JPH06298742A - フッ素化ピリミジンアミド誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents
フッ素化ピリミジンアミド誘導体およびそれを有効成分とする除草剤Info
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- JPH06298742A JPH06298742A JP9020993A JP9020993A JPH06298742A JP H06298742 A JPH06298742 A JP H06298742A JP 9020993 A JP9020993 A JP 9020993A JP 9020993 A JP9020993 A JP 9020993A JP H06298742 A JPH06298742 A JP H06298742A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 除草スペクトラムが広く、除草効果が高く、
作物に対する安全性の優れた化合物の創製。 【構成】 次式のフッ素化ピリミジンアミド誘導体およ
び当該フッ素ピリミジンアミド誘導体を有効成分として
含有する除草剤。 [式中、R1は水素原子、低級(ハロ)アルキル基、も
しくは、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、ニトロ基で随時置換されていてもよいアリール基
またはアラルキル基を;R2は水素原子、低級アルキル
基等を;R3は水素原子または低級アルキル基を;
R4,R5はハロゲン原子または低級アルコキシ基を;
示す]
作物に対する安全性の優れた化合物の創製。 【構成】 次式のフッ素化ピリミジンアミド誘導体およ
び当該フッ素ピリミジンアミド誘導体を有効成分として
含有する除草剤。 [式中、R1は水素原子、低級(ハロ)アルキル基、も
しくは、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、ニトロ基で随時置換されていてもよいアリール基
またはアラルキル基を;R2は水素原子、低級アルキル
基等を;R3は水素原子または低級アルキル基を;
R4,R5はハロゲン原子または低級アルコキシ基を;
示す]
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、文献未記載の新規なフ
ッ素化ピリミジンアミド誘導体およびそれを有効成分と
して含有する除草剤に関する。
ッ素化ピリミジンアミド誘導体およびそれを有効成分と
して含有する除草剤に関する。
【0002】
【従来の技術】フィジオロチェスキーアクチブニイエベ
シェストバ(Физиолоческий Актив
ный Вешества)18巻、75頁(1986
年)には、ピリミジン誘導体が殺虫および殺線虫活性物
質として掲載されている。
シェストバ(Физиолоческий Актив
ный Вешества)18巻、75頁(1986
年)には、ピリミジン誘導体が殺虫および殺線虫活性物
質として掲載されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、除草
スペクトラムが広く、除草効果が高く、且つ作物に対す
る安全性の優れた化合物の創製にある。
スペクトラムが広く、除草効果が高く、且つ作物に対す
る安全性の優れた化合物の創製にある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成すべく鋭意研究した結果、新規なフッ素化ピリミジ
ンアミド誘導体を創製することに成功し、この化合物が
除草作用を有し、かつある種の作物に対して高い安全性
を有することを見い出し本発明を完成するに至った。即
ち、本発明によれば、下記一般式(I):
達成すべく鋭意研究した結果、新規なフッ素化ピリミジ
ンアミド誘導体を創製することに成功し、この化合物が
除草作用を有し、かつある種の作物に対して高い安全性
を有することを見い出し本発明を完成するに至った。即
ち、本発明によれば、下記一般式(I):
【0005】
【化3】
【0006】(式中、R1は水素原子、低級アルキル
基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基あるいはニ
トロ基で随時置換されていてもよいアリール基、または
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基ある
いはニトロ基で随時置換されていてもよいアラルキル基
を示し、R2は水素原子もしくはその農学的に許容され
る塩、または低級アルキル基を示し、R3は水素原子ま
たは低級アルキル基を示し、R4およびR5は各々独立し
てハロゲン原子または低級アルコキシ基を示す。)で表
されるフッ素化ピリミジンアミド誘導体、およびそれを
含有する除草剤が提供される。
基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基あるいはニ
トロ基で随時置換されていてもよいアリール基、または
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基ある
いはニトロ基で随時置換されていてもよいアラルキル基
を示し、R2は水素原子もしくはその農学的に許容され
る塩、または低級アルキル基を示し、R3は水素原子ま
たは低級アルキル基を示し、R4およびR5は各々独立し
てハロゲン原子または低級アルコキシ基を示す。)で表
されるフッ素化ピリミジンアミド誘導体、およびそれを
含有する除草剤が提供される。
【0007】
【発明の具体的説明】前記一般式(I)における、置換
基R1、R2、R3、R4およびR5の定義において、それ
ぞれの基の具体例を下記に示す。ハロゲン原子 :例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を
挙げることができる。低級アルキル基 :例えば、メチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチル、第二ブチル、第三ブチ
ル基等の如き炭素数4以下の低級アルキル基を挙げるこ
とができる。ハロゲン原子で置換された低級アルキル基 :例えば、モ
ノクロロメチル、トリフルオロメチル基等の如き、1〜
3個のハロゲン原子で置換された低級アルキル基を挙げ
ることができる。低級アルコキシ基 :例えば、メトキシ、エトキシ、n−
プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブト
キシ、第二ブトキシ、第三ブトキシ基等の如き炭素数4
以下の低級アルコキシ基を挙げることができる。
基R1、R2、R3、R4およびR5の定義において、それ
ぞれの基の具体例を下記に示す。ハロゲン原子 :例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を
挙げることができる。低級アルキル基 :例えば、メチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチル、第二ブチル、第三ブチ
ル基等の如き炭素数4以下の低級アルキル基を挙げるこ
とができる。ハロゲン原子で置換された低級アルキル基 :例えば、モ
ノクロロメチル、トリフルオロメチル基等の如き、1〜
3個のハロゲン原子で置換された低級アルキル基を挙げ
ることができる。低級アルコキシ基 :例えば、メトキシ、エトキシ、n−
プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブト
キシ、第二ブトキシ、第三ブトキシ基等の如き炭素数4
以下の低級アルコキシ基を挙げることができる。
【0008】ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基あるいはニトロ基で随時置換されていてもよい
アリール基;例えば、フェニル、1−ナフチル、2−ナ
フチル、2−ブロモフェニル、3−ブロモフェニル、4
−ブロモフェニル、2−クロロフェニル、3−クロロフ
ェニル、4−クロロフェニル、2−メチルフェニル、3
−メチルフェニル、4−メチルフェニル、2−メトキシ
フェニル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフェニ
ル、2−ニトロフェニル、3−ニトロフェニル、4−ニ
トロフェニル、2−エトキシカルボニルフェニル、4−
アミノフェニル、5−ヒドロキシフェニル基等を挙げる
ことができる。ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基ある
いはニトロ基で随時置換されていてもよいアラルキル
基 :例えば、ベンジル、2−ブロモベンジル、3−ブロ
モベンジル、4−ブロモベンジル、2−クロロベンジ
ル、3−クロロベンジル、4−クロロベンジル、2−フ
ルオロベンジル、3−フルオロベンジル、4−フルオロ
ベンジル、2−メトキシベンジル、3−メトキシベンジ
ル、4−メトキシベンジル、2−メチルベンジル、3−
メチルベンジル、4−メチルベンジル、3−ニトロベン
ジル、4−ニトロベンジル基等を挙げることができる。塩の場合の対となるカチオン種 :R2が水素原子である
ものと反応して塩を生成するものであればよく、例え
ば、ナトリウム、カリウム、リチウム、カルシウム、マ
グネシウム等が挙げられる。上記に具体的に示されない
基については、上記原子および基から任意に組み合わせ
て、あるいは一般的に知られた常識に従って選択するこ
とができる。勿論、上記一般式(I)で表される化合物
の立体異性体(エナンチオマー)は本発明の範囲内にあ
ることを理解すべきである。
コキシ基あるいはニトロ基で随時置換されていてもよい
アリール基;例えば、フェニル、1−ナフチル、2−ナ
フチル、2−ブロモフェニル、3−ブロモフェニル、4
−ブロモフェニル、2−クロロフェニル、3−クロロフ
ェニル、4−クロロフェニル、2−メチルフェニル、3
−メチルフェニル、4−メチルフェニル、2−メトキシ
フェニル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフェニ
ル、2−ニトロフェニル、3−ニトロフェニル、4−ニ
トロフェニル、2−エトキシカルボニルフェニル、4−
アミノフェニル、5−ヒドロキシフェニル基等を挙げる
ことができる。ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基ある
いはニトロ基で随時置換されていてもよいアラルキル
基 :例えば、ベンジル、2−ブロモベンジル、3−ブロ
モベンジル、4−ブロモベンジル、2−クロロベンジ
ル、3−クロロベンジル、4−クロロベンジル、2−フ
ルオロベンジル、3−フルオロベンジル、4−フルオロ
ベンジル、2−メトキシベンジル、3−メトキシベンジ
ル、4−メトキシベンジル、2−メチルベンジル、3−
メチルベンジル、4−メチルベンジル、3−ニトロベン
ジル、4−ニトロベンジル基等を挙げることができる。塩の場合の対となるカチオン種 :R2が水素原子である
ものと反応して塩を生成するものであればよく、例え
ば、ナトリウム、カリウム、リチウム、カルシウム、マ
グネシウム等が挙げられる。上記に具体的に示されない
基については、上記原子および基から任意に組み合わせ
て、あるいは一般的に知られた常識に従って選択するこ
とができる。勿論、上記一般式(I)で表される化合物
の立体異性体(エナンチオマー)は本発明の範囲内にあ
ることを理解すべきである。
【0009】本発明の上記一般式(I)において、特に
好ましい化合物は、R1がメチル基であり、R2がエチル
基であり、R3が水素原子であり、R4およびR5がそれ
ぞれ独立して、塩素原子あるいはメトキシ基、特に好ま
しくは、両方メトキシ基である化合物である。
好ましい化合物は、R1がメチル基であり、R2がエチル
基であり、R3が水素原子であり、R4およびR5がそれ
ぞれ独立して、塩素原子あるいはメトキシ基、特に好ま
しくは、両方メトキシ基である化合物である。
【0010】前記一般式(I)で表される本発明化合物
を第1表に例示する。
を第1表に例示する。
【表1】 第1表 化合物 番号 R1 R2 R3 R4 R5 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 1 H H H Cl OCH3 2 H H CH3 Cl OCH3 3 H CH3 H Cl OCH3 4 H CH3 CH3 Cl OCH3 5 H CH2CH3 H Cl OCH3 6 H CH2CH3 CH3 Cl OCH3 7 H H H OCH3 OCH3 8 H H CH3 OCH3 OCH3 9 H CH3 H OCH3 OCH3 0 H CH3 CH3 OCH3 OCH3 11 H CH2CH3 H OCH3 OCH3 12 H CH2CH3 CH3 OCH3 OCH3 13 CH3 H H Cl OCH3 14 CH3 H CH3 Cl OCH3 15 CH3 CH3 H Cl OCH3 16 CH3 CH3 CH3 Cl OCH3 17 CH3 CH2CH3 H Cl OCH3 18 CH3 CH2CH3 CH3 Cl OCH3 19 CH3 H H OCH3 OCH3 20 CH3 H CH3 OCH3 OCH3 21 CH3 CH3 H OCH3 OCH3 22 CH3 CH3 CH3 OCH3 OCH3
【0011】
【表2】 第1表(つづき) 化合物 番号 R1 R2 R3 R4 R5 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 23 CH3 CH2CH3 H OCH3 OCH3 24 CH3 CH2CH3 CH3 OCH3 OCH3 25 CH2CH3 H H Cl OCH3 26 CH2CH3 H CH3 Cl OCH3 27 CH2CH3 CH3 H Cl OCH3 28 CH2CH3 CH3 CH3 Cl OCH3 29 CH2CH3 CH2CH3 H Cl OCH3 30 CH2CH3 CH2CH3 CH3 Cl OCH3 31 CH2CH3 H H OCH3 OCH3 32 CH2CH3 H CH3 OCH3 OCH3 33 CH2CH3 CH3 H OCH3 OCH3 34 CH2CH3 CH3 CH3 OCH3 OCH3 35 CH2CH3 CH2CH3 H OCH3 OCH3 36 CH2CH3 CH2CH3 CH3 OCH3 OCH3 37 CH2CH2CH3 H H Cl OCH3 38 CH2CH2CH3 H CH3 Cl OCH3 39 CH2CH2CH3 CH3 H Cl OCH3 40 CH2CH2CH3 CH3 CH3 Cl OCH3 41 CH2CH2CH3 CH2CH3 H Cl OCH3 42 CH2CH2CH3 CH2CH3 CH3 Cl OCH3 43 CH2CH2CH3 H H OCH3 OCH3 44 CH2CH2CH3 H CH3 OCH3 OCH3 45 CH2CH2CH3 CH3 H OCH3 OCH3
【0012】
【表3】 第1表(つづき) 化合物 番号 R1 R2 R3 R4 R5 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 46 CH2CH2CH3 CH3 CH3 OCH3 OCH3 47 CH2CH2CH3 CH2CH3 H OCH3 OCH3 48 CH2CH2CH3 CH2CH3 CH3 OCH3 OCH3 49 CF3 H H Cl OCH3 50 CF3 H CH3 Cl OCH3 51 CF3 CH3 H Cl OCH3 52 CF3 CH3 CH3 Cl OCH3 53 CF3 CH2CH3 H Cl OCH3 54 CF3 CH2CH3 CH3 Cl OCH3 55 CF3 H H OCH3 OCH3 56 CF3 H CH3 OCH3 OCH3 57 CF3 CH3 H OCH3 OCH3 58 CF3 CH3 CH3 OCH3 OCH3 59 CF3 CH2CH3 H OCH3 OCH3 60 CF3 CH2CH3 CH3 OCH3 OCH3 61 C6H5 H H Cl OCH3 62 C6H5 H CH3 Cl OCH3 63 C6H5 CH3 H Cl OCH3 64 C6H5 CH3 CH3 Cl OCH3 65 C6H5 CH2CH3 H Cl OCH3 66 C6H5 CH2CH3 CH3 Cl OCH3 67 C6H5 H H OCH3 OCH3 68 C6H5 H CH3 OCH3 OCH3
【0013】
【表4】 第1表(つづき) 化合物 番号 R1 R2 R3 R4 R5 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 69 C6H5 CH3 H OCH3 OCH3 70 C6H5 CH3 CH3 OCH3 OCH3 71 C6H5 CH2CH3 H OCH3 OCH3 72 C6H5 CH2CH3 CH3 OCH3 OCH3 73 CH2C6H5 H H Cl OCH3 74 CH2C6H5 H CH3 Cl OCH3 75 CH2C6H5 CH3 H Cl OCH3 76 CH2C6H5 CH3 CH3 Cl OCH3 77 CH2C6H5 CH2CH3 H Cl OCH3 78 CH2C6H5 CH2CH3 CH3 Cl OCH3 79 CH2C6H5 H H OCH3 OCH3 80 CH2C6H5 H CH3 OCH3 OCH3 81 CH2C6H5 CH3 H OCH3 OCH3 82 CH2C6H5 CH3 CH3 OCH3 OCH3 83 CH2C6H5 CH2CH3 H OCH3 OCH3 84 CH2C6H5 CH2CH3 CH3 OCH3 OCH3 85 CH3 Li H OCH3 OCH3 86 CH3 Na H OCH3 OCH3 87 CH3 K H OCH3 OCH3 88 CH3 1/2Ca H OCH3 OCH3 89 CH3 1/2Mg H OCH3 OCH3
【0014】
【表5】 第1表(つづき) 化合物 番号 R1 R2 R3 R4 R5 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 90 CH3 Li H Cl OCH3 91 CH3 Na H Cl OCH3 92 CH3 K H Cl OCH3 93 CH3 1/2Ca H Cl OCH3 94 CH3 1/2Mg H Cl OCH3
【0015】本発明化合物は、例えば下記に示す方法
(A法、B法及びC法)により製造することができる。
(A法、B法及びC法)により製造することができる。
【0016】
【化4】
【0017】上記反応式において、式(I−1)で表さ
れる化合物は式(II)で表されるマロン酸誘導体を無溶
媒もしくは適当な溶媒の存在下、塩素源と氷冷下ないし
溶媒の沸点温度の範囲で、1〜24時間反応させ酸塩化
物に導いてから式(III)で表されるアミノピリミジン
と反応させて製造することができる。この反応において
使用される溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素系溶媒;ジクロルメタン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒;アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;酢酸メチ
ル、酢酸エチル等のエステル系溶媒;ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等
の非プロトン性極性溶媒;アセトニトリル、水などを挙
げることができる。また、塩素源としては、塩化ホスホ
リル、塩化チオニル、五塩化リン、三塩化リン等の無機
塩化合物が挙げられる。上記式(II)の化合物に対する
式(III)の化合物の割合は、厳密には制限されない
が、通常式(II)の化合物1モル当たり式(III)の化
合物は、1〜10当量、好ましくは1〜2当量の範囲内
であることが好都合である。反応終了後の反応液は、有
機溶媒抽出及び濃縮等の通常の後処理を行ない、必要な
らば、クロマトグラフイー、再結晶等の操作によって精
製することにより、目的の本発明化合物を製造すること
ができる。
れる化合物は式(II)で表されるマロン酸誘導体を無溶
媒もしくは適当な溶媒の存在下、塩素源と氷冷下ないし
溶媒の沸点温度の範囲で、1〜24時間反応させ酸塩化
物に導いてから式(III)で表されるアミノピリミジン
と反応させて製造することができる。この反応において
使用される溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素系溶媒;ジクロルメタン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒;アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;酢酸メチ
ル、酢酸エチル等のエステル系溶媒;ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等
の非プロトン性極性溶媒;アセトニトリル、水などを挙
げることができる。また、塩素源としては、塩化ホスホ
リル、塩化チオニル、五塩化リン、三塩化リン等の無機
塩化合物が挙げられる。上記式(II)の化合物に対する
式(III)の化合物の割合は、厳密には制限されない
が、通常式(II)の化合物1モル当たり式(III)の化
合物は、1〜10当量、好ましくは1〜2当量の範囲内
であることが好都合である。反応終了後の反応液は、有
機溶媒抽出及び濃縮等の通常の後処理を行ない、必要な
らば、クロマトグラフイー、再結晶等の操作によって精
製することにより、目的の本発明化合物を製造すること
ができる。
【0018】原料となる前記式(II)のフッ素化マロン
酸誘導体は、たとえば、特開昭62-207230号公報に記載
される方法を参考にして、また前記式(III)で表され
るアミノピリミジンは、例えば、ヨーロッパ特許公開第
468,766号明細書に記載される方法を参考にして製造す
ることができる。
酸誘導体は、たとえば、特開昭62-207230号公報に記載
される方法を参考にして、また前記式(III)で表され
るアミノピリミジンは、例えば、ヨーロッパ特許公開第
468,766号明細書に記載される方法を参考にして製造す
ることができる。
【0019】
【化5】
【0020】上記反応式において、式(I−2)で表さ
れる化合物は式(I−1)で表される化合物を無溶媒ま
たは適当な溶媒の存在下、適当な塩基を用いて、−78
℃ないし溶媒の沸点温度の範囲で、種々のアルキル化剤
と1〜24時間反応させることができる。この反応にお
いて溶媒を使用する場合、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素系溶媒;ジクロルメタン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒;ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセト
アミド等の非プロトン性極性溶媒;アセトニトリルなど
を挙げることができる。また、塩基としては、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類;水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等の水酸化金属類;ナトリウムメチ
ラート、ナトリウムエチラート等の金属アルコラート
類;水素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化アル
キル金属類;リチウムジエチルアミド、リチウムジイソ
プロピルアミド、リチウムビストリメチルシリルアミド
等のリチウムアミド類を挙げることができる。
れる化合物は式(I−1)で表される化合物を無溶媒ま
たは適当な溶媒の存在下、適当な塩基を用いて、−78
℃ないし溶媒の沸点温度の範囲で、種々のアルキル化剤
と1〜24時間反応させることができる。この反応にお
いて溶媒を使用する場合、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素系溶媒;ジクロルメタン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒;ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセト
アミド等の非プロトン性極性溶媒;アセトニトリルなど
を挙げることができる。また、塩基としては、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類;水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等の水酸化金属類;ナトリウムメチ
ラート、ナトリウムエチラート等の金属アルコラート
類;水素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化アル
キル金属類;リチウムジエチルアミド、リチウムジイソ
プロピルアミド、リチウムビストリメチルシリルアミド
等のリチウムアミド類を挙げることができる。
【0021】また、アルキル化剤としては、メチルブロ
マイド、エチルブロマイド、メチルイオダイド、エチル
イオダイド等の低級アルキルハライド;メチルメタンス
ルホネート、エチルメタンスルホネート等の低級アルキ
ルメタンスルホネート;メチルベンゼンスルホネート、
エチルベンゼンスルホネート等の低級アルキルベンゼン
スルホネート;メチルパラトルエンスルホネート、エチ
ルパラトルエンスルホネート等の低級アルキルパラトル
エンスルホネート;メチルトリフルオロメタンスルホネ
ート、エチルトリフルオロメタンスルホネート等の低級
アルキルトリフルオロメタンスルホネート;ジメチル硫
酸、ジエチル硫酸等のジ低級アルキル硫酸等が挙げられ
る。上記式(I−1)の化合物に対するアルキル化剤の
割合は、厳密には制限されないが、通常式(I−1)の
化合物1モル当たりアルキル化剤は、1〜10当量、好
ましくは1〜2当量の範囲内であることが好都合であ
る。反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出及び濃縮等の
通常の後処理を行ない、必要ならば、クロマトグラフイ
ー、再結晶等の操作によって精製することにより、目的
の本発明化合物を製造することができる。
マイド、エチルブロマイド、メチルイオダイド、エチル
イオダイド等の低級アルキルハライド;メチルメタンス
ルホネート、エチルメタンスルホネート等の低級アルキ
ルメタンスルホネート;メチルベンゼンスルホネート、
エチルベンゼンスルホネート等の低級アルキルベンゼン
スルホネート;メチルパラトルエンスルホネート、エチ
ルパラトルエンスルホネート等の低級アルキルパラトル
エンスルホネート;メチルトリフルオロメタンスルホネ
ート、エチルトリフルオロメタンスルホネート等の低級
アルキルトリフルオロメタンスルホネート;ジメチル硫
酸、ジエチル硫酸等のジ低級アルキル硫酸等が挙げられ
る。上記式(I−1)の化合物に対するアルキル化剤の
割合は、厳密には制限されないが、通常式(I−1)の
化合物1モル当たりアルキル化剤は、1〜10当量、好
ましくは1〜2当量の範囲内であることが好都合であ
る。反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出及び濃縮等の
通常の後処理を行ない、必要ならば、クロマトグラフイ
ー、再結晶等の操作によって精製することにより、目的
の本発明化合物を製造することができる。
【0022】
【化6】
【0023】上記反応式において、式(I−4)で表さ
れる化合物は式(I−3)で表される化合物を無溶媒ま
たは適当な溶媒の存在下、−78℃ないし溶媒の沸点温
度の範囲で、種々の金属と1〜24時間反応させること
ができる。この反応において溶媒を使用する場合は、例
えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル等のアルコール系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の炭化水素系溶媒;ジクロルメタン、クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−
ジオキサン等のエーテル系溶媒;ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等の
非プロトン性極性溶媒;アセトニトリル、水などを挙げ
ることができる。また、金属としては、リチウム、ナト
リウム、カリウム等のアルカリ金属類;マグネシウム、
カルシウム等のアルカリ土類金属類;水酸化カルシウ
ム、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金属類;
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ
金属類を挙げることができる。上記式(I−3)の化合
物に対する金属の割合は、厳密には制限されないが、通
常式(I−3)の化合物1モル当たりアルキル化剤は、
1〜10当量、好ましくは1〜2当量の範囲内であるこ
とが好都合である。反応終了後の反応液は、有機溶媒抽
出及び濃縮等の通常の後処理を行ない、必要ならば、ク
ロマトグラフイー、再結晶等の操作によって精製するこ
とにより、目的の本発明化合物を製造することができ
る。
れる化合物は式(I−3)で表される化合物を無溶媒ま
たは適当な溶媒の存在下、−78℃ないし溶媒の沸点温
度の範囲で、種々の金属と1〜24時間反応させること
ができる。この反応において溶媒を使用する場合は、例
えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル等のアルコール系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の炭化水素系溶媒;ジクロルメタン、クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−
ジオキサン等のエーテル系溶媒;ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等の
非プロトン性極性溶媒;アセトニトリル、水などを挙げ
ることができる。また、金属としては、リチウム、ナト
リウム、カリウム等のアルカリ金属類;マグネシウム、
カルシウム等のアルカリ土類金属類;水酸化カルシウ
ム、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金属類;
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ
金属類を挙げることができる。上記式(I−3)の化合
物に対する金属の割合は、厳密には制限されないが、通
常式(I−3)の化合物1モル当たりアルキル化剤は、
1〜10当量、好ましくは1〜2当量の範囲内であるこ
とが好都合である。反応終了後の反応液は、有機溶媒抽
出及び濃縮等の通常の後処理を行ない、必要ならば、ク
ロマトグラフイー、再結晶等の操作によって精製するこ
とにより、目的の本発明化合物を製造することができ
る。
【0024】本発明の前記一般式(I)で表される新規
化合物は、除草剤としての活性を有している。本発明の
前記化合物を除草剤として用いる場合には、担体もしく
は希釈剤、添加剤、及び補助剤等と公知の手法で混合し
て、通常農薬として用いられる製剤形態、例えば、粉
剤、粒剤、水和剤、乳剤、水溶剤、フロアブル剤等に調
製して使用される。また他の農薬、例えば殺菌剤、殺虫
剤、殺ダニ剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料及び土壌
改良剤等と混合叉は併用して使用することができる。特
に他の除草剤と混合使用することにより、使用薬量を減
少させ、また省力化をもたらすのみならず、両薬剤の共
力作用による殺草スペクトラムの拡大及び相乗作用によ
る一層高い効果も期待できる。
化合物は、除草剤としての活性を有している。本発明の
前記化合物を除草剤として用いる場合には、担体もしく
は希釈剤、添加剤、及び補助剤等と公知の手法で混合し
て、通常農薬として用いられる製剤形態、例えば、粉
剤、粒剤、水和剤、乳剤、水溶剤、フロアブル剤等に調
製して使用される。また他の農薬、例えば殺菌剤、殺虫
剤、殺ダニ剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料及び土壌
改良剤等と混合叉は併用して使用することができる。特
に他の除草剤と混合使用することにより、使用薬量を減
少させ、また省力化をもたらすのみならず、両薬剤の共
力作用による殺草スペクトラムの拡大及び相乗作用によ
る一層高い効果も期待できる。
【0025】製剤に際して用いられる担体もしくは希釈
剤としては、一般に使用される固体ないしは液体の担体
が挙げられる。固体担体としては、例えば、カオリナイ
ト群、モンモリロナイト群、イライト群あるいはポリゴ
スカイト群等で代表されるクレー類、パイロフイライ
ト、アタパルジャイト、セピオライト、カオリナイト、
ベントナイト、バーミキュライト、雲母、タルク等;石
膏、炭酸カルシウム、ドロマイト、けいそう土、マグネ
シウム石灰、りん灰石、ゼオライト、無水ケイ酸、合成
ケイ酸カルシウム等のその他無機物質;大豆粉、タバコ
粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、でんぷん、結晶セルロー
ス等の植物性有機物質;クマロン樹脂、石油樹脂、アル
キッド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレングリコー
ル、ケトン樹脂、エステルガム、コーバルガム、ダンマ
ルガム等の合成叉は天然の高分子化合物;カルナウバロ
ウ、蜜ロウ等のワックス類あるいは尿素等が例示でき
る。
剤としては、一般に使用される固体ないしは液体の担体
が挙げられる。固体担体としては、例えば、カオリナイ
ト群、モンモリロナイト群、イライト群あるいはポリゴ
スカイト群等で代表されるクレー類、パイロフイライ
ト、アタパルジャイト、セピオライト、カオリナイト、
ベントナイト、バーミキュライト、雲母、タルク等;石
膏、炭酸カルシウム、ドロマイト、けいそう土、マグネ
シウム石灰、りん灰石、ゼオライト、無水ケイ酸、合成
ケイ酸カルシウム等のその他無機物質;大豆粉、タバコ
粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、でんぷん、結晶セルロー
ス等の植物性有機物質;クマロン樹脂、石油樹脂、アル
キッド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレングリコー
ル、ケトン樹脂、エステルガム、コーバルガム、ダンマ
ルガム等の合成叉は天然の高分子化合物;カルナウバロ
ウ、蜜ロウ等のワックス類あるいは尿素等が例示でき
る。
【0026】適当な液体担体としては、例えば、ケロシ
ン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィ
ン系叉はナフテン系炭化水素;キシレン、エチルベンゼ
ン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水素;ト
リクロルエチレン、モノクロルベンゼン、オルトクロル
トルエン等の塩素化炭化水素;ジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケト
ン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフ
ェノン、イソホロン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ア
ミル、エチレングリコ−ルアセテート、ジエチレングリ
コールアセテート、マレイン酸ジブチル、コハク酸ジエ
チル等のエステル類;メタノール、n−ヘキサノール、
エチレングリコール、ジエチレングリコール、シクロヘ
キサノール、ベンジルアルコ−ル等のアルコール類;エ
チレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルブチルエーテル等のエーテルアルコール類;ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒ある
いは水等が挙げられる。
ン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィ
ン系叉はナフテン系炭化水素;キシレン、エチルベンゼ
ン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水素;ト
リクロルエチレン、モノクロルベンゼン、オルトクロル
トルエン等の塩素化炭化水素;ジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケト
ン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフ
ェノン、イソホロン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ア
ミル、エチレングリコ−ルアセテート、ジエチレングリ
コールアセテート、マレイン酸ジブチル、コハク酸ジエ
チル等のエステル類;メタノール、n−ヘキサノール、
エチレングリコール、ジエチレングリコール、シクロヘ
キサノール、ベンジルアルコ−ル等のアルコール類;エ
チレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルブチルエーテル等のエーテルアルコール類;ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒ある
いは水等が挙げられる。
【0027】その他に本発明の化合物の乳化、分散、湿
潤、展着、拡展、結合、崩壊性調節、有効成分安定化、
流動性改良、防錆、凍結防止等の目的で界面活性剤その
他の補助剤を使用することもできる。使用される界面活
性剤の例としては、例えば、非イオン性、陰イオン性、
陽イオン性及び両性イオン性のいずれも使用しうるが、
通常は非イオン性及び(叉は)陰イオン性のものが使用
される。適当な非イオン性界面活性剤としては、例え
ば、ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、オレ
イルアルコール、等の高級アルコールにエチレンオキシ
ドを重合付加させた化合物;ブチルナフトール、オクチ
ルナフトール等のアルキルナフトールにエチレンオキシ
ドをブロック重合付加させた化合物;パルミチン酸、ス
テアリン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸にエチレンオキ
シドを重合付加させた化合物;ソルビタン等の多価アル
コールの高級脂肪酸エステル及びそれにエチレンオキシ
ドを重合付加させた化合物等が挙げられる。
潤、展着、拡展、結合、崩壊性調節、有効成分安定化、
流動性改良、防錆、凍結防止等の目的で界面活性剤その
他の補助剤を使用することもできる。使用される界面活
性剤の例としては、例えば、非イオン性、陰イオン性、
陽イオン性及び両性イオン性のいずれも使用しうるが、
通常は非イオン性及び(叉は)陰イオン性のものが使用
される。適当な非イオン性界面活性剤としては、例え
ば、ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、オレ
イルアルコール、等の高級アルコールにエチレンオキシ
ドを重合付加させた化合物;ブチルナフトール、オクチ
ルナフトール等のアルキルナフトールにエチレンオキシ
ドをブロック重合付加させた化合物;パルミチン酸、ス
テアリン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸にエチレンオキ
シドを重合付加させた化合物;ソルビタン等の多価アル
コールの高級脂肪酸エステル及びそれにエチレンオキシ
ドを重合付加させた化合物等が挙げられる。
【0028】適当な陰イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫
酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩、スル
ホこはく酸ジオクチルエステルナトリウム、2−エチル
ヘキセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸
塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メ
チレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニン
スルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム等のアリールスルホン酸塩等が挙げられる。更
に、本発明の除草剤には、製剤の性状を改善し、効果を
高める目的で、カゼイン、ゼラチン、アルブミン、ニカ
ワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチルセルロース、
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリ
ビニルアルコール等の高分子化合物や他の補助剤を併用
することもできる。上記の担体及び種々の補助剤は製剤
の剤系、適用場面等を考慮して、目的に応じてそれぞれ
単独あるいは組み合わせて適宜使用される。
えば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫
酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩、スル
ホこはく酸ジオクチルエステルナトリウム、2−エチル
ヘキセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸
塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メ
チレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニン
スルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム等のアリールスルホン酸塩等が挙げられる。更
に、本発明の除草剤には、製剤の性状を改善し、効果を
高める目的で、カゼイン、ゼラチン、アルブミン、ニカ
ワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチルセルロース、
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリ
ビニルアルコール等の高分子化合物や他の補助剤を併用
することもできる。上記の担体及び種々の補助剤は製剤
の剤系、適用場面等を考慮して、目的に応じてそれぞれ
単独あるいは組み合わせて適宜使用される。
【0029】このようにして得られた各種製剤形におけ
る本発明化合物有効成分含有率は製剤形により種々変化
するものであるが、通常0.1〜99重量%が適当であ
り、好ましくは1〜80重量%が最も適当である。水和
剤の場合は、例えば有効成分化合物を通常25〜90%
含有し、残部は固体担体及び分散湿潤剤であって、必要
に応じて保護コロイド剤、消泡剤等が加えられる。粒剤
の場合は、例えば、有効成分化合物を通常1〜35重量
%含有し、残部は固体担体及び界面活性剤である。有効
成分化合物は固体担体と均一に混合されているか、ある
いは固体担体の表面に均一に固着叉は吸着されており、
粒の径は約0.2ないし1.5mmである。乳剤の場合
は、例えば、有効成分化合物を通常5〜30重量%含有
しており、これに約5ないし20重量%の乳化剤が含ま
れ、残部は液体担体であり、必要に応じて展着剤及び防
錆剤等が加えられる。フロアブル剤の場合は、例えば、
有効成分化合物を通常5〜50重量%含有しており、こ
れに3ないし10重量%の分散湿潤剤が含まれ、残部は
水であり必要に応じて保護コロイド剤、防腐剤、消泡剤
等が加えられる。
る本発明化合物有効成分含有率は製剤形により種々変化
するものであるが、通常0.1〜99重量%が適当であ
り、好ましくは1〜80重量%が最も適当である。水和
剤の場合は、例えば有効成分化合物を通常25〜90%
含有し、残部は固体担体及び分散湿潤剤であって、必要
に応じて保護コロイド剤、消泡剤等が加えられる。粒剤
の場合は、例えば、有効成分化合物を通常1〜35重量
%含有し、残部は固体担体及び界面活性剤である。有効
成分化合物は固体担体と均一に混合されているか、ある
いは固体担体の表面に均一に固着叉は吸着されており、
粒の径は約0.2ないし1.5mmである。乳剤の場合
は、例えば、有効成分化合物を通常5〜30重量%含有
しており、これに約5ないし20重量%の乳化剤が含ま
れ、残部は液体担体であり、必要に応じて展着剤及び防
錆剤等が加えられる。フロアブル剤の場合は、例えば、
有効成分化合物を通常5〜50重量%含有しており、こ
れに3ないし10重量%の分散湿潤剤が含まれ、残部は
水であり必要に応じて保護コロイド剤、防腐剤、消泡剤
等が加えられる。
【0030】本発明の前記一般式(I)の化合物は、そ
のまま、あるいは上述した様な任意の製剤形態で除草剤
として使用することができる。本発明の組成物は、水田
及び、畑地等の農耕地並びに非農耕地に生育する発生前
から生育期までの諸雑草に適用できる。その施用量は有
効成分量として1ha当たり、0.1〜10,000g
程度、好ましくは1〜5,000g程度である。またそ
の施用量は、目的とする雑草の種類、生育段階、施用場
所、天候等によって、適宜に選択変更できる。
のまま、あるいは上述した様な任意の製剤形態で除草剤
として使用することができる。本発明の組成物は、水田
及び、畑地等の農耕地並びに非農耕地に生育する発生前
から生育期までの諸雑草に適用できる。その施用量は有
効成分量として1ha当たり、0.1〜10,000g
程度、好ましくは1〜5,000g程度である。またそ
の施用量は、目的とする雑草の種類、生育段階、施用場
所、天候等によって、適宜に選択変更できる。
【0031】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説
明する。 実施例12−フルオロ−2−メチル−(N−4,6−ジメトキシ
ピリミジン−2−イル)マロンアミド酸エチルエステル
(化合物番号23)の合成 特開昭62-207230号公報に記載の方法を参考にして製造
した2−フルオロ−2−メチルマロン酸モノエチルエス
テル0.60g(3.6mmol)に、塩化チオニル2.6ml(3
6mmol)を加え、4時間加熱還流した。塩化チオニルを
留去し、トルエン30ml、およびヨーロッパ特許公開
第486,766号明細書に記載の方法を参考にして製造した
4,6−ジメトキシ−2−アミノピリミジン0.56g
(3.6mmol)を加え3時間加熱還流した。トルエンを留
去し、反応溶液を氷水20mlにあけ、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
溶媒を留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイー(展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=9/1)
で精製し、目的の2−フルオロ−2−メチル−(N−
4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)マロンアミ
ド酸エチルエステル(化合物番号23)0.72g(収
率:66%)を得た。
明する。 実施例12−フルオロ−2−メチル−(N−4,6−ジメトキシ
ピリミジン−2−イル)マロンアミド酸エチルエステル
(化合物番号23)の合成 特開昭62-207230号公報に記載の方法を参考にして製造
した2−フルオロ−2−メチルマロン酸モノエチルエス
テル0.60g(3.6mmol)に、塩化チオニル2.6ml(3
6mmol)を加え、4時間加熱還流した。塩化チオニルを
留去し、トルエン30ml、およびヨーロッパ特許公開
第486,766号明細書に記載の方法を参考にして製造した
4,6−ジメトキシ−2−アミノピリミジン0.56g
(3.6mmol)を加え3時間加熱還流した。トルエンを留
去し、反応溶液を氷水20mlにあけ、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
溶媒を留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイー(展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=9/1)
で精製し、目的の2−フルオロ−2−メチル−(N−
4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)マロンアミ
ド酸エチルエステル(化合物番号23)0.72g(収
率:66%)を得た。
【0032】実施例22−フルオロ−2−ベンジル−(N−4,6−ジメトキ
シピリミジン−2−イル)マロンアミド酸エチルエステ
ル(化合物番号83)の合成 特開昭62-207230号公報に記載の方法を参考にして製造
した2−フルオロ−2−ベンジルマロン酸モノエチルエ
ステル0.50g(2.1 mmol)に、塩化チオニル1.5
ml(21mmol)を加え、4時間加熱還流した。塩化チオ
ニルを留去し、トルエン20mlおよびヨーロッパ特許
公開第486,766号明細書に記載の方法を参考にして製造
した4,6−ジメトキシ−2−アミノピリミジン0.3
2g(2.1mmol)を加え3時間加熱還流した。トルエン
を留去し、反応溶液を氷水20mlにあけ、酢酸エチル
で抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー(展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=9/
1)で精製し、目的の2−フルオロ−2−ベンジル−
(N−4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)マロ
ンアミド酸エチルエステル(化合物番号83)0.52
g(収率:65%)を得た。
シピリミジン−2−イル)マロンアミド酸エチルエステ
ル(化合物番号83)の合成 特開昭62-207230号公報に記載の方法を参考にして製造
した2−フルオロ−2−ベンジルマロン酸モノエチルエ
ステル0.50g(2.1 mmol)に、塩化チオニル1.5
ml(21mmol)を加え、4時間加熱還流した。塩化チオ
ニルを留去し、トルエン20mlおよびヨーロッパ特許
公開第486,766号明細書に記載の方法を参考にして製造
した4,6−ジメトキシ−2−アミノピリミジン0.3
2g(2.1mmol)を加え3時間加熱還流した。トルエン
を留去し、反応溶液を氷水20mlにあけ、酢酸エチル
で抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー(展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=9/
1)で精製し、目的の2−フルオロ−2−ベンジル−
(N−4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)マロ
ンアミド酸エチルエステル(化合物番号83)0.52
g(収率:65%)を得た。
【0033】同様の方法により、前記第1表記載の化合
物の一部を合成した。第2表にそれらの化合物のNMR
データを記す。
物の一部を合成した。第2表にそれらの化合物のNMR
データを記す。
【表6】 第2表 化合物 番号 1H−NMR(CDCl3 δ ppm) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 23 1.33(3H,t,J=7.1Hz),1.91(3H,d,JHF=23Hz),3.94(6H,s) 4.31(2H,q,J=7.1Hz),5.82(1H,s),8.61(1H,bs) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 35 1.05(3H,t,J=7.4Hz),1.33(3H,t,J=7.1Hz) 2.34(2H,qd,J=7.4Hz,JHF=21Hz),3.94(6H,s), 4.23-4.40(2H,m),5.82(1H,s),8.65(1H,bs) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 47 0.96(3H,t,J=7.0Hz),1.33(3H,t,J=7.1Hz), 1.38-1.54(2H,m),2.08-2.25(2H,m),3.94(6H,s), 4.32(2H,q,J=7.0Hz),5.80(1H,s),8.60(1H,bs) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 83 1.27(3H,t,J=7.1Hz),3.61(2H,d,JHF=26Hz), 3.92(6H,s),4.20-4.35(2H,m),5.80(1H,s), 7.21-7.36(5H,m),8.47(1H,bs) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【0034】次に、本発明の化合物を用いた製剤例の数
様態を示す。なお、下記製剤中の「部」は重量基準であ
る。 製剤例1(乳剤) 化合物No.23 20部 キシレン 50部 シクロヘキサノン 20部 ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム 5部 ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル 5部 以上を均一に混合溶解して乳剤100部を得た。
様態を示す。なお、下記製剤中の「部」は重量基準であ
る。 製剤例1(乳剤) 化合物No.23 20部 キシレン 50部 シクロヘキサノン 20部 ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム 5部 ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル 5部 以上を均一に混合溶解して乳剤100部を得た。
【0035】 製剤例2(水和剤) 化合物No.23 20部 クレー 70部 リグニンスルホン酸カルシウム 7部 アルキルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物 3部 以上を混合し、ジェットミルで粉砕して水和剤100部
を得た。
を得た。
【0036】 製剤例3(フロアブル剤) 化合物No.35 20部 スルホコハク酸ジ−2−エチルヘキシルエステルナトリウム塩 2部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 2部 消泡剤 0.5部 プロピレングリコール 5部 水 70.5部 以上を湿式ボールミルで均一に粉砕混合し、フロアブル
剤100部を得た。上述の製剤例に準じて本発明の化合
物を用いた除草剤がそれぞれ製剤できる。
剤100部を得た。上述の製剤例に準じて本発明の化合
物を用いた除草剤がそれぞれ製剤できる。
【0037】次に、本発明化合物の除草効果を試験例を
挙げて説明する。 試験例1(水田土壌処理) 130cm2 プラスチックポットに水田土壌を充填し、
適量の水と化学肥料を加えて混練し水田状態とした。こ
れに、予め葉数が2枚になる様に温室内で生育させた水
稲苗(品種:コシヒカリ)を2本1株として1株/ポッ
ト移植し、更に、ノビエ、コナギ、アゼナ及びホタルイ
の各種子を一定量播種し、水深3cmに湛水した。翌
日、製剤例2に準じて水和剤を調製し、有効成分で1h
a当り5kgとなるように適量の水で希釈して、ピペッ
トで滴下処理した。薬剤処理を行ってから21日後に、
各雑草への除草効果及び水稲に対する薬害程度を下記の
基準に従って判別した。その結果を第3表に示す。
挙げて説明する。 試験例1(水田土壌処理) 130cm2 プラスチックポットに水田土壌を充填し、
適量の水と化学肥料を加えて混練し水田状態とした。こ
れに、予め葉数が2枚になる様に温室内で生育させた水
稲苗(品種:コシヒカリ)を2本1株として1株/ポッ
ト移植し、更に、ノビエ、コナギ、アゼナ及びホタルイ
の各種子を一定量播種し、水深3cmに湛水した。翌
日、製剤例2に準じて水和剤を調製し、有効成分で1h
a当り5kgとなるように適量の水で希釈して、ピペッ
トで滴下処理した。薬剤処理を行ってから21日後に、
各雑草への除草効果及び水稲に対する薬害程度を下記の
基準に従って判別した。その結果を第3表に示す。
【0038】
【表7】
【0039】
【表8】
【0040】試験例2(水田茎葉処理) 130cm2 プラスチックポットに水田土壌を充填し、
適量の水と化学肥料を加えて混練し水田状態とした。こ
れに、予め葉数が2枚になる様に温室内で生育させた水
稲苗(品種:コシヒカリ)を2本1株として21株/ポ
ット移植し、更に、ノビエ、コナギ、アゼナ及びホタル
イの各種子を一定量播種し、水深3cmに湛水した。ノ
ビエが1.5葉期になるまで温室内で生育させた後、製
剤例2に準じて水和剤を調製し、有効成分で1ha当り
5kgとなるように適量の水で希釈して、ピペットで滴
下処理した。薬剤処理を行ってから21日後に、各雑草
への除草効果及び水稲に対する薬害程度を試験例1の基
準に従って判別した。その結果を第4表に示す。
適量の水と化学肥料を加えて混練し水田状態とした。こ
れに、予め葉数が2枚になる様に温室内で生育させた水
稲苗(品種:コシヒカリ)を2本1株として21株/ポ
ット移植し、更に、ノビエ、コナギ、アゼナ及びホタル
イの各種子を一定量播種し、水深3cmに湛水した。ノ
ビエが1.5葉期になるまで温室内で生育させた後、製
剤例2に準じて水和剤を調製し、有効成分で1ha当り
5kgとなるように適量の水で希釈して、ピペットで滴
下処理した。薬剤処理を行ってから21日後に、各雑草
への除草効果及び水稲に対する薬害程度を試験例1の基
準に従って判別した。その結果を第4表に示す。
【0041】
【表9】
【0042】試験例3(畑地土壌処理) 130cm2 プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
ノビエ、メヒシバ、エノコログサ、イチビ、オナモミ、
タデ及びシロバナチョウセンアサガオの各種子を一定量
ずつ播種した後、1cmの覆土をした。播種翌日、製剤
例2に準じて水和剤を調製し、有効成分で1ha当り5
kgとなるように適量の水で希釈して土壌表面にむらな
く散布した。薬剤散布を行ってから21日後に、各雑草
への除草効果を試験例1の基準に従って判別した。その
結果を第5表に示す。
ノビエ、メヒシバ、エノコログサ、イチビ、オナモミ、
タデ及びシロバナチョウセンアサガオの各種子を一定量
ずつ播種した後、1cmの覆土をした。播種翌日、製剤
例2に準じて水和剤を調製し、有効成分で1ha当り5
kgとなるように適量の水で希釈して土壌表面にむらな
く散布した。薬剤散布を行ってから21日後に、各雑草
への除草効果を試験例1の基準に従って判別した。その
結果を第5表に示す。
【0043】
【表10】
【0044】試験例4(畑地茎葉処理) 130cm2 プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
ノビエ、メヒシバ、エノコログサ、イチビ、オナモミ、
タデ及びシロバナチョウセンアサガオの各種子を一定量
ずつ播種した後、1cmの覆土をした。播種後ポットを
ガラス温室に置き、各植物が2〜4葉期になるまで育成
した後、製剤例2に準じて水和剤を調製し、有効成分で
1ha当り5kgとなるように適量の水で希釈して植物
葉面ににむらなく散布した。薬剤散布を行ってから21
日後に、各雑草への除草効果を試験例1の基準に従って
判別した。その結果を第6表に示す。
ノビエ、メヒシバ、エノコログサ、イチビ、オナモミ、
タデ及びシロバナチョウセンアサガオの各種子を一定量
ずつ播種した後、1cmの覆土をした。播種後ポットを
ガラス温室に置き、各植物が2〜4葉期になるまで育成
した後、製剤例2に準じて水和剤を調製し、有効成分で
1ha当り5kgとなるように適量の水で希釈して植物
葉面ににむらなく散布した。薬剤散布を行ってから21
日後に、各雑草への除草効果を試験例1の基準に従って
判別した。その結果を第6表に示す。
【0045】
【表11】
【0046】
【発明の効果】本発明の前記一般式(I)で表される化
合物は、水田に発生するヒエ、タマガヤツリ、コナギ、
キカシグサ、アゼナ、アブノメ等の一年生雑草及びホタ
ルイ、マツバイ、ヘラオモダカ、ミズガヤツリ等の多年
生雑草の発芽時から生育期の広い範囲にわたって、極め
て低い薬量で優れた除草効果を発揮すると同時に、移植
水稲、湛水直播水稲及び乾田直播稲に対しては高い安全
性を有するものである。また、畑地においても問題とな
る種々の雑草、例えば、タデ、アオビユ、シロザ等の広
葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カ
ヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生及び一年生カヤ
ツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、スズ
メノカタビラ、ジョンソングラス、ワイドオート、スズ
メノテッポウ等のイネ科雑草に対して、土壌処理あるい
は茎葉処理で高い除草効果を示すと同時に大豆、棉、砂
糖ダイコン、ナタネ、ヒマワリ、トウモロコシ、陸稲、
小麦等に対しては高い安全性を示すという特徴を有す
る。更に、水田、畑地のみならず、果樹園、桑園、芝
生、非農耕地においても使用することができる。また、
本発明化合物を公知化合物と混合して使用すると、それ
ぞれの化合物単剤では防除困難な雑草に対して完全な除
草効果を示すと共に、相乗的な除草効果により単剤では
防除困難な薬量においても種々の雑草を有効に防除し、
且つ水稲、大豆、棉、砂糖ダイコン、ナタネ、ヒマワ
リ、トウモロコシ、陸稲、小麦等に対して高い安全性を
示し、農業上非常に有用な除草剤を提供することができ
る。
合物は、水田に発生するヒエ、タマガヤツリ、コナギ、
キカシグサ、アゼナ、アブノメ等の一年生雑草及びホタ
ルイ、マツバイ、ヘラオモダカ、ミズガヤツリ等の多年
生雑草の発芽時から生育期の広い範囲にわたって、極め
て低い薬量で優れた除草効果を発揮すると同時に、移植
水稲、湛水直播水稲及び乾田直播稲に対しては高い安全
性を有するものである。また、畑地においても問題とな
る種々の雑草、例えば、タデ、アオビユ、シロザ等の広
葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カ
ヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生及び一年生カヤ
ツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、スズ
メノカタビラ、ジョンソングラス、ワイドオート、スズ
メノテッポウ等のイネ科雑草に対して、土壌処理あるい
は茎葉処理で高い除草効果を示すと同時に大豆、棉、砂
糖ダイコン、ナタネ、ヒマワリ、トウモロコシ、陸稲、
小麦等に対しては高い安全性を示すという特徴を有す
る。更に、水田、畑地のみならず、果樹園、桑園、芝
生、非農耕地においても使用することができる。また、
本発明化合物を公知化合物と混合して使用すると、それ
ぞれの化合物単剤では防除困難な雑草に対して完全な除
草効果を示すと共に、相乗的な除草効果により単剤では
防除困難な薬量においても種々の雑草を有効に防除し、
且つ水稲、大豆、棉、砂糖ダイコン、ナタネ、ヒマワ
リ、トウモロコシ、陸稲、小麦等に対して高い安全性を
示し、農業上非常に有用な除草剤を提供することができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 引戸 充 茨城県稲敷郡阿見町中央8丁目3番1号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内 (72)発明者 日暮 理加 茨城県稲敷郡阿見町中央8丁目3番1号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内 (72)発明者 古峰 美樹 茨城県稲敷郡阿見町中央8丁目3番1号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内
Claims (2)
- 【請求項1】 下記一般式(I): 【化1】 (式中、R1は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原
子で置換された低級アルキル基、ハロゲン原子、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基あるいはニトロ基で随時置
換されていてもよいアリール基、またはハロゲン原子、
低級アルキル基、低級アルコキシ基あるいはニトロ基で
随時置換されていてもよいアラルキル基を示し、R2は
水素原子もしくはその農学的に許容される塩、または低
級アルキル基を示し、R3は水素原子または低級アルキ
ル基を示し、R4およびR5は各々独立してハロゲン原子
または低級アルコキシ基を示す。)で表されるフッ素化
ピリミジンアミド誘導体。 - 【請求項2】 下記一般式(I): 【化2】 (式中、R1は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原
子で置換された低級アルキル基、ハロゲン原子、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基あるいはニトロ基で随時置
換されていてもよいアリール基、またはハロゲン原子、
低級アルキル基、低級アルコキシ基あるいはニトロ基で
随時置換されていてもよいアラルキル基を示し、R2は
水素原子もしくはその農学的に許容される塩、または低
級アルキル基を示し、R3は水素原子または低級アルキ
ル基を示し、R4およびR5は各々独立してハロゲン原子
または低級アルコキシ基を示す。)で表されるフッ素化
ピリミジンアミド誘導体を有効成分として含有する除草
剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9020993A JPH06298742A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | フッ素化ピリミジンアミド誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9020993A JPH06298742A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | フッ素化ピリミジンアミド誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06298742A true JPH06298742A (ja) | 1994-10-25 |
Family
ID=13992101
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9020993A Pending JPH06298742A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | フッ素化ピリミジンアミド誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06298742A (ja) |
-
1993
- 1993-04-16 JP JP9020993A patent/JPH06298742A/ja active Pending
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