JPH06256113A - 除草剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 コムギなどの有用作物に薬害を与えず、殺草
スペクトラムが広くかつ低薬量で十分な除草効果を発揮
し得る除草剤組成物を提供する。 【構成】 （Ａ）フェノキシメチルピリミジン誘導体
［例えば６−クロロ−２−［（４，６−ジメトキシ−２
−ピリミジル）メチルオキシ］ベンゾイックアシッドト
リエチルアミン塩］と、（Ｂ）特定の既知除草活性化合
物［例えば３−（４−イソプロピルフェニル）−１，１
−ジメチルウレア］を含有する除草剤組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は除草剤組成物に関し、さ
らに詳しくは或る種のフェノキシメチルピリミジン誘導
体と或る種の既知の除草剤の組み合わせを有効成分とし
て含有する、殺草スペクトラムが広くかつ低薬量で十分
な除草効果を発揮し得る除草剤組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術および課題】長年に亘る除草剤の研究開発
の中から多種多様な除草剤が開発され、これら除草剤
は、有用作物の雑草害からの保護及び農作業の省力化等
の農業の生産性向上の重要な資材として、現在、必要不
可欠のものとなっている。しかし、現在までに多くの除
草剤が上市されているにもかかわらず、それらは高薬量
では種々の雑草種に有効であっても、低薬量で使用した
場合は有効雑草種が少ないという問題点がある。

【０００３】本発明者らは、先に下記一般式(1)で示さ
れるフェノキシメチルピリミジン誘導体を創製し、該化
合物が除草活性を有すること見いだした（特開平4-3275
78号公報）。

【０００４】

【化２】

【０００５】（式中、Ｘはハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、低級アシルオキシ基またはニト
ロ基を示し、ｎは０,１，２を示す。Ｙは水素原子、低
級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、
置換低級アルキル基、置換低級アルケニル基、置換低級
アルキニル基、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原
子またはアルキル基で置換されても良いアンモニウムカ
チオンを示す。Ｒ¹およびＲ²は各々独立して低級アルキ
ル基を示す。）

【０００６】本発明者らは、防除すべき雑草範囲の拡大
および栽培作物への安全性の向上を目的として鋭意研究
を重ねた結果、前記一般式(1)で示される化合物をある
種の公知化合物と併用することにより、それぞれの化合
物単剤では防除困難な雑草に対して、完全な防除効果を
示すと共に、相乗的な除草効果により単剤では完全に防
除し得ない低薬量においても、種々の雑草を有効に防除
し、かつコムギに対して高い安全性を有することを見い
出し、本発明除草剤組成物を完成するに至った。

【０００７】

【課題を解決するための手段】かくして本発明によれ
ば、(A) 下記一般式(1):

【０００８】

【化３】

【０００９】（式中、Ｘはハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、低級アシルオキシ基またはニト
ロ基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。Ｙは水素原子、
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
基、置換低級アルキル基、置換低級アルケニル基、置換
低級アルキニル基、アルカリ金属原子、アルカリ土類金
属原子またはアルキル基で置換されても良いアンモニウ
ムカチオンを示す。Ｒ¹およびＲ²は各々独立して低級ア
ルキル基を示す。）で表されるフェノキシメチルピリミ
ジン誘導体から選ばれる少なくとも１種の化合物（以下
これを「(A)成分」ということがある。）と、

【００１０】(B) 下記の化合物(1)〜(14)から選ばれる
少なくとも１種の化合物（以下これを「(B)成分」とい
うことがある。）: (1) ３−（４−イソプロピルフェニル）−１，１−ジメ
チルウレア (2) ２，４−ジクロロフェノキシアセティックアシッド (3) ４−クロロ−２−メチルフェノキシアセティックア
シッド (4) ２−（４−クロロ−２−メチルフェノキシ）−プロ
ピオニックアシッド (5) ３，６−ジクロロ−２−メトキシベンゾイックアシ
ッド (6) ４−ヒドロキシ−３，５−ジヨードベンゾニトリル (7) ３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシベンゾニトリル (8) メチル ２−［３−（４−メトキシ−６−メチル−
１，３，５−トリアジン−２−イル）ウレイドスルホニ
ル］ベンゾエート (9) メチル ３−［３−（４−メトキシ６−メチル−
１，３，５−トリアジン−２−イル）ウレイドスルホニ
ル］チオフェン−２−カルボキシレート (10) ２−クロロ−Ｎ−（４−メトキシ−６−メチル−
１，３，５−トリアジン−２−イル−アミノカルボニ
ル）ベンゼンスルホンアミド (11) ３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）−１−（Ｎ−メチル−Ｎ−メチルスルホニル）ウレ
ア (12) メチル ６−（４−イソプロピル−４−メチル−５
−オキソイミダゾリノン−２−イル）−３−メチル−ベ
ンゾエート (13) １’−メチルヘプチル［（４−アミノ−３，５−
ジクロロ−６−フルオロ−２−ピリジル）オキシ］アセ
テート (14) メチル ５−（２，４−ジクロロフェノキシ）−２
−ニトロベンゾエート を有効成分として含有する除草剤組成物が提供される。

【００１１】以下、本発明の除草剤組成物についてさら
に詳細に説明する。本発明除草剤組成物の(A)成分とし
て用いられる前記一般式(1)で表される化合物におい
て、Ｘ及びＹの基についての具体例を以下に説明する。
Ｘはハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、低級アシルオキシ基またはニトロ基を示し、ｎは０
〜２の整数を示すが、これらの中でＸが塩素原子、メチ
ル基またはメトキシ基であり、ｎが１の場合が最も好ま
しい。また、フェニル環上のＸｎの結合位置としては、
ｎが１の場合は６位が最も好ましい。

【００１２】Ｙは水素原子、低級アルキル基、低級アル
ケニル基、低級アルキニル基、置換低級アルキル基、置
換低級アルケニル基、置換低級アルキニル基、アルカリ
金属原子、アルカリ土類金属原子またはアルキル基で置
換されても良いアンモニウムカチオンを示し、置換低級
アルキル基、置換低級アルケニル基、置換低級アルキニ
ル基の置換基としては、ハロゲン原子、低級アルコキシ
基、低級アルキルチオ基、カルボキシル基、カルボキシ
アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換さ
れていてもよい複素環基が挙げられるが、これの中で、
水素原子、メチル基、エチル基、アンモニウムカチオン
またはアルキル置換アンモニウムカチオンが好ましい。
Ｒ^１およびＲ^２は各々独立して低級アルキル基を示す
が、この中で、Ｒ^１およびＲ^２がともにメチル基である
場合が好ましい。

【００１３】上記一般式（１）におけるＸ，Ｙ，Ｒ¹お
よびＲ²の定義において、それぞれの基および原子につ
いての具体例を以下に示す。ハロゲン原子 ；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、低級アルキル基 ；例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、第二ブチル、第三ブチ
ル基等の如き炭素数４以下の低級アルキル基等、低級アルコキシ基 ；例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−
プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、第二ブト
キシ、第三ブトキシ基等の如き炭素数４以下の低級アル
コキシ基等、低級アシルオキシ基 ；例えば、アセチルオキシ、プロピ
オニルオキシ基等の如き炭素数４以下の低級アシルオキ
シ基等、低級アルケニル基 ；例えば、ビニル、アリル、３−ブテ
ニル、１−メチル−２−プロペニル基等の炭素数４以下
の低級アルケニル基、低級アルキニル基 ；例えば、プロパルギル、２−ブチニ
ル、３−ブチニル基等、低級アルキルチオ基 ；例えば、メチルチオ、エチルチ
オ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピルチオ、ｎ−ブチル
チオ、第二ブチルチオ、第三ブチルチオ基等の如き炭素
数４以下の低級アルキルチオ基、

【００１４】置換されていてもよいフェニル基；フェニ
ル、２−フルオロフェニル、３−フルオロフェニル、４
−フルオロフェニル、２−クロロフェニル、３−クロロ
フェニル、４−クロロフェニル、２−メチルフェニル、
３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、２−メトキ
シフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェ
ニル、２，４−ジクロロフェニル、２，４−ジメチルフ
ェニル基等、低級置換されていてもよい複素環基 ；例えば、ピリジ
ル、チエニル、フリル、ピリミジル、ピラゾリル、イミ
ダゾリニル、トリアゾリル、チアゾリル基が挙げられ、
これらの置換基としては、ハロゲン、低級アルキル、低
級アルコキシ、低級アルキルチオ基等、アルカリ金属原子 ；例えば、ナトリウム、カリウム等、アルカリ土類金属原子 ；例えば、カルシウム、バリウム
等、アルキル基で置換されていてもよいアンモニウムカチオ
ン ；例えば、アンモニウム、メチルアンモニウム、ジメ
チルアンモニウム、トリメチルアンモニウム、エチルア
ンモニウム、ジエチルアンモニウム、トリエチルアンモ
ニウム、プロピルアンモニウム、ジイソプロピルアンモ
ニウム基等。 上記した基に具体的に示されていない基は、上記原子お
よび基から任意に組み合わせて或いは一般的に知られた
常識に従って選択される。

【００１５】前記一般式（１）で表される化合物は、例
えば、特開平４−３２７５７８号公報に記載の方法によ
り製造することができるが、その一例を下記に示す。Ａ法

【００１６】

【化４】

【００１７】（式中Ｘ，ｎ，Ｙ，Ｒ^１およびＲ^２は前記
と同じ意味を示し、Ｚはハロゲン原子またはアルキルス
ルホニルオキシ基を示す）。 上記Ａ法の反応式において、式（１）で表される化合物
は、上記式（２）のサリチル酸誘導体を無溶媒ないし適
当な溶媒の存在下、適当な塩基を用いて、−７８℃ない
し溶媒の沸点の温度範囲において、上記式（３）のピリ
ミジン誘導体と、１〜２４時間反応させることにより製
造することができる。この反応の原料である化合物
（３）は、ジャーナル・オブ・ヘテロサイクリック・ケ
ミストリー・２６巻９１３頁に従って合成される。この
反応において溶媒を使用する場合、例えば、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒；ジクロルメタ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒；ジエ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロ
フラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒；アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；酢酸メチ
ル、酢酸エチル等のエステル系溶媒；ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等
の非プロトン性極性溶媒；アセトニトリル、水などを挙
げることができる。また、塩基としては、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の炭酸塩類；水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等の水酸化金属類；ナトリウムメチラー
ト、ナトリウムエチラート等の金属アルコラート類；水
素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化アルキル金
属類；リチウムジエチルアミド、リチウムジイソプロピ
ルアミド、リチウムピストリメチルシリルアミド等のリ
チウムアミド類を挙げることができる。

【００１８】Ｂ法

【００１９】

【化５】

【００２０】（式中Ｘ，ｎ，Ｙ，Ｒ^１およびＲ^２は前記
と同じ意味を示す。） 上記反応式において、式（１−ａ）で表されるカルボン
酸は、式（１）で表される化合物を酸または塩基の存在
下、水または水と適当な溶媒の混合物中、氷冷ないし溶
媒の沸点の温度範囲で１〜４８時間加水分解を行うこと
により製造することができる。反応において使用される
溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、キシレン等の炭
化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロ
ロエタン等のハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジ
オキサン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、アセトニトリル等の非プロトン性極
性溶媒等を挙げることができる。酸としては、塩酸、硫
酸、リン酸等の無機酸類、ベンゼンスルホン酸、パラト
ルエンスルホン酸等のアリールスルホン酸類、三フッ化
ホウ素、塩化アルミ等のルイス酸を挙げることができ、
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシ
ウム等のアルカリ土類金属水酸化物等を挙げることがで
きる。

【００２１】Ｃ法

【００２２】

【化６】

【００２３】（式中Ｘ，ｎおよびＹは前記と同じ意味を
示し、Ｒ^３，Ｒ^４およびＲ^５はそれぞれ独立に、水素原
子、前記低級アルキル基または前記置換低級アルキル基
を示す。） 上記反応式において、式（１−ｂ）で表されるカルボン
酸塩は、式（１−ａ）で表されるカルボン酸と式（４）
で表されるアミンとを、溶媒の存在または非存在下に反
応させることにより製造することができる。反応におい
て使用される溶媒としては、例えば、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶
媒、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチ
ル、アセトニトリル、水等を挙げることができる。式
（４）のアミンとしては、アンモニア、メチルアミン、
ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジ
エチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミ
ン、ジイソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチル
アミン、セカンダリーブチルアミン、ターシャリーブチ
ルアミン、ジブチルアミン、アミルアミン、ヘキシルア
ミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン
等のアルキルアミン類、アニリン、Ｎ−メチルアニリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、
アニシジン等の芳香族アミン等が挙げられる。

【００２４】前記一般式（１）で表される化合物の中
で、特に好ましい化合物の具体例を表１に示す。

【００２５】

【表１】

【００２６】一方、本発明除草剤組成物の（Ｂ）成分と
して用いられる化合物(1)〜(14)は、それ自体既知の通
常用いられる除草剤であり、その詳細は、例えば、下記
のとおり、公知文献に記載されている化合物である。 （１） ３−（４−イソプロピルフェニル）−１，１−
ジメチルウレア、（一般名：イソプロツロン、ベルギー
特許第1,407,587号明細書参照）、（２） ２，４−ジ
クロロフェノキシアセティックアシッド、（一般名：
２，４−Ｄ，Short Review of Herbicides & PGRｓ ６
版 ２ページ参照）、（３） ４−クロロ−２−メチル
フェノキシアセティックアシッド、（一般名：ＭＣＰ
Ａ，Short Review of Herbicides & PGRｓ ６版 ４ペ
ージ参照）、（４） ２−（４−クロロ−２−メチルフ
ェノキシ）−プロピオニックアシッド、（一般名：メコ
プロップ、ベルギー特許第820,180号；同第822,973号；
同第825,875号明細書参照）、（５） ３，６−ジクロ
ロ−２−メトキシベンゾイックアシッド、（一般名：ダ
イカンバ、米国特許第3,013,045号明細書参照）、
（６） ４−ヒドロキシ−３，５−ジヨードベンゾニト
リル、（一般名：アイオキシニル、ベルギー特許第1,06
7,033号明細書参照）、（７） ３，５−ジブロモ−４
−ヒドロキシベンゾニトリル、（一般名：ブロモキシニ
ル、ベルギー特許第1,067,033号明細書参照）、

【００２７】（８） メチル ２−［３−（４−メトキ
シ−６−メチル−１，３，５−トリアジン−２−イル）
ウレイドスルホニル］ベンゾエート（一般名：メツルフ
ロンメチル、米国特許第4,370,480号明細書参照）、
（９） メチル ３−［３−（４−メトキシ６−メチル
−１，３，５−トリアジン−２−イル）ウレイドスルホ
ニル］チオフェン−２−カルボキシレート、（一般名：
チアメツロン、Short Review of Herbicides & PGRs 6
版 94ページ参照）、（１０） ２−クロロ−Ｎ−（４
−メトキシ−６−メチル−１，３，５−トリアジン−２
−イル−アミノカルボニル）ベンゼンスルホンアミド、
（一般名：クロルスルフロン、米国特許第4,127,405号
明細書参照）、（１１） ３−（４，６−ジメトキシピ
リミジン−２−イル）−１−（Ｎ−メチル−Ｎ−メチル
スルホニル）ウレア、（一般名：アミドスルフロン、Ａ
ＧＲＯＷSulfonylurea herbicides 1991年2月版 151
頁参照）（１２） メチル ６−（４−イソプロピル−
４−メチル−５−オキソイミダゾリノン−２−イル）−
３−メチル−ベンゾエート、（一般名：イマザメタベン
ズ、Short Review of Herbicides & PGRs 6版 172ペー
ジ参照）（１３） １’−メチルヘプチル［（４−アミ
ノ−３，５−ジクロロ−６−フルオロ−２−ピリジル）
オキシ］アセテート、（一般名：フルロキシピル、Shor
tReview of Herbicides & PGRs 6版 156ページ参照）
（１４） メチル ５−（２，４−ジクロロフェノキ
シ）−２−ニトロベンゾエート（一般名：ビフェノック
ス、英国特許第1,232,368号明細書参照）

【００２８】上記した除草活性化合物を組み合わせて、
除草剤として用いる場合には、担体もしくは希釈剤、添
加剤、及び補助剤等と公知の手法で混合して、通常農薬
として用いられる製剤形態、例えば、粉剤、粒剤、水和
剤、乳剤、水溶剤、フロアブル剤等に調製して使用され
る。また他の農薬、例えば、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ
剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料及び土壌改良剤等と
混合又は併用して使用することができる。

【００２９】製剤に際して用いられる担体もしくは希釈
剤としては、一般に使用される固体ないしは液体の担体
が挙げられる。固体担体としては、例えば、カオリナイ
ト群、モンモリロナイト群、イライト群あるいはポリグ
ロスカイト群等で代表されるクレー類、もしくはパイロ
フイライト、アパタルジャイト、セピオライト、カオリ
ナイト、ベントナイト、バーミキュライト、雲母、タル
ク等；石膏、炭酸カルシウム、ドロマイト、けいそう
土、マグネシウム石灰、りん灰石、ゼオライト、無水ケ
イ酸、合成ケイ酸カルシウム等のその他無機物質；大豆
粉、タバコ粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、でんぷん、結
晶セルロース等の植物性有機物質；クマロン樹脂、石油
樹脂、アルキッド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレ
ングリコール、ケトン樹脂、エステルガム、コーバルガ
ム、ダンマルガム等の合成又は天然の高分子化合物；カ
ルナウバロウ、蜜ロウ等のワックス類あるいは尿素等が
例示できる。

【００３０】適当な液体担体としては、例えば、ケロシ
ン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィ
ン系又はナフテン系炭化水素；キシレン、エチルベンゼ
ン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水素；ト
リクロルエチレン、モノクロルベンゼン、オルトクロル
トルエン等の塩素化炭化水素；ジオキサン、テトラヒド
ロフランのようなエーテル類；アセトン、メチルエチル
ケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセ
トフェノン、イソホロン等のケトン類；酢酸エチル、酢
酸アミル、エチレングリコールアセテート、ジエチレン
グリコールアセテート、マレイン酸ジブチル、コハク酸
ジエチル等のエステル類；メタノール、ｎ−ヘキサノー
ル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、シク
ロヘキサノール、ベンジルアルコール等のアルコール
類；エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレング
リコールブチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶
媒あるいは水等が挙げられる。

【００３１】その他に本発明の化合物の乳化、分散、湿
潤、展着、拡展、結合、崩壊性調節、有効成分安定化、
流動性改良、防錆、凍結防止等の目的で界面活性剤その
他の補助剤を使用することもできる。使用される界面活
性剤としては、例えば、非イオン性、陰イオン性、陽イ
オン性及び両性イオン性のいずれも使用しうるが、通常
は非イオン性及び（又は）陰イオン性のものが使用され
る。適当な非イオン性界面活性剤としては、例えば、ラ
ウリルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルア
ルコール、等の高級アルコールにエチレンオキシドを重
合付加させた化合物；ブチルナフトール、オクチルナフ
トール等のアルキルナフトールにエチレンオキシドを重
合付加させた化合物；パルミチン酸、ステアリン酸、オ
レイン酸等の高級脂肪酸にエチレンオキシドを重合付加
させた化合物；ソルビタン等の多価アルコールの高級脂
肪酸エステル及びそれにエチレンオキシドを重合付加さ
せた化合物等が挙げられる。適当な陰イオン性界面活性
剤としては、例えば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイ
ルアルコール硫酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エ
ステル塩、スルホこはく酸ジオクチルエステルナトリウ
ム、２−エチルヘキセンスルホン酸ナトリウム等のアル
キルスルホン酸塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸
ナトリウム、メチレンビスナフタレンスルホン酸ナトリ
ウム、リグニンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウム等のアリールスルホン酸塩等が
挙げられる。

【００３２】更に、本発明の除草剤には、製剤の性状を
改善し、効果を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、ア
ルブミン、ニカワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチ
ルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、ポリビニルアルコール等の高分子化合物や他
の補助剤を併用することもできる。上記の担体及び種々
の補助剤は製剤の剤系、適用場面等を考慮して、目的に
応じてそれぞれ単独あるいは組み合わせて適宜使用され
る。このようにして得られた各種製剤形における本発明
化合物有効成分含有率は製剤形により種々変化するもの
であるが、通常０.１〜９９重量％が適当であり、好ま
しくは１〜８０重量％が最も適当である。

【００３３】水和剤の場合は、例えば、有効成分化合物
を通常２５〜９０％含有し、残部は固体担体及び分散湿
潤剤であって、必要に応じて保護コロイド剤、消泡剤等
が加えられる。粒剤の場合は、例えば、有効成分化合物
を通常１〜３５重量％含有し、残部は固体担体及び界面
活性剤である。有効成分化合物は固体担体と均一に混合
されているか、あるいは固体担体の表面に均一に固着又
は吸着されており、粒の径は約０.２ないし１.５ｍｍで
ある。乳剤の場合は、例えば、有効成分化合物を通常５
〜３０重量％含有しており、これに約５ないし２０重量
％の乳化剤が含まれ、残部は液体担体であり、必要に応
じて展着剤及び防錆剤等が加えられる。フロアブル剤の
場合は、例えば、有効成分化合物を通常５〜５０重量％
含有しており、これに３ないし１０重量％の分散湿潤剤
が含まれ、残部は水であり必要に応じて保護コロイド
剤、防腐剤、消泡剤等が加えられる。本発明の前記一般
式(1)の化合物誘導体は、化合物そのまま、あるいは上
述した様な任意の製剤形態で除草剤として使用すること
ができる。

【００３４】本発明除草剤組成物において、前記一般式
(1)で表される有効成分化合物から選ばれる少なくとも
１種の化合物［(A)成分］と、化合物(1)〜(14)よりなる
群から選ばれる少なくとも１種の化合物［(B)成分］と
の混合割合は適宜に選択変更できる。上記(B)成分とし
て化合物(1)〜(7)、(12)、(13)及び(14)を選んだ場合
は、(A)成分１重量部に対して(B)成分を２〜５０重量部
の割合で混合するのが好ましい。上記(B)成分として化
合物(8)〜(11)を選んだ場合は、(A)成分１重量部に対し
て(B)成分を０.１〜１重量部の割合で混合するのが好ま
しい。本発明除草剤組成物の施用量は、目的とする雑草
の種類、生育段階、施用場所、天候等によって適宜に選
択変更できるが、その施用量は有効成分量［(A)成分と
(B)成分の合計量］として、１ha当たり、０.０１〜５kg
程度、好ましくは０.０３〜２kg程度である。

【００３５】

【実施例】次に、製造例及び実施例をあげて本発明を更
に具体的に説明する。 製造例１６−クロロ−２−［（４，６−ジメトキシ−２−ピリミ
ジル）メチルオキシ］ベンゾイックアシッドトリエチル
アミン塩（化合物Ｎｏ.５）の合成（Ｃ法） ６−クロロ−２−［（４，６−ジメトキシ−２−ピリミ
ジル）メチルオキシ］ベンゾイックアシッド０．４ｇを
テトラヒドロフラン５ｍｌに溶解し、この溶液にトリエ
チルアミン０．１３ｇを加え撹拌した後、溶媒を減圧留
去して６−クロロ−２−［（４，６−ジメトキシ−２−
ピリミジル）メチルオキシ］ベンゾイックアシッドトリ
エチルアミン塩０.５２ｇを得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（δ，CDCl_３中；ppm）：1.30(9H,t), 3.05
(6H,q), 3.90(3H,s), 5.10(2H,s), 5.94(1H,s),6.95-7.
90(3H,m)

【００３６】実施例１（乳剤） (A)成分：化合物Ｎｏ.５ ５ 部 (B)成分：化合物(2) ２５ 部 シクロヘキサノン １０ 部 ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム ３ 部 ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル ４ 部 キシレン ５３ 部 以上を均一に混合溶解して乳剤１００部を得た。

【００３７】実施例２（水和剤） (A)成分：化合物Ｎｏ.５ ２ 部 (B)成分：化合物(6) ２５ 部 リグニンスルホン酸カルシウム ５ 部 アルキルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物 ２ 部 ケイソウ土 ６６ 部 以上を混合し、ジェットミルで粉砕して水和剤１００部
を得た。

【００３８】実施例３（フロアブル剤） (A)成分：化合物Ｎｏ.５ １ 部 (B)成分：化合物(1) ２５ 部 スルホコハク酸ジ−２−エチルヘキシルエステルナトリウム塩 ２ 部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル ３ 部 消泡剤 １ 部 プロピレングリコール ５ 部 水 ６３ 部 以上を湿式ポールミルで均一に粉砕混合し、フロアブル
剤１００部を得た。上述の製剤例に準じて本発明の化合
物を用いた除草剤がそれぞれ製剤できる。

【００３９】次に、除草効果を試験例をあげて説明す
る。 試験例１（畑地茎葉処理） 角型ポット（30×22×12cm）に畑地土壌を充填し、第２
表に示す各種雑草種子を一定量ずつ播種し、１ｃｍの覆
土をした。播種後ポットをガラス温室内に置き、各植物
が２〜４葉期になるまで育成した後、表２に示したＡ成
分、Ｂ成分及びその混合剤を実施例２に準じて水和剤に
調製し、表２に示した有効成分量となるように５００l/
haの散布量相当で各植物の茎葉にむらなく散布した。薬
剤処理を行ってから３０日後に各種雑草への除草効果及
び各種作物の薬害程度を下記の基準に従って判別した。
その結果を表２に示す。

【００４０】

【表２】

【００４１】

【表３】

【００４２】

【表４】

【００４３】

【表５】

【００４４】

【発明の効果】一般式(1)から選ばれる少なくとも１種
の化合物と、(B)成分として挙げられた前記公知化合物
(1)〜(14)から選ばれる少なくとも１種以上の化合物と
を組み合わせた本発明除草剤組成物を使用すると、それ
ぞれの化合物単剤では防除困難な雑草に対して完全な防
除効果を示すと共に、相乗的な除草効果により単剤では
防除困難な低薬量においても種々の雑草を有効に防除
し、かつ或る種の栽培作物に対して高い安全性を有す
る。本発明除草剤組成物は、雑草の生育期の施用におい
て、畑地の広範囲の雑草を防除可能である。特に、畑地
に発生するヤエムグラ、ハコベ、ナズナ、カミツレ、オ
ランダミミナグサ、オオイヌノフグリ、パンジー、野生
カラシナ、ホトケノザ、アオビユ、イチビ、シロバナチ
ョウセンアサガオ、オナモミ等の広葉雑草、及びオオス
ズメノテッポウ、野生エンバク、ジョンソングラス、シ
バムギ等の種々のイネ科雑草に対して優れた除草活性を
示し、コムギ等の有用作物に対しては高い安全性を示
す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ０１Ｎ 39/04 Ａ 9159−4Ｈ 43/40 １０１ 9159−4Ｈ 43/50 Ｑ 9159−4Ｈ 43/66 9159−4Ｈ 47/30 Ｂ 9159−4Ｈ 47/36 １０１ Ｅ 9159−4Ｈ (72)発明者 古峰 美樹 茨城県稲敷郡阿見町中央８丁目３番１号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内 (72)発明者 佐々木 則雄 茨城県稲敷郡阿見町中央８丁目３番１号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 (A) 下記一般式(1)： 【化１】 （式中、Ｘはハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
   コキシ基、低級アシルオキシ基またはニトロ基を示し、
   ｎは０〜２までの整数を示す。Ｙは水素原子、低級アル
   キル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、置換低
   級アルキル基、置換低級アルケニル基、置換低級アルキ
   ニル基、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子また
   はアルキル基で置換されても良いアンモニウムカチオン
   を示す。Ｒ¹およびＲ²は各々独立して低級アルキル基を
   示す。）で表されるフェノキシメチルピリミジン誘導体
   から選ばれる少なくとも１種の化合物と、 (B) 下記の化合物(1)〜(14)から選ばれる少なくとも１
   種の化合物： (1) ３−（４−イソプロピルフェニル）−１，１−ジメ
   チルウレア (2) ２，４−ジクロロフェノキシアセティックアシッド (3) ４−クロロ−２−メチルフェノキシアセティックア
   シッド (4) ２−（４−クロロ−２−メチルフェノキシ）−プロ
   ピオニックアシッド (5) ３，６−ジクロロ−２−メトキシベンゾイックアシ
   ッド (6) ４−ヒドロキシ−３，５−ジヨードベンゾニトリル (7) ３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシベンゾニトリル (8) メチル ２−［３−（４−メトキシ−６−メチル−
   １，３，５−トリアジン−２−イル）ウレイドスルホニ
   ル］ベンゾエート (9) メチル ３−［３−（４−メトキシ６−メチル−
   １，３，５−トリアジン−２−イル）ウレイドスルホニ
   ル］チオフェン−２−カルボキシレート (10) ２−クロロ−Ｎ−（４−メトキシ−６−メチル−
   １，３，５−トリアジン−２−イル−アミノカルボニ
   ル）ベンゼンスルホンアミド (11) ３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
   ル）−１−（Ｎ−メチル−Ｎ−メチルスルホニル）ウレ
   ア (12) メチル ６−（４−イソプロピル−４−メチル−５
   −オキソイミダゾリノン−２−イル）−３−メチル−ベ
   ンゾエート (13) １’−メチルヘプチル［（４−アミノ−３，５−
   ジクロロ−６−フルオロ−２−ピリジル）オキシ］アセ
   テート (14) メチル ５−（２，４−ジクロロフェノキシ）−２
   −ニトロベンゾエート を有効成分として含有する除草剤組成物。