等、低級ア
ルコキシ基;例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポ
キシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、第二ブトキシ、
第三ブトキシ基等の如き炭素数4以下の低級アルコキシ
基等、 低級アシルオキシ基;例えば、アセチルオキシ、プロピ
オニルオキシ基等の如き炭素数4以下の低級アシルオキ
シ基、 低級アルケニル基;例えば、ビニル、アリル、3−ブテ
ニル、1−メチル−2−プロペニル基等の炭素数4以下
の低級アルケニル基、 低級アルキニル基;例えば、プロパルギル、2−ブチニ
ル、3−ブチニル基等、 低級アルキルチオ基;例えば、メチルチオ、エチルチオ
、n−プロピルチオ、イソプロピルチオ、n−ブチルチ
オ、第二ブチルチオ、第三ブチルチオ基等の如き炭素数
4以下の低級アルキルチオ基、 置換されていてもよいフェニル基;フェニル、2−フル
オロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフ
ェニル、2−クロロフェニル、3−クロロフェニル、4
−クロロフェニル、2−メチルフェニル、3−メチルフ
ェニル、4−メチルフェニル、2−メトキシフェニル、
3−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、2,4
−ジクロロフェニル、2,4−ジメチルフェニル基等、
置換されていてもよい複素環基;例えば、ピリジル、チ
エニル、フリル、ピリミジル、ピラゾリル、イミダゾリ
ニル、トリアゾリル、チアゾリル基が挙げられ、これら
の置換基としては、ハロゲン、低級アルキル、低級アル
コキシ、低級アルキルチオ基等、 アルカリ金属原子;例えば、ナトリウム、カリウム等、
アルカリ土類金属原子;例えば、カルシウム、バリウム
等、 アルキル基で置換されていてもよいアンモニウムカチオ
ン;例えば、アンモニウム、メチルアンモニウム、ジメ
チルアンモニウム、トリメチルアンモニウム、エチルア
ンモニウム、ジエチルアンモニウム、トリエチルアンモ
ニウム、プロピルアンモニウム、ジイソプロピルアンモ
ニウム基等、前記一般式(1)で表される本発明化合物
を第1表に例示する。
【0010】
【表1】
【0011】
【表2】
【0012】
【表3】
【0013】
【表4】
【0014】本発明化合物はたとえば下記に示す方法(
A法、B法、C法、D法)により製造することができる
。 A  法
【0015】
【化4】
【0016】(式中X,n,Y,R1 およびR2 は
前記と同じ意味を示し、Zはハロゲン原子またはアルキ
ルスルホニルオキシ基を示す)。上記A法の反応式にお
いて、式(1)で表される化合物は、上記式(2)のサ
リチル酸誘導体を無溶媒ないし適当な溶媒の存在下、適
当な塩基を用いて、−78℃ないし溶媒の沸点の温度範
囲において、上記式(3)のピリミジン誘導体と、1〜
24時間反応させることにより製造することができる。
【0017】この反応の原料である化合物(3)は、ジ
ャーナル・オブ・ヘテロサイクリック・ケミストリー・
26巻913頁に従って合成される。この反応において
溶媒を使用する場合、その例としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒;ジクロル
メタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒;
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒;
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;酢酸
メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒;ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミ
ド等の非プロトン性極性溶媒;アセトニトリル、水など
を挙げることができる。
【0018】また、塩基としては、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等の炭酸塩類;水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等の水酸化金属類;ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート等の金属アルコラート類;水素化ナト
リウム、水素化カリウム等の水素化アルキル金属類;リ
チウムジエチルアミド、リチウムジイソプロピルアミド
、リチウムピストリメチルシリルアミド等のリチウムア
ミド類を挙げることができる。
【0019】B  法
【0020】
【化5】
【0021】(式中X,n,Y,R1 およびR2 は
前記と同じ意味を示し、Zは水酸基、ハロゲン原子、ア
ルキルスルホニルオキシ基、例えばメタンスルホニルオ
キシ基、エタンスルホニルオキシ基等またはアリールス
ルホニルオキシ基、例えばベンゼンスルホニルオキシ基
、パラトルエンスルホニルオキシ基等を示す)。上記反
応式において式(1)で表される化合物は、式(4)で
表されるカルボン酸と式(5)で示される化合物を適当
な縮合剤の存在下、無溶媒ないし適当な溶媒の存在下、
氷冷下ないし溶媒の沸点の温度範囲で、1〜48時間反
応させることにより製造することができる。
【0022】反応に使用される溶媒としては、ベンゼン
、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロルメ
タン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒド
ロフラン、14−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチ
ル、酢酸エチル等のエステル系溶媒ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ア
セトニトリル等の非プロトン性極性溶媒などを挙げるこ
とができる。
【0023】また縮合剤としては、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等
の炭酸塩類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水
酸化金属類、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラ
ート等の金属アルコラート、水素化ナトリウム、水素化
カリウム等の水素化アルキル金属、ジアザビシクロウン
デセン等の有機塩基、ジシクロヘキシルカルボジイミド
等の脱水縮合剤が挙げられる。
【0024】C  法
【0025】
【化6】
【0026】(式中X,n,Y,R1 およびR2 は
前記と同じ意味を示し、Wは低級アルコキシカルボニル
基、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル基
、低級アルキルスルホニル基、置換されていてもよいア
リールスルホニル基を示す)。上記反応式において、式
(1)で表される化合物は式(4)のカルボン酸を適当
な塩基の存在下、W−C1で表される適当な活性化剤と
反応させ、式(6)で表される活性中間体に導いてから
無触媒ないしは触媒の存在下、対応するアルコールと反
応させて製造することができる。
【0027】反応において使用される溶媒としては、例
えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶
媒、ジクロルメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化
水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエー
テル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトニト
リル、水などを挙げることができる。
【0028】塩基としてはピリジン、トリエチルアミン
等の有機塩基が挙げられ、活性化剤としては、クロル蟻
酸メチル、クロル蟻酸エチル等のクロル蟻酸アルキル類
、クロル蟻酸フェニル等のクロル蟻酸アリール類、塩化
ベンゼンスルホニル、塩化メタンスルホニル、塩化エタ
ンスルホニル等のアルキルスルホニルクロライド、塩化
トルエンスルホニル等のアリールスルホニルクロライド
等が挙げられる。触媒としてはジメチルアミノピリジン
、4−ピロリジノピリジン等が挙げられる。
【0029】D  法
【0030】
【化7】
【0031】(式中X,n,Y,R1 およびR2 は
前記と同じ意味を示す)。上記反応式において、式(4
)で表されるカルボン酸は、式(1)で表される化合物
を酸または塩基の存在下、水または水と適当な溶媒の混
合物中、氷冷ないし溶媒の沸点の温度範囲で、1〜48
時間加水分解を行なうことにより製造することができる
【0032】反応において使用される溶媒としては、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコー
ル系溶媒、ベンゼン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジ
クロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロ
ゲン系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエー
テル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、アセトニトリル等の非プロトン性極性溶媒等を挙げる
ことができる。
【0033】酸としては、塩酸、硫酸、リン酸等の無機
酸類、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等
のアリールスルホン酸類、三フッ化ホウ素、塩化アルミ
等のルイス酸を挙げることができ、塩基としては、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のア
ルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム等のアルカリ土
類金属水酸化物等を挙げることができる。
【0034】E  法
【0035】
【化8】
【0036】(式中X,nおよびYは前記と同じ意味を
示し、R3 ,R4 およびR5 はそれぞれ独立に、
水素原子、前記低級アルキル基または前記置換低級アル
キル基を示す)。上記反応式において、式(8)で表さ
れるカルボン酸塩は、式(4)で表されるカルボン酸と
式(7)で表されるアミンとを、溶媒の存在または非存
在下に反応させることにより製造することができる。
【0037】反応において使用される溶媒としては、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコー
ル系溶媒、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の炭化水素系溶媒、ジクロロエタン、クロロホルム、ジ
クロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶
媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶
媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、
酢酸エチル、アセトニトリル水等を挙げることができる
【0038】式(7)のアミンとしては、アンモニア、
メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エ
チルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、イソ
プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ブチルアミン
、イソブチルアミン、セカンダリーブチルアミン、ター
シャリーブチルアミン、ジブチルアミン、アミルアミン
、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、
ノニルアミン等のアルキルアミン類、アニリン、N−メ
チルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、N−エチル
アニリン、アニシジン等の芳香族アミン等が挙げられる
【0039】
【実施例】次に実施例を挙げて、本発明を更に具体的に
説明する。 実施例1 メチル  2−〔(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジ
ル)メチルオキシ〕ベンゾエート(化合物No.2)の
合成(A法) サリチル酸メチル  1.52g、2−ブロモメチル−
4,6−ジメトキシピリミジン2.33g、炭酸カリウ
ム1.6gを、ジメチルホルムアミド20ml中、60
℃で2時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸エ
チルで抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去したの
ち、シリカゲルクロマトグラフィーを用いて精製し、メ
チル  2−(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジル)
メチルオキシベンゾエート2.5gを得た(収率82%
)。
【0040】以下、反応原料を変え、上記と同様の方法
で前記第1表に示した化合物No.7,12,17,2
3,29,37,43,45,48,50,52,53
,57,61,66および77を合成した。これらの化
合物のNMRスペクトル及び/又は融点を第2表に示す
。なお、表中「−」は「未測定」を示す。
【0041】
【表5】
【0042】
【表6】
【0043】実施例2 メトキシカルボニルメチル  3,6−ジクロロ−2−
〔(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジル)メチルオキ
シ〕−ベンゾエート(化合物No.41)の合成(B法
) 3,6−ジクロロ−2−〔(4,6−ジメトキシ−2−
ピリミジル)メチルオキシ〕−ベンゾイックアシッド1
.18g、ブロモ酢酸メチル0.3g、炭酸カリウム0
.7gを10mlのジメチルホルムアミド中60℃で4
時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽
出、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去した後シリ
カゲルクロマトグラフィーを用いて精製し、メトキシカ
ルボニルメチル3,6−ジクロロ−2−〔(4,6−ジ
メトキシ−2−ピリミジル)メチルオキシ〕−ベンゾエ
ート1.19gを得た(収率85%)。
【0044】以下、反応原料を変え、上記と同様の方法
で前記第1表に示した化合物No.38,40,42,
69,70および71を合成した。これらの化合物のN
MRスペクトル及び/又は融点を第3表に示す。なお、
表中「−」は「未測定」を示す。
【0045】
【表7】
【0046】実施例3 エチル  6−クロロ−2−〔(4,6−ジメトキシ−
2−ピリミジル)メチルオキシ〕ベンゾエート(化合物
No.24)の合成(C法) 6−クロロ−2−〔(4,6−ジメトキシ−2−ピリミ
ジル)メチルオキシ〕−ベンゾイックアシッド1.0g
を、20mlのテトラヒドロフランに溶解し氷冷した。 この中に、テトラヒドロフラン1mlに溶解したトリエ
チルアミン0.35g  次いでテトラヒドロフラン1
mlに溶解したクロロ蟻酸エチル0.40gを加え、氷
冷下約30分攪拌した。次いで、エタノール1gとトリ
エチルアミン0.35gをテトラヒドロフラン2mlに
溶解した溶液を加え、約1時間かけて室温まで温度を上
げた。溶媒を留去した後、カラムクロマトグラフィーを
用いて精製し、エチル  6−クロロ−2−〔(4,6
−ジメトキシ−2−ピリミジル)メチルオキシ〕ベンゾ
エート1.0gを得た(収率92%)。
【0047】この化合物のNMRスペクトル(1H−N
MR:δ,CDCl3 中;ppm)は1.26(3H
,t),3,83(6H,s),4.26(2H,q)
,5.13(2H,s),5.83(1H,s),6.
66〜7.40(3H,m)であった。 実施例4 2−〔(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジル)メチル
オキシ〕ベンゾイックアシッド(化合物No.1)の合
成(D法) メチル  2−〔(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジ
ル)メチルオキシ〕ベンゾエート1.5gをエタノール
10mlに溶解した。この溶液に水10ml次いで1規
定の水酸化カリウム水溶液7mlを加え液が透明になる
まで攪拌した(約4時間)。反応液を水で希釈した後エ
ーテルで洗浄し、水層を1規定塩酸で中和した後クロロ
ホルムで抽出、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶
媒を留去して  2−〔(4,6−ジメトキシ−2−ピ
リミジル)メチルオキシ〕ベンゾイックアシッド  1
.3gを得た(収率91%)。
【0048】この化合物のNMRスペクトル(1H−N
MR:δ,CDCl3 中;ppm)は3.9(6H,
s),5.23(2H,s),5.93(1H,s),
6.8〜7.9(4H,m)であった。 実施例5 6−クロロ−2−〔(4,6−ジメトキシ−2−ピリミ
ジル)メチルオキシ〕ベンゾイックアシッド(化合物N
o.22)の合成(D法) エトキシメチル  6−クロロ−2−〔(4,6−ジメ
トキシ−2−ピリミジル)メチルオキシベンゾエート3
.8gをメタノール30mlおよび水10mlの混合溶
媒中で攪拌した中に、濃塩酸0.5mlを加え約2時間
室温で反応させた。反応液を水で希釈後クロロホルムで
抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して  
6−クロロ−2−〔(4,6−ジメトキシ−2−ピリミ
ジル)メチルオキシ〕ベンゾイックアシッド3.1gを
得た(収率95%)。
【0049】以下、反応原料を変え、上記と同様の方法
で前記第1表に示した化合物No.6,11,16,3
6,44,49および60を合成した。これらの化合物
のNMRスペクトル及び/又は融点を第4表に示す。な
お、表中「−」は「未測定」を示す。
【0050】
【表8】
【0051】実施例6 6−クロロ−2−〔(4,6−ジメトキシ−2−ピリミ
ジル)メチルオキシ〕ベンゾイックアシッドジエチルア
ミン塩(化合物No.75)の合成(E法)6−クロロ
−2−〔(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジル)メチ
ルオキシ〕ベンゾイックアシッド0.4gをテトラヒド
ロフラン5mlに溶解し、この溶液にジエチルアミン0
.11gを加え攪拌した後、溶媒を減圧留去して6−ク
ロロ−2−〔(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジル)
メチルオキシ〕ベンゾイックアシッドジエチルアミン塩
0.49gを得た。
【0052】以下、反応原料を変え、上記と同様の方法
で前記第1表に示した化合物No.33,54,73,
74および75を合成した。これらの化合物のNMRス
ペクトル及び/又は融点を第5表に示す。なお、表中「
−」は「未測定」を示す。
【0053】
【表9】
【0054】本発明の除草剤は、前記一般式(1)の新
規フェノキシメチルピリミジン誘導体を有効成分として
含有している。前記一般式(1)で表される本発明化合
物を除草剤として用いる場合には、それ自体既知の固体
ないし液体の担体もしくは希釈剤、界面活性剤その他の
製剤用補助剤と、それ自体既知の方法で混合して、通常
農薬として用いられる製剤形態、例えば、粒剤、乳剤、
水和剤、フロアブル剤等に調製して使用することが出来
る。また、他の農薬、例えば殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤
、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等と
混合して用いることができる。特に他の除草剤と混合使
用することにより、使用薬量を減少させ、また省力化を
もたらすのみならず、両薬剤の共力作用による殺草スペ
クトルの拡大並びに相乗作用による一層高い効果も期待
できる。
【0055】上記製剤に際して用い得る固体担体として
は、カオリナイト群、モンモリナイト群、イライト群あ
るいはポリグロスカイト群などで代表されるクレー類、
詳しくはパイロフィライト、アタパルジャイト、セピオ
ライト、カオリナイト、ベントナイト、サポナイト、バ
ーミキュライト、雲母やタルク等;石こう、炭酸カルシ
ウム、ドロマイト、けいそう土、方解石、マグネシウム
石灰、りん灰石、ゼオライト、無水ケイ酸、合成ケイ酸
カルシウム等のその他無機物質;大豆粉、タバコ粉、ク
ルミ粉、小麦粉、木粉、でんぷん、結晶セルロース等の
植物性有機物質;クマロン樹脂、石油樹脂、アルキッド
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレングリコール、ケ
トン樹脂、エステルガム、コーバルガム、ダンマルガム
等の合成または天然の高分子化合物;カルナウバロウ、
蜜ロウ等のワックス類あるいは尿素などが例示できる。
【0056】適当な液体担体としては、例えば、ケロシ
ン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィ
ン系もしくはナフテン系炭化水素;キシレン、エチルベ
ンゼン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水素
;トリクロルエチレン、モノクロルベンゼン、o−クロ
ルトルエン等の塩素化炭化水素;ジオキサン、テトラヒ
ドロフランのようなエーテル類;メチルエチルケトン、
ジイソブチルケトン、ジクロヘキサノン、アセトフェノ
ン、イソホロン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸アミル
、エチレングリコールアセテート、ジエチレングリコー
ルアセテート、マレイン酸ジブチル、コハク酸ジエチル
等のエステル類;n−ヘキサノール、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、シクロヘキサノール、ベン
ジルアルコール等のアルコール類;エチレングリコール
エチルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル
、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレング
リコールブチルエーテル等のエーテルアルコール類;ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶
媒あるいは水等が挙げられる。
【0057】そのほかに有効成分の乳化、分散、湿潤、
拡展、結合、崩壊性調節、有効成分安定化、流動性改良
、防錆等の目的で界面活性剤その他の補助剤を使用する
こともできる。使用される界面活性剤としては、非イオ
ン性、陰イオン性、陽イオン性および両性イオン性のい
ずれの化合物をも使用しうるが、通常は非イオン性およ
び(または)陰イオン性の化合物が使用される。
【0058】適当な非イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、オ
レイルアルコール等の高級アルコールにエチレンオキシ
ドを重合付加させた化合物;イソオクチルフェノール、
ノニルフェノール等のアルキルフェノールにエチレンオ
キシドを重合付加させた化合物;ブチルナフトール、オ
クチルナフトール等のアルキルナフトールにエチレンオ
キシドを重合付加させた化合物;パルミチン酸、ステア
リン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸にエチレンオキシド
を重合付加させた化合物;ドデシルアミン、ステアリン
酸アミド等のアミンにエチレンオキシドを重合付加させ
た化合物;ソルビタン等の多価アルコールの高級脂肪酸
エステルおよびそれにエチレンオキシドを重合付加させ
た化合物;エチレンオキシドとプロピレンオキシドをブ
ロック重合付加させた化合物等が挙げられる。
【0059】適当な陰イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫
酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩;スル
ホこはく酸ジオクチルエステルナトリウム、2−エチル
ヘキセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸
塩;イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メ
チレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニン
スルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム等のアリールスルホン酸塩などが挙げられる。
【0060】さらに本発明の除草剤には製剤の性能を改
善し、除草効果を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、
アルブミン、ニカワ、リグニンスルホン酸塩、アルギン
酸塩、アラビアゴム、カルボキシメチルセルロース、メ
チルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビ
ニルアルドール、ポリビニルピロリドン、ポリサッカラ
イド等の高分子化合物や他の補助剤を併用することもで
きる。
【0061】上記の担体および諸種の補助剤は製剤の剤
型、適用場面等を考慮して、目的に応じてそれぞれ単独
あるいは組合わせて適宜使用できる。このようにして得
られる各種製剤型における本発明の化合物の有効成分含
有率は製剤型により種々変化するものであるが、通常0
.1〜99重量%、好ましくは1〜80重量%が適当で
ある。
【0062】水和剤の場合は、例えば有効成分を通常2
5〜90重量%含有し、残部は固体担体、分散湿潤剤で
あって、必要に応じて保護コロイド剤、消泡剤等が加え
られる。粒剤の場合は、例えば有効成分を通常1〜35
重量%含有し、残部は固体担体及び界面活性剤等である
。有効成分は固体担体と均一に混合されているが、ある
いは固体担体の表面に均一に固着もしくは吸着されてお
り、粒の径は約0.2ないし1.5mm程度である。
【0063】フロアブル剤の場合は、例えば有効成分を
通常5〜50重量%含有しており、これに3ないし10
重量%の分散湿潤剤が含まれ、残部は水であり、必要に
応じて保護コロイド剤、防腐剤、消泡剤等が加えられる
。本発明の新規なメチルフェノキシピリミジン誘導体は
、前記一般式(1)の化合物のまま、あるいは上述した
様な任意の調製形態で施用することができる。
【0064】本発明の除草剤は、水田および畑地に生育
する発生前から生育期までの諸雑草に施用することがで
きる。その施用量は、前記一般式(1)で表される化合
物量(有効成分量)として、1ヘクタール当り0.01
〜10kg程度、好ましくは、0.1〜1kg程度が適
当であり、目的とする雑草の種類、生育段階、施用場所
、施用時期、天候等によって適宜に選択変更することが
できる。
【0065】次に、本発明の化合物を含有する除草剤の
数態様を製剤例を挙げて説明する。なお、下記実施例中
の「部」は重量基準である。 製剤例1(粒剤)   化合物No.22               
                       5部
  ベントナイト                 
                       50
部  タルク                   
                         
  42部  リグニンスルホン酸ソーダ      
                        2
部  ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル 
           1部以上を充分に混合した後、
適量の水を加えて混練し、押し出し造粒機を用いて造粒
して粒剤100部を得た。 製剤例2(水和剤)   化合物No.32               
                     20部 
 ケイソウ土                   
                       73
部  リグニンスルホン酸カルシウム        
                  5部  アルキ
ルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物      
    2部以上を混合し、ジェットミルで粉砕し、水
和剤100部を得た。 製剤例3(乳剤)   化合物No.57               
                     30部 
 キシレン                    
                        5
5部  シクロヘキサノン             
                       10
部  ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム    
              3部  ポリオキシエチ
レンアルキルアリールエーテル           
 2部以上を均一に混合溶解して乳剤100部を得た。 製剤例4(フロアブル剤)   化合物No.22               
                     30部 
 スルホコハク酸ジ−2−エチルヘキシルエステルナト
リウム塩                     
                         
          2部  ポリオキシエチレンノニ
ルフェニルエーテル              3部
  消泡剤                    
                         
   1部  プロピレングリコール        
                         
 5部  水                   
                         
      59部以上を湿式ボールミルで均一に粉砕
混合し、フロアブル剤100部を得た。
【0066】上述の実施例に準じて本発明の化合物を含
有する除草剤がそれぞれ製剤できる。
【0067】
【発明の効果】本発明の前記一般式(1)で表される、
フェノキシメチルピリミジン誘導体は、文献未記載の新
規な化合物である。本発明の前記一般式(1)で表され
る化合物は、フェニル基と4,6−ジメトキシピリミジ
ンの2位が、酸素原子およびメチレン基を介して結合し
た構造をとっていることが特徴であり、その構造的特徴
によって、優れた除草作用が発現するものと考えられる
【0068】本発明の前記一般式(1)で表される化合
物は、除草効果が極めて高く、かつ低薬量にて幅広い殺
草スペクトラムを有すると共に、栽培作物に対して優れ
た安全性を示すため農業上有用な除草剤となり得る。本
発明の化合物および除草剤は、水田及び畑地に生育する
発生前から生育期までの幅広い期間に諸雑草を有効に防
除できる。例えば、水田に発生するノビエ、タマガヤツ
リ、コナギ、アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ等の一年
生雑草及びマツバイ、ホタルイ、ヘラオモダカ、ウリカ
ワ、ミズガヤツリ、オモダカ、ヒルムシロ、シズイ、コ
ウキヤガラ、セリ、エゾノサヤヌカグサ、クサネム等の
多年生雑草を防除する事が出来る。
【0069】また、畑地に発生するヒエ、メヒシバ、オ
ヒシバ、エノコログサ、スズメノテッポウ、ハコベ、タ
デ類、ヒエ類、イチビ、シロザ、アメリカキンゴジカ、
オナモミ、ブタクサ、ナズナ、タネツケバナ、センダン
グサ、ヤエムグラ、ソバカズラ等の一年生雑草のみなら
ず、ハマスゲ、ヒルガオ、ジョンソングラス、シバムギ
等の多年生雑草にも卓効を示す。
【0070】更に、本発明の化合物および除草剤は、水
田、畑地のみならず、果樹園、桑園等の農耕地及び芝生
、畦畔等の非農耕地に発生する一年生及び多年生雑草を
有効に防除する事が出来る。しかも、本発明化合物は、
栽培作物に対して高い安全性を有しており、特にイネ、
トウモロコシ、コムギ、オオムギ等の有用禾本科作物及
び、ダイズ、ワタ等の有用広葉作物の生育に実用上問題
となる程度の薬害を与えない。
【0071】次に本発明除草剤の効果を試験例を挙げて
説明する。 試験例1(水田土壌処理) 面積170cm2 のプラスチックポットに適量の化成
肥料を混合した水田土壌を詰め、これに予め温室内で生
育させた2葉期の水稲(品種:コシヒカリ)を1株(2
本1株)移植し、更にノビエ、コナギ、アゼナ、ホタル
イの種子を播種した。
【0072】水稲移植及び雑草播種3日後に、第6表に
示す各化合物を製剤例2に準じて水和剤に調製し、水に
懸濁して、有効成分で1ha当り1.0kg又は5.0
kgの薬量をピペットで適下処理した。除草効果及び薬
害程度の調査は、薬剤処理30日後に下記の基準に従い
行った。その結果を第6表に示す。
【0073】     評点        除草効果       
                 薬害程度    
      無処理区に対する殺草率        
無処理区に対する薬害被害率            
    (%)                  
        (%)    0         
     0    1      0を越え10以下
    2      10を越え20以下    3
      20を越え30以下    4     
 30を越え40以下               
     同    5      40を越え50以
下                    左   
 6      50を越え60以下    7   
   60を越え70以下    8      70
を越え80以下    9      80を越え90
以下    10    90を越え100以下
【00
74】
【表10】
【0075】試験例2(水田生育期処理)面積170c
m2 のプラスチックポットに適量の化成肥料を混合し
た水田土壌を詰め、これに予め温室内で生育させた2葉
期の水稲(品種:コシヒカリ)を1株(2本1株)移植
し、更にノビエ、コナギ、アゼナ、ホタルイの種子を播
種した。
【0076】水稲移植及び雑草播種10日後に、ノビエ
1.5葉期に、第7表に示す各化合物を製剤例2に準じ
て水和剤に調製し、水に懸濁して、有効成分で1ha当
り1.0kg又は5.0kgの薬量をピペットで適下処
理した。除草効果及び薬害程度の調査は、薬剤処理30
日後に試験例1に記載の評価基準に従い行った。その結
果を第7表に示す。
【0077】
【表11】
【0078】試験例3(畑地発芽前処理)面積170c
m2 のプラスチックポットに適量の化成肥料を混合し
た畑地土壌を詰め、これに、ノビエ、メヒシバ、アオビ
ユ、イチビ、オオイヌタデ、オナモミ、シロバナチョウ
センアサガオの種子を播種した。播種1日後に、第8表
に示す各化合物を製剤例2に準じて水和剤に調製し、有
効成分で1ha当り1.0kg又は5.0kgとなるよ
うに適量の水で希釈し、ガラスノズルで土壌表面にむら
なく散布した。除草効果及び薬害程度の調査は、薬剤処
理30日後に試験例1に記載の評価基準に従い行った。
【0079】その結果を第8表に示す。
【0080】
【表12】
【0081】試験例4(畑地生育期処理)面積170c
m2 のプラスチックポットに適量の化成肥料を混合し
た畑地土壌を詰め、これに、ノビエ、メヒシバ、アキノ
エノコログサ、アオビユ、イチビ、オオイヌタデ、オナ
モミ、シロバナチョウセンアサガオの種子を播種した。 播種15日後に、第8表に示す各化合物を製剤例2に準
じて水和剤に調製し、有効成分で1ha当り1.0kg
又は5.0kgとなるように適量の水で希釈し、界面活
性剤Surfactant WK (丸和バイオケミカ
ル株式会社製)を最終濃度で0.25%加え、ガラスノ
ズルで植物体の茎葉にむらなく噴霧した。除草効果及び
薬害程度の調査は、薬剤処理30日後に試験例1に記載
した評価基準に従い行った。
【0082】その結果を第9表に示す。
【0083】
【表13】

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  一般式(1) 【化1】 (式中、Xはハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
    コキシ基、低級アシルオキシ基、ニトロ基を示し、nは
    0,1,2を示す。Yは水素原子、低級アルキル基、低
    級アルケニル基、低級アルキニル基、置換低級アルキル
    基、置換低級アルケニル基、置換低級アルキニル基、ア
    ルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、アルキル基で
    置換されていてもよいアンモニウムカチオンを示す。R
    1 およびR2 は各々独立して低級アルキル基を示す
    。)で表されるフェノキシメチルピリミジン誘導体。
  2. 【請求項2】  一般式(1) 【化2】 (式中、Xはハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
    コキシ基、低級アシルオキシ基、ニトロ基を示し、nは
    0,1,2を示す。Yは水素原子、低級アルキル基、低
    級アルケニル基、低級アルキニル基、置換低級アルキル
    基、置換低級アルケニル基、置換低級アルキニル基、ア
    ルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、アルキル基で
    置換されていてもよいアンモニウムカチオンを示す。R
    1 およびR2 は各々独立して低級アルキル基を示す
    。)で表されるフェノキシメチルピリミジン誘導体を有
    効成分として含有する除草剤。
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