JPS63258463A

JPS63258463A - ２−フエノキシピリミジン誘導体及び除草剤

Info

Publication number: JPS63258463A
Application number: JP9178587A
Authority: JP
Inventors: Nobuhide Wada; 信英和田; Yoshihiro Saito; 斎藤　芳宏; Shoji Kusano; 草野　章次; Yasubumi Toyokawa; 豊川　泰文; Takeshige Miyazawa; 宮沢　武重; Satoshi Takahashi; 智高橋
Original assignee: Ihara Chemical Industry Co Ltd; Kumiai Chemical Industry Co Ltd
Current assignee: Ihara Chemical Industry Co Ltd; Kumiai Chemical Industry Co Ltd
Priority date: 1987-04-14
Filing date: 1987-04-14
Publication date: 1988-10-25

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、新規な２−フェノキシピリミジン誘導体及び
これを有効成分として含有する水田、畑及び非農耕地等
に適用できる除草剤に開するものである。

〈従来の技術）２−フェノキシピリミジン誘導体が除草作用を有するこ
とは、　（１）アグリカルチュラル・アンドバイオロジ
カル・ケミス１〜す（Ａｇｒ、Ｂｉｏｌ、Ｃｈｅｍ、　
）３０巻、９月、８９６頁（１９６６年）、（２）特開
昭５４−５５７２９号公報明細書（３）特開昭５４−１
　］、　７４８６号公報明細書及び（４）特公昭４２−
９４７４号公報明細書等に記載されている。

（発明が解決しようとする問題点）しかしながら、これら公報明細書及び文献に記載された
化合物の一年生雑草に対する防除効果は不十分であり、
しかも多年生雑草に対しては殆ど活性を示さないという
欠点を有している。

本発明者らは、２−フェノキシピリミジン系化合物につ
いて除草活性の優れた化合物の開発を目的に鋭意研究し
た結果、ピリミジン環及びベンゼン環上の特定の位置に
置換基を導入した本発明化合物が一年生雑草はもとより
多年生雑草、特に、ハマスゲに対して優れた除草効果を
示すとともに、作物に対する安全性も高いということを
見い出し、本発明を完成した６（問題点を解決する為の手段）本発明は一般式［式中、Ｘは基Ｏ８○２Ｒ２（式中Ｒ？は低級アルキル
基、またはフェニル基を示す。）、基０　（ＣＨ２）　ｎ　Ｒ”　［式中、Ｒ３はカルボキ
シル基または低級アルコキシカルボニル基で置換されて
もよいフェニル基、フェニルチオ基、フェノキシ基、チ
ェニル基、アルキル基またはアルコキシ基で置換されて
もよいピリミジニル基、ベンジルオキシ基、基Ｃ○２Ｒ
４（式中、Ｒ４は水素原子、または低級アルキル基を示
す。）、またはシアン基を示し、　ｎは１．２、または
３を示す。但し、ｎが１を示す時はフエ、ニル基はカル
ホキシル基または低級アルコキシカルボニル基で置換さ
れるものとする。］、またはベンジルチオ基を示し、Ｒ
１はホルミル基、またはカルボキシル基を示す。）を示
す。　］にて表される２−フェノキシピリミジン誘導体
及びその付加物に関するものである。

前記一般式（１）にて表わされる本発明化合物を第１表
に例示する。

尚、化合物番号は以後の記載において参照される。

本発明化合物は下記の方法に従って製造することができ
るが、これらの方法に限定されるものではない。

［１コ　　　　　　　　　　　［２］　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　［３］（式中、Ｙｌはハロゲン
原子、アルキルスルホニル基、ベンジルスルホニル基、
または置換ベンジルスルホニル基を示しＲ１及びＸは前
記と同じ意味を示す。　　）本発明化合物の内、式［３］で示される化合物は式［１
］で示される化合物と式［２］で示されるピリミジン化
合物とを塩基の存在下、好ましくは溶媒中で室温ないし
溶媒の沸点の温度範囲で１〜２４時間反応させることに
より製造することができる。無溶媒下で反応を行う場合
は塩基として、無水炭酸カリウムのようなアルカリ金属
の炭酸塩等を使用して１２０〜１６０℃の温度範囲内で
反応させることもできる。

ここに使用される溶媒としては、例えば、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、塩化メチレン、
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、メタノー
ル、エタノール、イソプロパツール等のアルコール系溶
媒、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、１゜４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸
メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド等の非プロトン性極性溶媒及びアセトニトリル、水等
が挙げられる。また塩基としては、金属ナトリウム、金
属カリウム等のアルカリ金属類、水素化ナトリウム、水
素化カリウム、水素化カルシウム等の水素化アルカリ金
属及び水素化アルカリ土類金属類、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等
の炭酸塩類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水
酸化金属類が挙げられる。

［４コ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　［５コ（式中、Ｒ５は２−（トリメチル
ジチル）エチル基、またはベンジル基を示し、Ｘは前記
と同じ意味を示す。　）式［４］においてＲ５が２−（トリメチルジチル）エチ
ル基を示す場合は、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフ
ルオライドと反応させることにより式［５コを製造する
ことができ、式［４］においてＲ５がベンジル基を示す
場合は、水素による接触還元法により式［５］を製造す
ることができる。

（式中、Ｘは前記と同じ意味を示す。）本発明化合物の
内、式［５］で示され化合物は、式［６］で示される化
合物を酸化剤の存在下、極性溶媒、水、または極性溶媒
と水との混合溶媒中、水冷下ないし溶媒の沸点の温度範
囲で０５〜２４時間反応させることにより製造すること
ができる。

ここに使用される溶媒どしては、例えばアセ１〜ン、　
ｔ−ブチルアルコール、酢酸、ピリジン、ジオキサン等
の極性溶媒、水及びアセトン、　ｔ−ブチルアルコール
、酢酸、ピリジン、またはジオキサン等の水と極性溶媒
との混合溶媒が挙げられる。また、酸化剤としては、酸
素、過酸化水素水、クロム酸、酸化銀及び過マンガン酸
カリウノ１、過マンガン酸バリウム、過マンガン酸カル
シウム、過マンガン酸マグネシウム等の過マンガン酸塩
等を挙げることができる。

ＯＲ’ ［式中、Ｙ２はハロゲン原子を示し、Ｒ７は基５Ｏ２Ｒ
２（式中、Ｒ２は前記と同じ意味を示す。〉、または基
（ＣＨ２＞ｎＲ３（式中、Ｒ３は前記と同じ意味を示す
。　）を示し、ＲＩは前記と同じ意味を示す。　　］本発明化合物の内、式［９］で示される化合物は式［７
］で示される化合物と式［８］で示される化合物と塩基
とを溶媒の存在下、室温ないし溶媒の沸点の温度範囲で
１〜２４時間反応させることにより製造することができ
る。

ここに使用される溶媒としては、例えば、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、塩化メチレン、
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、エチルエ
ーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、
　１．４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢
酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルポルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プ
ロトン性極性溶媒及びアセトニＩ・リル、水等が挙げら
れる。また塩基としては、金属す１〜リウム、金属カリ
ウム等のアルカリ金属類、水素化ナトリウム、水素化カ
リウム、水素化カルシウム等の水素化アルカリ金属及び
水素化アルカリ土類金属類、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸
塩類、水酸化す１−リウム、水酸化カリウム等の水酸化
金属類、　トリエチルアミン類（第３級アミン類）、ピ
リジン等の有機塩基類等が挙げられる。

次に実施例を挙げて説明する。

実施例１２−（４，６−シメトキシピリミジンー２−イル）オキ
シ−６−（２−テニルオキシ）ベンズアルデヒドの合成
（化合物２１）６−（２−テニルオキシ）サルチル醸アルデヒド（３，
５ｇ＞、４，６−シメトキシー２−メチルスルボニルピ
リミジン（３，３ｇ）及び無水炭酸カリウム（２，１ｇ
）をジメチルホルムアミド（５０ｍｌ）に懸濁後、９０
°Ｃで３時間加熱撹拌した。放冷後、反応液を水にあけ
、エーテルで抽出した。抽出液は水洗、乾燥後溶剤を減
圧下に留去し、得られた残渣をエタノール／イソプロピ
ルエーテルから再結晶して標記化合物（３゜　５ｇ＞を
得た。　（融点１３０〜１３４°Ｃ）実施例２２−カルボキシメチルオキシ−６−（４，６−ジメ１へ
キシピリミジン−２−イル）オキシ安息香酸の合成（化
合物９）６−（４，６−シメトキシピリミジンー２−イル）オキ
シ−２−エトキシカルホブニルメチルオキシ安息香酸（
４，１ｇ）をエタノール（２０ｍｌ）に溶解後、水酸化
ナトリウム（１，２ｇ）水溶液２０ｍ１を加え、室温で
３０分間撹拌した。

反応液を水に注ぎ、エーテルで未反応の原料を抽出後、
水相を１０％塩酸水溶液で酸性とし、エーテルで抽出し
た。エーテル層は飽和食塩水で水洗し、乾燥後溶剤を減
圧下に留去した。得られた結晶をヘキサン／イソプロピ
ルエーテルで洗浄して標記化合物を淡黄色針状結晶（３
，０ｇ）として得た。　（融点１４５〜１４８°Ｃ）実施例３２−エトキシカルホキニルメチルオキシ−６−（４，６
−シメトキシピリミジンー２−イル）オキシ安息香酸の
合成（化合物１０）１０％パラジウムチャコール（０，５ｇ）、メチルアル
コール（１５０ｍｌ＞及び酢酸（２０ｍｌ）を懸濁後、
２−エトキシカルボＩニルメチルオキシ−６−（４’、
６−シメトキシビリミジンー２−イル）オキシ安息香酸
ベンジル（７，３ｇ＞を加え、常圧上接触還元を行った
。水素の吸収が止んだところで触媒を炉別し、炉液を５
０ｍ１程度まで濃縮した。反応液は水に注ぎ、エーテル
で抽出した。エーテル層は飽和食塩水で水洗し、乾燥後
溶剤を減圧下に留去しな。得られた結晶をヘキサン／イ
ソプロピルエーテルで洗浄して標記化合物を白色針状結
晶（５，３ｇ）として得た。

（融点１２６〜１２８°Ｃ）実施例４２−（４，６−シメトキシピリミジンー２−イル）オキ
シ−６−（３−フェニル−１−プロピルオキシ）安息香
酸の合成（化合物１４）２−（４，６−シメトキシピリミジンー２−イル）オキ
シ−６−（３−フェニル−１−プロピルオキシ）ベンズ
アルデヒド（４，５ｇ）をアセトン（５０ｍｌ）に溶解
後、等モル量の過マンガン酸カリウム水溶液（１５ｍｌ
）を少量ずつ滴下した。室温で４時間撹拌後析出した沈
澱物を枦遇した。炉液に水を加え、エーテルで未反応の
原料を抽出した。水相を５％塩酸水溶液で酸性とし、エ
ーテルで抽出した。抽出液は水洗、乾燥後溶剤を減圧下
に留去し、標記化合物を白色結晶（２，４ｇ）として得
た。　（融点１０７〜１０９°Ｃ）本発明の除草剤は、
本発明化合物である２−フェノキシピリミジン誘導体を
含んでなる。

本発明化合物を除草剤として使用する場合、化合物のみ
、またはこれに農薬の製剤化に際し一般的に用いられる
、担体、界面活性剤、分散剤、補助剤等を配合して、水
和剤、粒剤、乳剤または粉剤等の各種形態に製剤して使
用することができる。

製剤化に際して用いられる担体としては、例えば、ジ−
クライト、タルク、ベントナイト、クレー、カオリン、
珪藻土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、消石灰
、珪砂、硫安、尿素等の個体担体、イソプロピルアルコ
ール、キシレン、シクロヘキサン、メチルナフタレン等
の液体担体等が挙げられる。界面活性剤及び分散剤とし
ては、例えば、アルコール硫酸エステル塩、アルキルア
リールスルホン酸塩、　リグニンスルホン酸塩、ポリオ
キシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレン
アルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビ
タンモノアルキレート等が挙げられる。補助剤としては
、例えば、カルボキシメチルセルロー人　ポリエチレン
グリコール、アラビアゴム等が挙げられる。使用に際し
ては、適当な濃度に希釈して散布するかまたは直接施用
する。

また、本発明の除草剤は他の除草剤と混合して使用する
事もできる。

本発明除草剤は、水田において、雑草の発芽前または発
芽後に湛水土壌処理または茎葉処理することにより、水
田に発生する各種の雑草を防除することができる。また
、畑地においても、雑草の発芽前または発芽後に土壌処
理、または茎葉処理することにより、畑地に発生する各
種の雑草を防除することができる。

本発明除草剤は、有効成分で１０アール当たり０、１ｇ
〜１ｋｇ施用する。また植物茎葉に散布する場合は１　
ｐ　ｐ　ｍ　〜１００００　Ｐ　Ｐ　ｍに希釈して施用
する。

次に、本発明除草剤の実施例を挙げるが、本発明はこの
範囲に限定されるものではない。

尚、実施例中に記載の％は重量百分率を示す。

実施例５（水和剤）化合物（３）１０％、エマルゲン８１０（花王石鹸株式
会社登録商標）０．５％、デモールＮ（花王石鹸株式会
社登録商標）０．５％、クニライ１−　（クニミネ工業
株式会社登録商標）２０１　２０％、ジ−クライト（ジ
−クライト式会社登録商標）ＣＡ　　６９％を均一に混
合粉砕して水相剤とした。

実施例６（乳剤）化合物（１２）３０％、シクロヘキサノン２０％、ポリ
オキシエチレンアルキルアリールエーテル１１％、アル
キルベンゼンスルホン酸カルシウム４％、及びメチルナ
フタリン３５％を均一に溶解して乳剤とした。

実施例７（粒剤）化合物（１０）５％、ラウリルアルコール硫酸エステル
のすトリウム塩２％、リグニンスルホン酸すｌ・リウム
５％、カルボキシメチルセルロース２％、及びクレー８
６％を均一に混合粉砕する。

この混合物１００重量部に水２０重量部を加えて練合し
、押出式造粒機を用いて１４〜３２メツシユの粒状に加
工したのち、乾燥して粒剤とした。

実施例８（粉剤）化合物（２２＞２％、珪藻土５％、及びクレー９３％を
均一に混合粉砕して粉剤とした。

（発明の効果）本発明の化合物及び除草剤は、水田に発生するタイヌビ
エ、タマガヤツリ、コナキ、ホタルイ、ヘラオモダカ等
の一年生雑草及びミズガヤツリ、ウリカワ、クログワイ
等の多年生雑草を有効に防除することができる。また、
畑地に発生するヒエ、メヒシバ、オヒシバ、エノコログ
サ、スズメノカタビラ、スズメノカタビラ、カラスムギ
、イタリアンライグラ人　オオイヌタデ、アオビユ、シ
ロザ、アカザ、イチビ、アメリカキンゴジカ、エビスグ
サ、ハコベ、アサガオ、オナモミ、コゴメガヤツリ、メ
リケンニクキビ、イツチグラス、ウマノチャヒキ、　ソ
バカズラ、　ノハラガラシ、アメリカセンダングサ等の
一年生雑草及びハマスゲ、ジョンソングラ人　ギョウギ
シバ、シバムキ等の多年生雑草をも有効に防除すること
ができる。一方、−１９＝作物に対する安全性も高い。更に、本発明化合物は、前
述の文献記載の公知化合物と比較しても、−年子雑草は
もとより、ハマスゲ及びジョンソングラス等の多年生雑
草に対する除草効果が優れているという特徴を有するも
のである。

次に、本発明除草剤の奏する効果を試験例を挙げて説明
する。

試験例１（畑作茎葉処理）土壌を充填した１００ｃｍポットにヒエ、メヒシバ、オ
オイヌタデ、アオビユ、シロザ及びコゴメガヤツリの各
種子を播種し、０５〜１■に覆土した。ポットは２０〜
２５°Ｃのガラス室内で２週間育成後に実施例５に準じ
て調製した水相剤を有効成分で１０アール当り４００ｇ
となるよう１０アール当り１００犯の水で希釈し、茎葉
表面に散布した。調査は薬剤処理後１４日ロー第２表の
基準に従い行った。結果を第３表に指数で示した。

第３表（注）１、試験植物の略記号は下記の植物を表す。　（他の表
も同様である）Ｅｃｈ　；ヒエ　　　　　　　（Ｅｃｈｉｎ’ｏｃｈｌ
ｏａ　ｃｒｕｓ−ｇａｌｉ）１１ｉｇ；メヒシバ　　　
　（Ｄｉｇｉｔ？Ｌｒ１ａ　ａｄｓｃｅｎｄｅｎｓ）Ｐ
ｏｌ；オオイヌタデ　　（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ　ｎｏｄ
ｏｓｕｍ）Ａｍａ；アオビユ　　　　（Ａｍａｒａｎｔ
ｈｕｓ　ｒｅｔｒｏｆｌｅｘ、ｕｓ）Ｃｈｅ　；シロザ
　　　　　（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ　ａｌｂｕｍ）Ｃ
ｙｉ；コゴメガヤツリ　（Ｃｙｐｅｒｕｓ　１ｒｉａ）
２、比較化合物Ａ、　　Ｂ及びＣは下記の化合物を表す
、　（他の表も同じである）（特開昭−５４−５５７２９号公報記載）（特開昭−５
４−５５７２９号公報記載）ＣＨ。

アグリカルチュラル・アンド・バイオロジカル・ケミス
トリ（Ａｇｒ、Ｂｉｏｌ、Ｃｈｅｍ、　）　３　Ｑ巻、
　９号、　８９６頁（１９６６年）記載試験例２（畑作土壌処理）土壌を充填した１００ｃｒｒｒボツトにヒエ、メヒシバ
、オオイヌタデ、アオビユ、シロザ及びコゴメガヤッリ
の各種子を播種し、０．５〜１■に覆土した。播種翌日
に実施例５に準じて調製した水和剤を有効成分で１０ア
ール当り４０．０　ｇとなるよう１０アール当り１００
Ｉ２．の水で希釈し、土壌表面に散布した。薬剤処理ｆ
＆２．．ｏ日目に第２ロー基準に従い行った調査結果を
第４表に指数で示した。

第４表試験例３（多年生雑草に対する効果）土壌を充填した６００ｃｒｒｒボツトにハマスゲの塊茎
及びジョンソングラスの地下茎を覆土が０゜５〜１ｃｍ
の厚さになるように埋め込んだ。ポットを２０〜２５℃
のガラス室内で２週間育成した後に、実施例５に準じて
調製した水和剤の所定量を展着剤としてサーファクタン
トｗ　ｋ　２０００　ｐｐｍの濃度を含む１０アール当
り１００λの水で希釈し、茎葉表面に散布した。調査は
、薬剤処理後２１日１に行った。結果を第２表の基準に
従い指数で第５表に示しな。

（注）試験植物の略記号は下記の植物を表す。　（他の表も同
様である）Ｃｙｒ　；ハマスゲ　　　　　（Ｃｙｐｅｒｕｓ　ｒｏ
ｔｕｎｄｕｓ）Ｓｏｒ　；ジョンソングラス　（Ｓｏｒ
ｇｈｕｍ　ｈａ、］ｅｐｅｎｓｅ）第５表試験例４（水田雑草防除効果）１００ｃｍポットに水田土壌を充填し、代掻後、ヒエ、
タマガヤツリ、コナギ及びホタルイの各種子を播種し、
５ｃｍに湛水した。播種翌々日に実施例５に準じて調製
した水和剤を有効成分で１０アール当り１００ｇとなる
よう水で希釈し水面に滴下した。薬剤処理後２１日目上
第２表の基準に従い行った調査結果を第６表に指数で示
した６〈注）１、試験植物の略記号は下記の植物を表す。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘは基ＯＳＯ＿２Ｒ＾２（式中Ｒ＾２は低級ア
ルキル基、またはフェニル基を示す。）、基Ｏ（ＣＨ＿２）ｎＲ＾３［式中、Ｒ＾３はカルボキシ
ル基または低級アルコキシカルボニル基で置換されても
よいフェニル基、フェニルチオ基、フェノキシ基、チエ
ニル基、アルキル基またはアルコキシ基で置換されても
よいピリミジニル基、ベンジルオキシ基、基ＣＯ＿２Ｒ
＾４（式中、Ｒ＾４は水素原子、または低級アルキル基
を示す。）、またはシアノ基を示し、ｎは１、２、また
は３を示す。但し、ｎが１を示す時はフェニル基はカル
ボキシル基または低級アルコキシカルボニル基で置換さ
れるものとする。］、またはベンジルチオ基を示し、Ｒ
＾１はホルミル基、またはカルボキシル基を示す。）を
示す。］にて表される２−フェノキシピリミジン誘導体
及びその付加物。
（２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘは基ＯＳＯ＿２Ｒ＾２（式中Ｒ＾２は低級ア
ルキル基、またはフェニル基を示す。）、基Ｏ（ＣＨ＿２）ｎＲ＾３［式中、Ｒ＾３はカルボキシ
ル基または低級アルコキシカルボニル基で置換されても
よいフェニル基、フェニルチオ基、フェノキシ基、チエ
ニル基、アルキル基またはアルコキシ基で置換されても
よいピリミジニル基、ベンジルオキシ基、基ＣＯ＿２Ｒ
＾４（式中、Ｒ＾４は水素原子、または低級アルキル基
を示す。）、またはシアノ基を示し、ｎは１、２、また
は３を示す。但し、ｎが１を示す時はフェニル基はカル
ボキシル基または低級アルコキシカルボニル基で置換さ
れるものとする。］、またはベンジルチオ基を示し、Ｒ
＾１はホルミル基、またはカルボキシル基を示す。）を
示す。］にて表される２−フェノキシピリミジン誘導体
及びその付加物を有効成分として含有する除草剤。