JPH06306056A

JPH06306056A - アシルウレア誘導体およびそれを有効成分とする除草剤

Info

Publication number: JPH06306056A
Application number: JP9792693A
Authority: JP
Inventors: Sachio Kudo; 祐夫工藤; Michi Watanabe; 美地渡辺; Atsushi Go; 敦郷; Mitsuru Hikido; 充引戸; Rika Higure; 理加日暮; Miki Furumine; 美樹古峰
Original assignee: Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
Current assignee: Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
Priority date: 1993-04-23
Filing date: 1993-04-23
Publication date: 1994-11-01

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】除草スペクトラムが広く、除草効果が高く、
作物に対する安全性の優れた化合物の創製。【構成】一般式（Ｉ）で表わされるアシルウレア誘導
体ならびに当該アシルウレア誘導体を有効成分として含
有する除草剤。［式中、Ｘは水素原子またはハロゲン原子を示し、Ｒ^１
はメトキシ基またはハロゲン原子を示し、Ｒ^２およびＲ
^３は、水素原子もしくはその農学的に許容される塩また
は低級アルキル基を示し、Ｒ^４およびＲ^５は、水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、ハ
ロゲン原子、また（置換）アリール基、あるいは（置
換）アラルキル基を示す。］

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、文献未記載の新規なア
シルウレア誘導体、およびそれを有効成分として含有す
る除草剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】特開平３−１２８６３２公報には、ピリ
ミジン環を含むアルカン酸およびそれを含む除草剤が記
載されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記文
献中記載の化合物は除草スペクトラム、投下薬量、選択
性等の面で改善すべき点が多い。本発明は除草スペクト
ラムが広く、除草効果が高く、作物に対する安全性の優
れた化合物を開発することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成すべく鋭意研究を重ねた結果、新規なアシルウレア
誘導体の創製に成功し、この化合物が一年生はもとより
多年生雑草に対して優れた除草効果を示すとともに、あ
る種の作物に対して高い安全性を有することを見い出し
本発明を完成するに至った。即ち、本発明によれば、下
記一般式：

【０００５】

【化３】

【０００６】［式中、Ｘは水素原子またはハロゲン原子
を示し、Ｒ¹ はメトキシ基またはハロゲン原子を示し、
Ｒ²およびＲ³は、各々独立して、水素原子もしくはその
農学的に許容される塩または低級アルキル基を示し、Ｒ
⁴およびＲ⁵は、各々独立して、水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、また
は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級ハロ
アルキル基、低級アルコキシ基あるいは低級アルコキシ
カルボニル基で随時置換されていてもよいアリール基、
または水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級
ハロアルキル基、低級アルコキシ基あるいは低級アルコ
キシカルボニル基で随時置換されていてもよいアラルキ
ル基を示す。］で表わされるアシルウレア誘導体、およ
びそれを有効成分とする除草剤が提供される。

【０００７】

【発明の具体的説明】前記一般式（Ｉ）における置換基
Ｘ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵の定義において、そ
れぞれの基の具体例を下記に示す。ハロゲン原子：例えば、フッ素、塩素、臭素を挙げるこ
とができる。低級アルキル基：例えば、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、ter
t−ブチル基の如き炭素数４以下の低級アルキル基を挙
げることができる。低級アルコキシカルボニル基：メトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、イソプ
ロピルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル、イ
ソブチルオキシカルボニル、sec−ブチルオキシカルボ
ニル、 tert−ブチルオキシカルボニル基の如き炭素数
４以下の低級アルコキシカルボニル基を挙げることがで
きる。

【０００８】水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基あるいは低
級アルコキシカルボニル基で随時置換されていてもよい
アリール基：例えば、フェニル、ナフチル、２−ブロモ
フェニル、３−ブロモフェニル、４−ブロモフェニル、
２−クロロフェニル、３−クロロフェニル、４−クロロ
フェニル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、
４−メチルフェニル、２−メトキシフェニル、３−メト
キシフェニル、４−メトキシフェニル、２−トリフルオ
ロメチルフェニル、３−トリフルオロメチルフェニル、
４−トリフルオロメチルフェニル、２−メトキシカルボ
ニルフェニル、３−メトキシカルボニルフェニル、３−
メトキシカルボニルフェニル基を挙げることができる。水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級ハロア
ルキル基、低級アルコキシ基あるいは低級アルコキシカ
ルボニル基で随時置換されていてもよいアラルキル基；
例えば、ベンジル、ナフチルメチル、２−ブロモベンジ
ル、３−ブロモベンジル、４−ブロモベンジル、２−ク
ロロベンジル、３−クロロベンジル、４−クロロベンジ
ル、２−メチルベンジル、３−メチルベンジル、４−メ
チルベンジル、２−メトキシベンジル、３−メトキシベ
ンジル、４−メトキシベンジル基を挙げることができ
る。

【０００９】農学的に許容される塩：例えば、ナトリウ
ム、カリウム、カルシウム等の無機塩；アンモニウム、
メチルアンモニウム、エチルアンモニウム、ｎ−プロピ
ルアンモニウムおよびその異性体、ｎ−ブチルアンモニ
ウムおよびその異性体、ｎ−ペンチルアンモニウムおよ
びその異性体、ｎ−ヘキシルアンモニウムおよびその異
性体、ｎ−ヘプチルアンモニウムおよびその異性体、ｎ
−オクチルアンモニウムおよびその異性体、ｎ−ノニル
アンモニウムおよびその異性体、ｎ−デシルアンモニウ
ムおよびその異性体、ジエチルアンモニウム、トリエチ
ルアンモニウム等の有機アミン塩等が挙げるられる。上
記に具体的に示されていない基については、上記基およ
び原子から任意に組み合わせて、あるいは一般的に知ら
れた常識に従って選択することができる。

【００１０】前記一般式（I）において、特に好ましく
は、Ｘがフッ素であり、Ｒ¹がメトキシ基であり、Ｒ²お
よびＲ³が水素であり、Ｒ⁴もしくはＲ⁵がフェニル基ま
たはアルコキシカルボニル基である。勿論、上記一般式
（I）で表される化合物の立体異性体（ジアステレオマ
ーおよびエナンチオマー）は本発明の範囲内にあること
を理解すべきである。前記一般式( I ) で表される本発
明化合物の中で、下記一般式（I−１）で示される化合
物を第１表に、下記一般式（I−２）で示される化合物
を第２表に、下記一般式（I−３）で示される化合物を
第３表に、下記一般式（I−４）で示される化合物を第
４表に、下記一般式（I−５）で示される化合物を第５
表に、それぞれ例示する。

【００１１】

【表１】

【００１２】

【表２】

【００１３】

【表３】

【００１４】

【表４】

【００１５】

【表５】

【００１６】

【表６】

【００１７】

【表７】

【００１８】

【表８】

【００１９】

【表９】

【００２０】

【表１０】

【００２１】

【表１１】

【００２２】本発明化合物は例えば、下記に示す方法
（Ａ法、Ｂ法およびＣ法）により製造することができ
る。前記一般式（I）において、Ｒ³が水素原子を示すと
き、本発明化合物（I−６）は下記Ａ法により、製造す
ることができる。

【００２３】

【化４】

【００２４】上記Ａ法の反応式において、式（I−６）
で表される本発明化合物は、式（II）で表される化合物
を無溶媒ないし適当な溶媒の存在下、必要であれば、適
当な塩基を用いて、氷点下−７８゜Ｃないし溶媒の沸点
の温度範囲において、上記式（III ) の置換アミノピリ
ミジンと、１〜２４時間反応させることにより製造する
ことができる。この反応において溶媒を使用する場合
は、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水
素系溶媒；ジクロルメタン、クロロホルム等のハロゲン
化炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等
のエーテル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系
溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒；アセ
トニトリル、水などを挙げることができる。塩基として
は、ピリジン、トリエチルアミン、または１，８−ジア
ザビシクロ（５，４，０）−７−ウンデセン等の有機塩
基が挙げられる。また、式（II）の化合物に対する式
（III）の化合物の使用割合は、厳密に制限されるもの
ではないが、通常式（II）の化合物１モル当たり式（II
I）の化合物は、１〜１０当量、特に１〜２当量の範囲
内で用いるのが好都合である。

【００２５】前記一般式（I）のうち、一般式（I−７）
で表される化合物は、下記Ｂ法により製造することがで
きる。

【００２６】

【化５】

【００２７】上記反応式において、式（I−７）で表さ
れる本発明化合物は、上記式（I−６）で表される化合
物を無溶媒ないし適当な溶媒の存在下、必要であれば、
適当な塩基を用いて、氷点下−７８゜Ｃないし溶媒の沸
点の温度範囲において、種々のアルキル化剤と、１〜２
４時間反応させることにより製造することができる。こ
の反応において溶媒を使用する場合は、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒；ジクロル
メタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒；
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒；
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；酢酸
メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒；ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミ
ド等の非プロトン性極性溶媒；アセトニトリル、水など
を挙げることができる。塩基としては、例えば、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類；水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等の水酸化金属類；ナトリウムメチ
ラート、ナトリウムエチラート等の金属アルコラート
類；水素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化アル
カリ金属類；リチウムジエチルアミド、リチウムジイソ
プロピルアミド、リチウムビストリメチルシリルアミド
等のリチウムアミド類を挙げることができる。

【００２８】アルキル化剤としては、例えば、メチルブ
ロマイド、エチルブロマイド、メチルイオダイド、エチ
ルイオダイド等の低級アルキルハライド、メチルメタン
スルホネート、エチルメタンスルホネート等の低級アル
キルメタンスルホネート、メチルベンゼンスルホネー
ト、エチルベンゼンスルホネート等の低級アルキルベン
ゼンスルホネート、メチルパラトルエンスルホネート、
エチルパラトルエンスルホネート等の低級アルキルパラ
トルエンスルホネート、メチルトリフルオロメタンスル
ホネート、エチルトリフルオロメタンスルホネート等の
低級アルキルトリフルオロメタンスルホネート、ジメチ
ル硫酸、ジエチル硫酸等のジ低級アルキル硫酸等が挙げ
られる。また、式（I−６）の化合物に対するアルキル
化剤の使用割合は、厳密に制限されるものではないが、
通常式（I−６）の化合物１モル当たりアルキル化剤
は、１〜１０当量、特に１〜２当量の範囲内で用いるの
が好都合である。反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出
及び濃縮等の通常の後処理を行ない、必要ならば、クロ
マトグラフイー、再結晶等の操作によって精製すること
により、目的の本発明化合物を製造することができる。

【００２９】前記一般式（I）のうち、一般式（I−８）
で表される化合物は、下記Ｃ法により製造することがで
きる。

【００３０】

【化６】

【００３１】上記反応式において式（I−８）で表され
る本発明化合物は、上記式（I−６）で表される化合物
を適当な溶媒の存在下、−７８゜Ｃないし溶媒の沸点の
温度範囲において、種々の金属と１〜２４時間反応させ
ることにより製造することができる。この反応において
溶媒を使用する場合は、例えば、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジク
ロルメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶
媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶
媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、
酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセト
アミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトニトリル、水
などを挙げることができる。金属としては、例えば、リ
チウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類；マ
グネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属類；水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の
水酸化金属類；水素化ナトリウム、水素化カリウム等の
水素化アルカリ金属類を挙げることができる。また、式
（I−６）の化合物に対する金属の使用割合は、厳密に
制限されるものではないが、通常式（I−６）の化合物
１モル当たり金属は、１〜１０当量、特に１〜２当量の
範囲内で用いるのが好都合である。反応終了後の反応液
は、有機溶媒抽出及び濃縮等の通常の後処理を行ない、
必要ならば、クロマトグラフイー、再結晶等の操作によ
って精製することにより、目的の本発明化合物を製造す
ることができる。

【００３２】本発明の前記一般式（I）で表される化合
物は除草剤としての活性を有している。本発明の化合物
を除草剤として用いる場合には、該化合物を担体もしく
は希釈剤、添加剤および補助剤等とそれ自体公知の手法
で混合して、通常農薬として用いられる製剤形態、例え
ば、粉剤、粒剤、水和剤、乳剤、液剤、フロアブル剤等
に調製して使用される。また他の農薬、例えば、殺菌
剤、殺虫剤、殺ダニ剤、他の除草剤、植物生長調節剤、
肥料、または土壌改良剤等と混合または併用して使用す
ることができる。特に他の除草剤と混合使用することに
より、使用薬量を減少させ、また省力化をもたらすのみ
ならず、両薬剤の共力作用による殺草スペクトラムの拡
大並びに相乗作用による一層高い効果も期待できる。

【００３３】製剤に際して用いられる担体若しくは希釈
剤としては、一般に農業上使用される固体ないしは液体
の担体が用いられる。固体担体としては、例えば、カオ
リナイト群、モンモリロナイト群、イライト群あるいは
アパタルジャイト群等で代表されるクレー類やタルク；
けいそう土、マグネシウム石灰、りん灰石、ゼオライ
ト、無水ケイ酸、合成ケイ酸カルシウム等のその他無機
物質；大豆粉、タバコ粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、で
んぷん、結晶セルロース等の植物性有機物質；クマロン
樹脂、石油樹脂、アルキッド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポ
リアルキレングリコール、ケトン樹脂、エステルガム、
コーバルガム、ダンマルガム等の合成または天然の高分
子化合物；そのほかカルナウバロウ、蜜ロウ等のワック
ス類あるいは尿素等が例示できる。

【００３４】適当な液体担体としては、例えば、ケロシ
ン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィ
ン系もしくはナフテン系炭化水素；トルエン、キシレ
ン、エチルベンゼン、クメン、メチルナフタレン等の芳
香族炭化水素；ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル類；メチルエチルケトン、ジイソブチルケトン、
シクロヘキサノン、アセトフェノン、イソホロン等のケ
トン類；酢酸エチル、酢酸アミル、エチレングリコール
アセテート、ジエチレングリコールアセテート、マレイ
ン酸ジブチル、コハク酸ジエチル等のエステル類；メタ
ノール、ｎ−ヘキサノール、エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、シクロヘキサノール、ベンジルアル
コール等のアルコール類、エチレングリコールエチルエ
ーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、ジエチ
レングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコール
ブチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒あるい
は水等が挙げられる。そのほかに本発明の化合物の乳
化、分散、湿潤、拡展、結合、崩壊性調節、有効成分安
定化、流動性改良、防錆等の目的で界面活性剤その他の
補助剤を使用することもできる。使用される界面活性剤
の例としては、非イオン性、陰イオン性、陽イオン性お
よび両性イオン性のいずれのものをも使用しうるが、通
常は非イオン性および（または）陰イオン性の化合物が
使用される。

【００３５】適当な非イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、オ
レイルアルコール等の高級アルコールにエチレンオキシ
ドを重合付加させた化合物；イソオクチルフェノール、
ノニルフェノール等のアルキルフェノールにエチレンオ
キシドを重合付加させた化合物；ブチルナフトール、オ
クチルナフトール等のアルキルナフトールにエチレンオ
キシドを重合付加させた化合物；パルミチン酸、ステア
リン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸にエチレンオキシド
を重合付加させた化合物；ソルビタン等の多価アルコー
ルの高級脂肪酸エステル及びそれにエチレンオキシドを
重合付加させたもの；エチレンオキシドとプロピレンオ
キシドをブロック重合付加させた化合物等が挙げられ
る。

【００３６】適当な陰イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫
酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩；スル
ホこはく酸ジオクチルエステルナトリウム、２−エチル
ヘキセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸
塩；イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メ
チレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニン
スルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム等のアリールスルホン酸塩等が挙げられる。

【００３７】更に本発明の除草剤には製剤の性状を改善
し、除草効果を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、ア
ルブミン、ニカワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチ
ルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、ポリビニルアルコール等の高分子化合物や他
の補助剤を併用することもできる。上記の担体および種
々の補助剤は製剤の剤型、適用場面等を考慮して、目的
に応じてそれぞれ単独あるいは組み合わせて適宜使用さ
れる。

【００３８】このようにして得られた各種製剤形におけ
る本発明の化合物（有効成分）含有率は製剤形により種
々変化するものであるが、通常０．１〜９９重量％が適
当であり、とりわけ１〜８０重量％が最も好ましい。粉
剤の場合は、例えば、有効成分化合物を通常１〜２５重
量％含有し、残部は固体担体である。水和剤の場合は、
例えば、有効成分化合物を通常２５〜９０％含有し、残
部は固体担体、分散湿潤剤であって、必要に応じて保護
コロイド剤、消泡剤等が加えられる。粒剤の場合は、例
えば、有効成分化合物を通常１〜３５重量％含有し、残
部は大部分が固体担体及び界面活性剤等である。有効成
分化合物は固体担体と均一に混合されているか、あるい
は固体担体の表面に均一に固着もしくは吸着されてお
り、粒の径は約０．２ないし１．５ｍｍである。乳剤の
場合は、例えば、有効成分化合物を通常５〜６０重量％
含有しており、これに約５ないし２０重量％の乳化剤が
含まれ、残部は液体担体であり、必要に応じて防錆剤が
加えられる。フロアブル剤の場合は、例えば、有効成分
化合物を通常５〜５０重量％含有しており、これに３な
いし１０重量％の分散湿潤剤が含まれ、残部は水であ
り、必要に応じて保護コロイド剤、防腐剤、消泡剤等が
加えられる。本発明のアシルウレア誘導体は、一般式
（I）の化合物のままあるいは上述した様な任意の調製
形態で施用することができる。本発明の除草剤は、水田
及び畑地に生育する発生前から生育期までの諸雑草の駆
除または防除に施用できる。その施用量は一般式（I）
で表される化合物量（有効成分量）として１ｈａ当り、
０．００１〜５ｋｇ程度、好ましくは０．０１〜１ｋｇ
程度であり、目的とする雑草の種類、生育段階、施用場
所、施用時期、天候等によって適宜に選択変更できる。

【００３９】

【実施例】次に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説
明する。実施例１１−（α−フルオロフェニルアセチル）−３−（４，６
−ジメトキシピリミジン−２−イル）−ウレア（化合物
番号１００９）の合成：（１）ジャ−ナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・
ソサイアティー第112巻、8563〜8575頁（1990年）に記
載される方法を参考にして製造されたα−フルオロフェ
ニルアセト酢酸メチルエステルをアルカリ加水分解によ
ってα−フルオロフェニルアセトアセト酢酸とした後
に、アンモニア水を反応させて、α−フルオロフェニル
アセトアミドとした。このα−フルオロフェニルアセト
アミド０．５５ｇ（3.6mmol）のジメチルホルムアミド
溶液５ｍｌを６０％水素化ナトリウム０．１４ｇ（3.6m
mol）のジメチルホルムアミド溶液１０ｍｌ中に−５℃
で加え１時間反応させた。この溶液に−５℃でジフェニ
ルカーボネート０．７７ｇ（3.6mmol）のジメチルホル
ムアミド溶液５ｍｌを滴下し、室温で更に１時間反応さ
せた。反応液を１００ｍｌの水に注加し５０ｍｌの酢酸
エチルで３回抽出し、得られた有機層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。有機層を留去し得られた粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイー（展開溶媒：酢酸エチ
ル／ヘキサン＝１／３）で精製し、α−フルオロフェニ
ルアセトアミドのフェノキシカーバメイト０．６１ｇ
（収率：６２％）を得た。

【００４０】（２）上記（１）で得られたα−フルオロ
フェニルアセトアミドのフェノキシカーバメイト０．３
０ｇ（1.1mmol）と２−アミノ−４，６−ジメトキシピ
リミジン０．１７ｇ（1.1mmol）を１，４−ジオキサン
１０ｍｌ溶液に溶かし２時間還流させた。反応液を２０
ｍｌの水に注加し３０ｍｌの酢酸エチルで３回抽出し、
得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層
を留去し得られた組成生物をシリカゲルカラムクロマト
グラフイー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／
３）で精製し、目的物の１−（α−フルオロフェニルア
セチル）−３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−
イル）−ウレア（化合物番号1009）０．０９ｇ（収率：
２４％）を得た。

【００４１】実施例２１−（２−エトキシカルボニル−２−フルオロブチリ
ル）−３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）−ウレア（化合物番号１０７７）の合成：（１）特開昭６２−２０７２３０公報に記載される方法
に従って合成した２−フルオロ−２−エチル−マロン酸
ジエチルエステルをアルカリ加水分解によって２−フル
オロ−２−エチル−マロン酸モノエチルエステル体とし
た。この２−フルオロ−２−エチル−マロン酸モノエチ
ルエステル体６．０ｇ（33.7mmol）にスルフリルクロラ
イド２０ｍｌを加え、１時間還流した。過剰のスルフリ
ルクロライドを減圧蒸留により留去した。得られた酸ク
ロライドに、塩化メチレン５０ｍｌを加え、０℃にてエ
チルカーバメート３．０ｇ（33.7mmol）の塩化メチレン
溶液を滴下し、トリエチルアミン３．７４ｇ（37.1mmo
l）を滴下した。室温で１６時間撹拌し、析出物をろ過
した。溶媒を留去し、組成生物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１
／３）で精製しエチル−２−フルオロ−２−エチル−マ
ロン酸モノアミドのエチルカーバメート４．５ｇ（収
率：５４％）を得た。

【００４２】（２）上記（１）で得られたエチル−２−
フルオロ−２−エチル−マロン酸モノアミドのエチルカ
ーバメート４．２ｇ（17mmol）と２−アミノ−４，６−
ジメトキシピリミジン２．６１ｇ（17mmol）の１，４−
ジオキサン５０ｍｌに溶かし、１０時間還流した。反応
液を１００ｍｌの水に注加し７０ｍｌの酢酸エチルで３
回抽出し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し
た。有機層を留去し得られた組成生物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサ
ン＝１／４アセトン／クロロホルム＝２０／１）で精
製し、目的物の１−（２−エトキシカルボニル−２−フ
ルオロブチリル）−３−（４，６−ジメトキシピリミジ
ン−２−イル）−ウレア（化合物番号1077）０．２２ｇ
（収率：３．６％）を得た。

【００４３】同様の方法により、前記第１表から第５表
記載の化合物を合成した。第６表にそれらの化合物の一
部のＮＭＲデータを記す。

【００４４】

【表１２】

【００４５】次に、本発明の化合物を用いた製剤例の数
態様を示す。下記製剤例中の「部」は重量基準である。製剤例１（粒剤）化合物番号１００９５部ベントナイト４０部タルク５２部リグニンスルホン酸ソーダ２部ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル１部以上を充分に混合した後、適量の水を加えて混練し、造
粒機を用いて造粒して粒剤１００部を得た。

【００４６】製剤例２（水和剤）化合物番号１０７６２０部ケイソウ土６０部ホワイトカーボン１５部リグニンスルホン酸ソーダ３部ジアルキルナフタレンスルホン酸ソーダ２部以上を混合し、ジェットミルで均一に混合粉砕して水和
剤１００部を得た。

【００４７】製剤例３（乳剤）化合物番号１０７７３０部キシレン５５部シクロヘキサノン１０部ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム３部ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル２部以上を均一に混合溶解して乳剤１００部を得た。上述の
製剤例に準じて本発明の化合物を用いた薬剤がそれぞれ
製剤できた。

【００４８】次に除草効果を試験例を挙げて説明する。試験例１（畑地茎葉処理）１３０ｃｍ²プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
第７表に示す各種植物を一定量ずつ播種し、各植物が
１．５〜３葉期になるまで温室内で生育させた。第７表
に示した本発明化合物を製剤例２に準じて水和剤に調製
し、その水希釈液を第７表に示した有効成分量になるよ
うに５００ｌ／ｈａの散布量相当で各植物の茎葉にむら
なく散布した。薬剤散布を行ってから２１日後に各種雑
草への除草効果及び各種作物の薬害程度を下記の基準に
従って判別した。その結果を第７表に示す。

【００４９】

【表１３】

【００５０】

【表１４】

【００５１】試験例２（畑地発芽前土壌処理）１３０ｃｍ²プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
第８表に示す各種植物を一定量ずつ播種した後、１ｃｍ
の覆土をした。第８表に示した本発明化合物を製剤例２
に準じて水和剤に調製し、その希釈液を第８表に示した
有効成分量となるように５００ｌ／ｈａの散布量相当で
土壌表面にむらなく散布した。薬剤散布を行ってから２
１日後に各種雑草への除草効果及び各種作物の薬害程度
を試験例１の基準にしたがって判別した。その結果を第
８表に示す。

【００５２】

【表１５】

【００５３】

【発明の効果】本発明の前記一般式（I）で表されるア
シルウレア誘導体は、アシルウレア部と、その４位と６
位に特定の置換基が結合しているピリミジン環が結合し
た独特の構造をとっていることが特徴であり、その構造
的特徴によって、優れた除草作用が発現するものと考え
られる。本発明の化合物及び除草剤は農耕地に生育する
発生前から生育期までの諸雑草を防除できる。たとえ
ば、ノビエ、ホタルイ、ミズガヤツリ、コナギ、アゼ
ナ、ミゾハコベ、キカシグサ、マツバイ、ウリカワ等の
水田雑草や、メヒシバ、エノコログサ、オヒシバ、スズ
メノヒエ、スズメノテッポウ、ハコベ、タデ類、ヒユ
類、イチビ、シロザ、アメリカキンコジカ、アサガオ
類、オナモミ、ブタクサ、ナズナ、タネツケバナ、セン
ダングサ、ヤエムグラ、ソバカズラ等の畑地諸雑草を防
除できる。更に水田、畑地のみならず、果樹園、桑園、
芝生、非農耕地においても使用することができる。しか
も、本発明化合物はある種の栽培作物に選択性を有し、
特に、ワタ、ダイズ、トウモロコシ等の作物の選択性に
優れている。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者引戸充茨城県稲敷郡阿見町中央８丁目３番１号三菱油化株式会社筑波総合研究所内 (72)発明者日暮理加茨城県稲敷郡阿見町中央８丁目３番１号三菱油化株式会社筑波総合研究所内 (72)発明者古峰美樹茨城県稲敷郡阿見町中央８丁目３番１号三菱油化株式会社筑波総合研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式：【化１】［式中、Ｘは水素原子またはハロゲン原子を示し、Ｒ¹
はメトキシ基またはハロゲン原子を示し、Ｒ²およびＲ³
は、各々独立して、水素原子もしくはその農学的に許容
される塩または低級アルキル基を示し、Ｒ⁴およびＲ
⁵は、各々独立して、水素原子、低級アルキル基、低級
アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、または水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級ハロアルキル
基、低級アルコキシ基あるいは低級アルコキシカルボニ
ル基で随時置換されていてもよいアリール基、または水
素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級ハロアル
キル基、低級アルコキシ基あるいは低級アルコキシカル
ボニル基で随時置換されていてもよいアラルキル基を示
す。］で表わされるアシルウレア誘導体。
【請求項２】下記一般式：【化２】［式中、Ｘは水素原子またはハロゲン原子を示し、Ｒ¹
はメトキシ基またはハロゲン原子を示し、Ｒ²およびＲ³
は、各々独立して、水素原子もしくはその農学的に許容
される塩または低級アルキル基を示し、Ｒ⁴およびＲ
⁵は、各々独立して、水素原子、低級アルキル基、低級
アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、または水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級ハロアルキル
基、低級アルコキシ基あるいは低級アルコキシカルボニ
ル基で随時置換されていてもよいアリール基、または水
素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級ハロアル
キル基、低級アルコキシ基あるいは低級アルコキシカル
ボニル基で随時置換されていてもよいアラルキル基を示
す。］で表わされるアシルウレア誘導体を有効成分とし
て含有する除草剤。