JPH06329643A - 新規なピリミジンエーテル誘導体及びそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｘはハロゲン原子、低級アルキル基または低級
アルコキシ基を示し、Ｙはヒドロキシ基、低級アルコキ
シ基、低級アルケニルオキシ基、アジド基、低級アルキ
ルスルホニルオキシ基等を示し、Ｚは置換されていても
よい低級アルキル基、置換されていてもよいフェニル
基、置換されていてもよいアラルキル基等を示し、Ｒ¹
は低級アルキル基または低級ハロアルキル基を示す。〕
で表されるピリミジンエーテル誘導体およびそれを有効
成分として含有する除草剤。 【効果】前記一般式（Ｉ）の化合物は、除草スペクトル
が広く且つ強力な除草活性を有しており、またある種の
有用作物に対して高い安全性を有している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、文献未記載の新規なピ
リミジンエーテル誘導体及びそれを有効成分として含有
する除草剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】特開平３−１２８３６号公報には、シク
ロアルカンカルボン酸部と４位と６位に特定の置換基が
結合しているピリミジン環部が酸素原子又は硫黄原子を
介して結合した構造を有するシクロアルカンカルボン酸
誘導体及びそれを含む除草剤が記載されている。

【０００３】

【本発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
文献中記載の化合物は除草スペクトラム、投下薬量、選
択性等の面で改善すべき点が多い。本発明者らは除草ス
ペクトラムが広く、除草効果が高く、作物に対する安全
性の優れた化合物を開発すべく鋭意研究した結果、下記
一般式（Ｉ）で表されるピリミジンエーテル誘導体は新
規であり、この化合物は一年生はもとより多年生雑草に
対して高い除草効果を示すと共にある種の作物に対して
高い安全性を有することを見出し本発明を完成するに至
った。

【０００４】即ち、本発明は一般式（Ｉ）

【０００５】

【化３】

【０００６】〔式中、Ｘはハロゲン原子、低級アルキル
基または低級アルコキシ基を示す。Ｙはヒドロキシ基、
低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、アジド
基、低級アルキルスルホニルオキシ基、低級アルキルカ
ルボニルオキシ基、低級アルケニルカルボニルオキシ基
または低級アルコキシカルボニルアルキルオキシ基を示
す。Ｚは置換されていてもよい低級アルキル基、置換さ
れていてもよい低級アルケニル基、置換されていてもよ
い低級アルキニル基、置換されていてもよいフェニル基
または置換されていてもよいアラルキル基を示す。Ｒ¹
は低級アルキル基または低級ハロアルキル基を示す。〕
で表わされるピリミジンエーテル誘導体及びそれを有効
成分として含有する除草剤を提供するものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の化合物は、下記
一般式（Ｉ）

【０００８】

【化４】

【０００９】〔式中、Ｘはハロゲン原子、低級アルキル
基または低級アルコキシ基を示す。Ｙはヒドロキシ基、
低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、アジド
基、低級アルキルスルホニルオキシ基、低級アルキルカ
ルボニルオキシ基、低級アルケニルカルボニルオキシ基
または低級アルコキシカルボニルアルキルオキシ基を示
す。Ｚは置換されていてもよい低級アルキル基、置換さ
れていてもよい低級アルケニル基、置換されていてもよ
い低級アルキニル基、置換されていてもよいフェニル基
または置換されていてもよいアラルキル基を示す。Ｒ¹
は低級アルキル基または低級ハロアルキル基を示す。〕
で表わされるピリミジンエーテル誘導体である。

【００１０】本明細書において、「低級」なる語はこの
基が付された基または化合物の炭素数が６以下好ましく
は４〜１であることを意味する。「ハロゲン原子」には
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素の４種が包含される。「低
級アルキル基」は直鎖状または分岐鎖状のいずれであっ
てもよく、たとえば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、
第二ブチル基、第三ブチル基等が挙げられる。「低級ア
ルコキシ基」は低級アルキル基部分が前記の意味を有す
る低級アルキル−Ｏ−基であり、たとえば、メトキシ
基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、第二ブトキシ
基、第三ブトキシ基等が挙げられる。

【００１１】「低級アルケニルオキシ基」は直鎖状また
は分岐鎖状のいずれであってもよい低級アルケニル−Ｏ
−基であり、たとえば、アリルオキシ基、２−メチル−
２−プロペニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−
ブテニルオキシ基、３−メチル−２−ブテニルオキシ基
等が挙げられる。「低級アルキルスルホニルオキシ基」
は低級アルキル基部分が前記の意味を有する低級アルキ
ル−ＳＯ₃ −基であり、たとえば、メチルスルホニルオ
キシ基、エチルスルホニルオキシ基、プロピルスルホニ
ルオキシ基、ブチルスルホニルオキシ基等が挙げられ
る。「低級アルキルカルボニルオキシ基」は低級アルキ
ル基部分が前記の意味を有する低級アルキル−ＣＯ₃ −
基であり、たとえば、メチルカルボニルオキシ基、エチ
ルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ
基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカル
ボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、第２
ブチルカルボニルオキシ基、第３ブチルカルボニルオキ
シ基等が挙げられる。

【００１２】「低級アルケニルカルボニルオキシ基」は
直鎖状または分岐鎖状のいずれであってもよい低級アル
ケニル−ＣＯ₃ −基であり、たとえば、アリルカルボニ
ルオキシ基、２−メチル−２−プロペニルカルボニルオ
キシ基、２−ブテニルカルボニルオキシ基、３−ブテニ
ルカルボニルオキシ基、または３−メチル−２−ブテニ
ルカルボニルオキシ基等が挙げられる。「低級アルコキ
シカルボニルアルキルオキシ基」は低級アルキル基部分
が前記の意味を有する低級アルキル−Ｏ−ＣＯ−低級ア
ルキル−Ｏ−基であり、たとえば、メトキシカルボニル
メトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、ｎ−プロ
ポキシカルボニルメトキシ基、イソプロポキシカルボニ
ルメトキシ基、メトキシカルボニルエトキシ基、エトキ
シカルボニルエトキシ基等が挙げられる。「置換されて
いてもよい低級アルキル基」は置換基としてハロゲン原
子、低級アルコキシ基等が挙げられ、低級アルキル基の
水素原子が該置換基により置換されていてもよい基であ
り、たとえば、メチル基、エチル基、２−クロロエチル
基、２−フルオロエチル基、２−メトキシエチル基、２
−エトキシエチル基等が挙げられる。

【００１３】「置換されていてもよい低級アルケニル
基」は置換基としてハロゲン原子、低級アルコキシ基等
が挙げられ、低級アルケニル基の水素原子が該置換基に
より置換されていてもよい基であり、たとえば、ビニル
基、２−プロペニル基、２−クロロ−２−プロペニル
基、２−フルオロ−２−プロペニル基、１−メトキシ−
２−プロペニル基、２−ブチニル基等が挙げられる。
「置換されていてもよいフェニル基」はフェニル基の置
換基として、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、トリフルオ
ロメチル基等が挙げられ、該フェニル基はこれら置換基
の０〜４個好ましくは０〜２個により置換されているこ
とができる。このような置換されていてもよいフェニル
基の具体例としては、フェニル基、２−ブロモフェニル
基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２
−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロ
ロフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェ
ニル基、４−メチルフェニル基、２−メトキシフェニル
基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル
基、２−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基、４
−ニトロフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル
基、４−アミノフェニル基、３−ヒドロキシフェニル
基、１，３−ジクロロフェニル基等が挙げられる。

【００１４】「置換されていてもよいアラルキル基」は
アリール基で置換された低級アルキル基であり、たとえ
ば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル
基、４−フェニルブチル基等が包含される。そして、ア
リール基部分の置換基として、ハロゲン原子、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、シア
ノ基、トリフルオロメチル基等が挙げられ、該アリール
基はこれら置換基の０〜４個好ましくは０〜２個により
置換されていることができる。このような置換されてい
てもよいアラルキル基の具体例としては、たとえば、ベ
ンジル基、２−ブロモベンジル基、３−ブロモベンジル
基、４−ブロモベンジル基、２−クロロベンジル基、３
−クロロベンジル基、４−クロロベンジル基、２−フル
オロベンジル基、３−フルオロベンジル基、４−フルオ
ロベンジル基、２−メトキシベンジル基、３−メトキシ
ベンジル基、４−メトキシベンジル基、２−メチルベン
ジル基、３−メチルベンジル基、４−メチルベンジル
基、３−ニトロベンジル基、４−ニトロベンジル基、２
−トリフロオロフェネチル基、３−（２−クロロフェニ
ル）プロピル基、４−（４−メチルフェニル）ブチル
基、３，５−ジクロロフェネチル基等が挙げられる。

【００１５】上記した基に具体的に示されていない基
は、上記原子および基から任意に組み合わせて或いは一
般に知られた常識に従って選択される。本発明の上記一
般式（Ｉ）において、Ｘは好ましくはメトキシ基または
塩素原子であり、Ｒ¹ は好ましくはメチル基であり、Ｙ
は好ましくはヒドロキシ基であり、Ｚはメチル基、エチ
ル基またはアリル基である。

【００１６】勿論、上記一般式（Ｉ）で表される化合物
の立体異性体は本発明の範囲内にあることを理解すべき
である。上記一般式（Ｉ）で表わされる化合物の１位−
ＣＨ₂ Ｙ基を基準とした時に２位置換基がシス配置をと
る化合物をエリスロ体、また１位−ＣＨ₂ Ｙ基を基準と
した時に２位置換基がトランス配置をとる化合物をスレ
オ体と称す。

【００１７】また、上記一般式（Ｉ）で表わされた化合
物の光学活性体は本発明の範囲内にあることを理解すべ
きである。前記一般式（Ｉ）で表される本発明化合物の
具体例を第１表に示す。なお、第１表に記載の化合物は
全てスレオ体である。第１表においてＰｈは、フェニル
基を表す。

【００１８】

【表１】 第１表 化合物番号 Ｘ Ｙ Ｚ Ｒ 備考 １ OCH₃ OH CH₃ CH₃ ２ OCH₃ OCH₃ CH₃ CH₃ ３ OCH₃ OCH₂CH₃ CH₃ CH₃ ４ OCH₃ OSO₂CH₃ CH₃ CH₃ ５ OCH₃ N₃ CH₃ CH₃ ６ OCH₃ OCOCH₃ CH₃ CH₃ ７ OCH₃ OCOCH₂CH₃ CH₃ CH₃ ８ OCH₃ OCH₂COOCH₃ CH₃ CH₃ ９ OCH₃ OCH₂COOCH₂CH₃ CH₃ CH₃ １０ OCH₃ OCH₂CH₂COOCH₃ CH₃ CH₃ １１ OCH₃ OH CH₂CH₃ CH₃ １２ OCH₃ OSO₂CH₃ CH₂CH₃ CH₃ １３ OCH₃ OCH₃ CH₂CH₃ CH₃ １４ OCH₃ OCH₂CH₃ CH₂CH₃ CH₃ １５ OCH₃ N₃ CH₂CH₃ CH₃ １６ OCH₃ OCOCH₃ CH₂CH₃ CH₃ １７ OCH₃ OCH₂COOCH₃ CH₂CH₃ CH₃ １８ OCH₃ OCH₂COOCH₂CH₃ CH₂CH₃ CH₃ １９ OCH₃ OH CH₂CH=CH₂ CH₃ ２０ OCH₃ OCH₃ CH₂CH=CH₂ CH₃ ２１ OCH₃ OCH₂CH₃ CH₂CH=CH₂ CH₃ ２２ OCH₃ OSO₂CH₃ CH₂CH=CH₂ CH₃ ２３ OCH₃ N₃ CH₂CH=CH₂ CH₃ ２４ OCH₃ OCH₂COOCH₃ CH₂CH=CH₂ CH₃ ２５ OCH₃ OCH₂COOCH₂CH₃ CH₂CH=CH₂ CH₃

【００１９】 ２６ OCH₃ OH CH₂CCH CH₃ ２７ OCH₃ OCH₃ CH₂CCH CH₃ ２８ OCH₃ OCH₂CH₃ CH₂CCH CH₃ ２９ OCH₃ OCOCH₃ CH₂CCH CH₃ ３０ OCH₃ OSO₂CH₃ CH₂CCH CH₃ ３１ OCH₃ N₃ CH₂CCH CH₃ ３２ OCH₃ OCH₂COOCH₃ CH₂CCH CH₃ ３３ OCH₃ OCH₂COOCH₂CH₃ CH₂CCH CH₃ ３４ OCH₃ OH Ph CH₃ ３５ OCH₃ OCH₃ Ph CH₃ ３６ OCH₃ OCH₂CH₃ Ph CH₃ ３７ OCH₃ OCOCH₃ Ph CH₃ ３８ OCH₃ OSO₂CH₃ Ph CH₃ ３９ OCH₃ N₃ Ph CH₃ ４０ OCH₃ OCH₂COOCH₃ Ph CH₃ ４１ OCH₃ OCH₂COOCH₂CH₃ Ph CH₃ ４２ OCH₃ OH CH₂Ph CH₃ ４３ OCH₃ OCH₃ CH₂Ph CH₃ ４４ OCH₃ OCH₂CH₃ CH₂Ph CH₃ ４５ OCH₃ OCOCH₃ CH₂Ph CH₃ ４６ OCH₃ OSO₂CH₃ CH₂Ph CH₃ ４７ OCH₃ N₃ CH₂Ph CH₃ ４８ OCH₃ OCH₂COOCH₃ CH₂Ph CH₃ ４９ OCH₃ OCH₂COOCH₂CH₃ CH₂Ph CH₃ ５０ CH₃ OH CH₂Ph CH₃

【００２０】 ５１ CH₃ OCOCH₃ CH₂Ph CH₃ ５２ Cl OH CH₃ CH₃ ５３ Cl OH CH₃ CH₃ ５４ CH₃ OH CH₃ CHF₂ ５５ CH₃ OH Ph CHF₂ ５６ OCH₃ OH CH₂CH₂F CH₃ ５７ OCH₃ OH CH₂CH₂Cl CH₃ ５８ OCH₃ OH CH₂CH₂OCH₃ CH₃ 本発明化合物は、たとえば、下記に示す方法により製造
することができる。

【００２１】Ａ法

【００２２】

【化５】

【００２３】〔式中、Ｘ、Ｚ及びＲ¹ は前記と同義であ
る。Ｒ² は水素原子または低級アルキル基を示す。〕

【００２４】上記の反応式において、一般式（Ｉ−１）
で表される化合物は、一般式（ＩＩ）で表されるカルボ
ン酸誘導体を、適当な溶媒の存在下、適当な還元剤と、
氷冷ないし溶媒の沸点の温度範囲において、１〜２４時
間反応させることにより製造することができる。

【００２５】反応に用いられる好ましい溶媒としては、
例えば、ジエチルエーテル、テトラハイドロフラン等の
エーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素系溶媒等が挙げられる。反応に使用される還元剤とし
ては、例えば、ナトリウムなどの金属、水素化リチウム
アルミニウムなどの金属水素錯化合物、ジボラン、ジメ
チルスルフィド−ボラン錯体等が挙げられる。

【００２６】また、一般式（ＩＩ）の化合物に対する還
元剤の使用割合もまた厳密に制限されないが、通常一般
式（ＩＩ）の化合物１当量あたり還元剤は１〜１０当
量、特に１〜２当量の範囲内で用いるのが好都合であ
る。反応終了後は、粗生成物を、再結晶やカラムクロマ
トグラフィー等の常法に従って処理することにより目的
の化合物を単離することができる。

【００２７】原料となる前記式（ＩＩ）のカルボン酸誘
導体は、例えば、ヨーロッパ公開特許第０４６８７６６
号公報に記載される方法に準じて製造することができ
る。 Ｂ法

【００２８】

【化６】

【００２９】〔式中、Ｘ、Ｚ及びＲ¹ は前記と同義であ
る。Ｒ³ は低級アルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキルスルホニル基、低級アルキルカルボニル基、低級
アルケニルカルボニル基または低級アルコキシカルボニ
ルアルキル基を示し、Ｑはハロゲン原子を示す。〕

【００３０】上記の反応式において、一般式（Ｉ−２）
で表される化合物は、一般式（Ｉ−１）で表される化合
物を、適当な塩基または縮合剤の存在下、Ｒ³ Ｑまたは
Ｒ³ＯＨと、適当な溶媒中で、氷冷ないし溶媒の沸点の
温度範囲において、数時間反応させることにより製造す
ることができる。

【００３１】反応に用いられる好ましい溶媒としては、
例えば、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等
のエーテル系の溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミドなどのアミド類、アセトンやアセトニトリ
ル、またはクロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン
化炭化水素類、などである。反応に使用される塩基とし
ては、例えば、水素化ナトリウム等の無機塩基あるい
は、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基が使用で
きる。

【００３２】反応に使用される縮合剤としては、例え
ば、ジシクロヘキシルカルボジイミドなどが使用でき
る。その際、ジメチルアミノピリジンを少量添加するこ
とにより反応を加速することができる。また、一般式
（Ｉ−１）の化合物に対するＲ³ ＱまたはＲ³ ＯＨの使
用割合もまた厳密に制限されないが、通常一般式（Ｉ−
１）の化合物１当量あたりＲ³ ＱまたはＲ³ ＯＨは１〜
１０当量、特に１〜２当量の範囲内で用いるのが好都合
である。

【００３３】反応終了後は、粗生成物を、再結晶やカラ
ムクロマトグラフィー等の常法に従って処理することに
より目的の化合物を単離することができる。 Ｃ法

【００３４】

【化７】

【００３５】〔式中、Ｘ、Ｚ及びＲ¹ は前記と同義であ
る。Ｙ¹ は低級アルキルスルホニルオキシ基を示し、Ｙ
² はアジド基を示す。〕

【００３６】上記の反応式において、一般式（Ｉ−４）
で表される化合物は、一般式（Ｉ−３）で表される化合
物を、アジ化ナトリウムと、適当な溶媒中で、氷冷ない
し溶媒の沸点の温度範囲において、数時間反応させるこ
とにより製造することができる。

【００３７】反応に用いられる好ましい溶媒としては、
例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
などのアミド類、アセトンやアセトニトリル、またはメ
タノール、エタノール等のアルコール類、等が挙げられ
る。また、一般式（Ｉ−３）の化合物に対するアジ化ナ
トリウムの使用割合もまた厳密に制限されないが、通常
一般式（Ｉ−３）の化合物１当量あたりアジ化ナトリウ
ムは１〜１０当量、特に１〜２当量の範囲内で用いるの
が好都合である。

【００３８】反応終了後は、粗生成物を、再結晶やカラ
ムクロマトグラフィー等の常法に従って処理することに
より目的の化合物を単離することができる。

【００３９】

【実施例】実施例１ ３−（４，６−ジメトキシピリミジニル−２−オキシ）
−２−フルオロ−２−メチルブタノール（化合物番号
１）の合成 ヨーロッパ公開特許第０４６８７６６号公報に記載の方
法に準じて合成した２−（４，６−ジメトキシピリミジ
ニル−２−オキシ）−１−フルオロ−１−メチル酪酸エ
チルエステル（スレオ体）５．０２ｇ（１６．６ｍｍｏ
ｌ）の無水テトラヒドロフラン３０ｍｌ溶液に、氷冷
下、水素化アルミニウムリチウム３２０ｍｇ（８．４ｍ
ｍｏｌ）を加え、室温まで温度を上昇させた後１時間撹
拌し、反応終了を確かめた後、氷冷下希塩酸水を加え、
セライトろ過した溶液を酢酸エチルで抽出した。有機層
を硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を減圧下留去
し、粗生成物を得、それをシリカゲルクロマトグラフィ
ー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製
して目的の、３−（４，６−ジメトキシピリミジニル−
２−オキシ）−２−フルオロ−２−メチルブタノール
４．８６ｇ（収率９０％）を得た。

【００４０】実施例２ ２−（２−フルオロ−１，２−ジメチル−３−メトキシ
プロピル）オキシ−４，６−ジメトキシピリミジン（化
合物番号２）の合成 氷冷下、水素化ナトリウム（６０％鉱油中）７０ｍｇ
（１．８ｍｍｏｌ）の無水ジメチルホルムアミド１０ｍ
ｌ溶液に、実施例１により合成された３−（４，６−ジ
メトキシピリミジニル−２−オキシ）−２−フルオロ−
２−メチルブタノール（スレオ体）０．４ｇ（１．５ｍ
ｍｏｌ）の無水ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液を滴
下し、その後、ヨウ化メチル０．２７ｇ（１．８ｍｍｏ
ｌ）を適下する。室温まで温度を上昇させた後、水、ジ
エチルエーテルを加え、抽出した。有機層を硫酸ナトリ
ウムで乾燥させた後、溶媒を減圧下留去し、粗生成物
を、シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサ
ン／酢酸エチル＝６／１）で精製して目的の２−（２−
フルオロ−１，２−ジメチル−３−メトキシプロピル）
オキシ−４，６−ジメトキシピリミジン（スレオ体）３
５０ｍｇ（収率８３％）を得た。

【００４１】実施例３ ２−（１，２−ジメチル−２−フルオロ−３−メチルス
ルホニルオキシプロピル）オキシ−４，６−ジメトキシ
ピリミジン（化合物番号４）の合成 実施例１により合成された３−フルオロ−３−メチル−
２−（４，６−ジメトキシピリミジニル−２−オキシ）
ブタノール（スレオ体）１．５ｇ（５．８ｍｍｏｌ）と
トリエチルアミン０．７６ｇ（７．５ｍｍｏｌ）のアセ
トン３０ｍｌ溶液に、氷冷下メタンスルフォニルクロラ
イド０．８０ｇ（６．９ｍｍｏｌ）を滴下した。室温ま
で温度を上昇させた後、水、ジエチルエーテルを加え抽
出し、有機層を希塩酸水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥させた。減圧下、溶媒を留去し、粗生
成物をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキ
サン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、目的の２−（３
−フルオロ−３−メチル−４−メチルスルホニルオキシ
ブタン）オキシ−４，６−ジメトキシピリミジン（スレ
オ体）１．３１ｇ（収率６７％）を得た。

【００４２】実施例４ ２−（３−アジド−１，２−ジメチル−２−フルオロプ
ロピル）オキシ−４，６−ジメトキシピリミジン（化合
物番号５）の合成 実施例３により合成された２−（１，２−ジメチル−２
−フルオロ−３−メタンスルホニルオキシプロピル）オ
キシ−４，６−ジメトキシピリミジン（スレオ体）０．
９８ｇ（２．９ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド１０
ｍｌ溶液にアジ化ナトリウム０．２３ｇ（３．５ｍｍｏ
ｌ）を加え、１００℃で４時間加熱した。室温まで反応
液を冷却した後、水、ジエチルエーテルを加え、抽出
し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた。粗生成物
を、シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサ
ン／酢酸エチル＝６／１）で精製し、目的の２−（３−
アジド−１，２−ジメチル−２−フルオロプロピル）オ
キシ−４，６−ジメトキシピリミジン（スレオ体）５０
ｍｇ（収率６％）を得た。

【００４３】上記の製造例と同様の方法により、前記第
１表記載の化合物を合成した。第２表にそれらの化合物
のＮＭＲ又は融点のデータを記す。

【００４４】

【表２】 第２表 化合物 番号 ¹Ｈ ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ₃ ）ｐｐｍ 又は 融点 １ 1.00-2.33(8H,m),3.17-3.80(2H,m),3.90(6H,s),4.17-5.50(1H,m), 5.67(1H,s) ２ 1.40(3H,d,J=7Hz),1.45(3H,d,J=21Hz),3.38(3H,s),3.42(2H,s), 3.73(3H,s),3.93(6H,s),4.45(1H,d,J=19Hz),4.93-5.83(1H,m), 5.68(1H,s), ４ 1.45(3H,d,J=7Hz),1.53(3H,d,J=21Hz),3.08(3H,s),3.93(6H,s), 4.26(1H,d,J=3Hz),4.58(1H,s),5.03-5.80(1H,m),5.68(1H,s) 80.4〜83.9℃

【００４５】 ５ 1.43(3H,d,J=7Hz),1.48(3H,d,J=21Hz),3.38(1H,d,J=3Hz),3.68(1H,s) 3.95(6H,s),5.05-5.82(1H,m),5.70(1H,s) ９ 1.28(3H,t,J=7Hz),1.40(3H,d,J=7Hz),1.48(3H,d,J=22Hz), 3.57-4.73(4H,m),3.93(6H,s),4.17(2H,q,J=7Hz),4.95-5.75(1H,m), 5.65(1H,s), １１ 1.02(3H,t,J=7Hz),1.27(3H,d,J=6Hz),2.83(1H,bs), 3.27-4.93(4H,m),3.94(6H,s),5.07-5.77(1H,m),5.70(1H,s),

【００４６】 ４２ 1.45(3H,t,J=7Hz),2.98(1H,d,J=5Hz),3.10(1H,bs),3.20-3.97(3H,m) 3.80(6H,s),4.97-5.73(1H,m),5.65(1H,s),7.20(5H,s) ４３ 1.43(3H,d,J=7Hz),2.97(1H,D,J=5Hz),3.35(3H,s),3.37(2H,s), 3.78(1H,d,J=11Hz),3.82(6H,s),4.98-5.72(1H,m),5.62(1H,s), 7.17(5H,s), ４５ 1.43(3H,d,J=7Hz),3.08(3H,s),3.16(2H,d,J=23Hz),3.80(6H,s), 4.23(2H,d,J=21Hz),4.96-5.76(1H,m),5.63(1H,s),7.13(5H,s)

【００４７】 ４６ 1.47(3H,d,J=7Hz),2.98(3H,s),3.08-4.08(2H,m),3.70(6H,s), 4.13(1H,d,J=3Hz),4.45(1H,s),4.85-5.62(1H,s),5.54(1H,s), 7.05(5H,s), ４７ 1.43(3H,d,J=7Hz),2.80-4.60(4H,m),3.78(6H,s),5.13-5.81(1H,m), 5.63(1H,s),7.17(5H,s), ４９ 1.31(3H,d,J=7Hz),1.36(3H,t,J=7Hz),2.86-4.61(4H,m),3.88(6H,s), 4.05(2H,s),4.13(2H,q,J=7Hz), 4.98-5.71(1H,m, )5.62(1H,s,), 7.14(5H,s)

【００４８】前記一般式（Ｉ）で表される本発明の化合
物は除草剤としての活性を有している。本発明の化合物
を除草剤として用いる場合には、担体もしくは希釈剤、
添加剤、及び補助剤等と公知の手法で混合して、通常農
薬として用いられる製剤形態、例えば、粉剤、粒剤、水
和剤、乳剤、水溶剤、フロアブル剤等に調製して使用さ
れる。また他の農薬、例えば、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ
剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料及び土壌改良剤等と
混合又は併用して使用することができる。

【００４９】特に他の除草剤と混合使用することによ
り、使用薬量を減少させ、また省力化をもたらすのみな
らず、両薬剤の共力作用による殺草スペクトラムの拡大
及び相乗作用による一層高い効果も期待できる。製剤に
際して用いられる担体もしくは希釈剤としては、一般に
使用される固体ないしは液体の担体が挙げられる。

【００５０】固体担体としては、例えば、カオリナイト
群、モンモリロナイト群、イライト群あるいはポリゴス
カイト群等で代表されるクレー類、詳しくはパイロフイ
ライト、アタパルジャイト、セピオライト、カオリナイ
ト、ベントナイト、バーミキュライト、雲母、タルク
等；石膏、炭酸カルシウム、ドロマイト、けいそう土、
マグネシウム石灰、りん灰石、ゼオライト、無水ケイ
酸、合成ケイ酸カルシウム等のその他無機物質；大豆
粉、タバコ粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、でんぷん、結
晶セルロース等の植物性有機物質；クマロン樹脂、石油
樹脂、アルキッド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレ
ングリコール、ケトン樹脂、エステルガム、コーバルガ
ム、ダンマルガム等の合成又は天然の高分子化合物；カ
ルナウバロウ、蜜ロウ等のワックス類あるいは尿素等が
例示できる。

【００５１】適当な液体担体としては、例えば、ケロシ
ン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィ
ン系又はナフテン系炭化水素；キシレン、エチルベンゼ
ン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水素；ト
リクロルエチレン、モノクロルベンゼン、オルトクロル
トルエン等の塩素化炭化水素；ジオキサン、テトラヒド
ロフランのようなエーテル類；アセトン、メチルエチル
ケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセ
トフェノン、イソホロン等のケトン類；酢酸エチル、酢
酸アミル、エチレングリコールアセテート、ジエチレン
グリコールアセテート、マレイン酸ジブチル、コハク酸
ジエチル等のエステル類；メタノール、ｎ−ヘキサノー
ル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、シク
ロヘキサノール、ベンジルアルコール等のアルコール
類；エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレング
リコールブチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶
媒あるいは水等が挙げられる。

【００５２】その他に本発明の化合物の乳化、分散、湿
潤、展着、拡展、結合、崩壊性調節、有効成分安定化、
流動性改良、防錆、凍結防止等の目的で界面活性剤およ
びその他の補助剤を使用することもできる。使用される
界面活性剤としては、例えば、非イオン性、陰イオン
性、陽イオン性及び両性イオン性のいずれも使用しうる
が、通常は非イオン性及び（又は）陰イオン性のものが
使用される。

【００５３】適当な非イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、オ
レイルアルコール、等の高級アルコールにエチレンオキ
シドを重合付加させた化合物；ブチルナフトール、オク
チルナフトール等のアルキルナフトールにエチレンオキ
シドを重合付加させた化合物；パルミチン酸、ステアリ
ン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸にエチレンオキシドを
重合付加させた化合物；ソルビタン等の多価アルコール
の高級脂肪酸エステル及びそれにエチレンオキシドを重
合付加させた化合物等が挙げられる。

【００５４】適当な陰イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫
酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩、スル
ホこはく酸ジオクチルエステルナトリウム、２−エチル
ヘキセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸
塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メ
チレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニン
スルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム等のアリールスルホン酸塩等が挙げられる。

【００５５】更に、本発明の除草剤には、製剤の性状を
改善し、効果を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、ア
ルブミン、ニカワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチ
ルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、ポリビニルアルコール等の高分子化合物や他
の補助剤を併用することもできる。上記の担体及び種々
の補助剤は製剤の剤系、適用場面等を考慮して、目的に
応じてそれぞれ単独あるいは組み合わせて適宜使用され
る。

【００５６】このようにして得られた各種製剤形におけ
る本発明化合物（有効成分）の含有率は製剤形により種
々変化するものであるが、通常０．１〜９９重量％、好
ましくは１〜８０重量％の範囲内が適当である。水和剤
の場合は、例えば、有効成分化合物を通常２５〜９０％
含有し、残部は固体担体及び分散湿潤剤であって、必要
に応じて保護コロイド剤、消泡剤等が加えられる。

【００５７】粒剤の場合は、例えば、有効成分化合物を
通常１〜３５重量％含有し、残部は固体担体及び界面活
性剤である。有効成分化合物は固体担体と均一に混合さ
れているか、あるいは固体担体の表面に均一に固着又は
吸着されており、粒の径は約０．２ないし１．５ｍｍで
ある。乳剤の場合は、例えば、有効成分化合物を通常５
〜３０重量％含有しており、これに約５ないし２０重量
％の乳化剤が含まれ、残部は液体担体であり、必要に応
じて展着剤及び防錆剤等が加えられる。

【００５８】フロアブル剤の場合は、例えば、有効成分
化合物を通常５〜５０重量％含有しており、これに３な
いし１０重量％の分散湿潤剤が含まれ、残部は水であり
必要に応じて保護コロイド剤、防腐剤、消泡剤等が加え
られる。本発明の前記一般式（Ｉ）の化合物誘導体は、
化合物そのまま、あるいは上述した様な任意の製剤形態
で除草剤として使用することができる。

【００５９】本発明の除草剤は、水田及び畑地等の農耕
地並びに非農耕地に生育する発生前から生育期までの諸
雑草に適用できる。その施用量は有効成分量として１ｈ
ａ当たり、０．１〜１０，０００ｇ程度、好ましくは１
〜５，０００ｇ程度である。またその施用量は、目的と
する雑草の種類、生育段階、施用場所、天候等によっ
て、適宜に選択変更できる。

【００６０】次に、本発明の化合物を用いた製剤例の数
様態を示す。なお、下記製剤中の「部」は重量基準であ
る。

【００６１】製剤例１（乳剤） 化合物Ｎｏ．１ ２０部 キシレン ５０部 シクロヘキサノン ２０部 ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム ５部 ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル ５部 以上を均一に混合溶解して乳剤１００部を得た。

【００６２】製剤例２（水和剤） 化合物Ｎｏ．１ ２０部 クレー ７０部 リグニンスルホン酸カルシウム ７部 アルキルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物 ３部 以上を混合し、ジェットミルで粉砕して水和剤１００部
を得た。

【００６３】製剤例３（フロアブル剤） 化合物Ｎｏ．２ ２０部 スルホコハク酸ジ−２−エチルヘキシルエステルナトリウム塩 ２部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル ２部 消泡剤 ０．５部 プロピレングリコール ５部 水 ７０．５部 以上を湿式ボールミルで均一に粉砕混合し、フロアブル
剤１００部を得た。

【００６４】上述の製剤例に準じて本発明の化合物を用
いた除草剤がそれぞれ製剤できる。

【００６５】

【発明の効果】本発明の前記一般式（Ｉ）で表される化
合物は、水田に発生するヒエ、タマガヤツリ、コナギ、
キカシグサ、アゼナ、アブノメ等の一年生雑草及びホタ
ルイ、マツバイ、ヘラオモダカ、ミズガヤツリ等の多年
生雑草の発芽時から生育期の広い範囲にわたって、極め
て低い薬量で優れた除草効果を発揮すると同時に、移植
水稲、湛水直播水稲及び乾田直播稲に対しては高い安全
性を有するものである。

【００６６】また、畑地においても問題となる種々の雑
草、例えば、タデ、アオビユ、シロザ等の広葉雑草をは
じめ、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグ
サ、コゴメガヤツリ等の多年生及び一年生カヤツリグサ
科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、スズメノカタ
ビラ、ジョンソングラス、ワイドオート、スズメノテッ
ポウ等のイネ科雑草に対して、土壌処理あるいは茎葉処
理で高い除草効果を示すと同時に大豆、綿、砂糖ダイコ
ン、ナタネ、ヒマワリ、トウモロコシ、陸稲、小麦等に
対しては高い安全性を示すという特徴を有する。

【００６７】更に、水田、畑地のみならず、果樹園、桑
園、芝生、非農耕地においても使用することができる。
また、本発明化合物を公知除草剤と混合して使用する
と、それぞれの化合物単剤では防除困難な雑草に対して
完全な除草効果を示すと共に、相乗的な除草効果により
単剤では防除困難な薬量においても種々の雑草を有効に
防除し、且つ水稲、大豆、綿、砂糖ダイコン、ナタネ、
ヒマワリ、トウモロコシ、陸稲、小麦等に対して高い安
全性を示し、農業上非常に有用な除草剤を提供すること
ができる。

【００６８】次に、本発明化合物の除草効果を試験例を
挙げて説明する。

【００６９】試験例１（水田土壌処理） １３０ｃｍ² プラスチックポットに水田土壌を充填し、
適量の水と化学肥料を加えて混練し水田状態とした。こ
れに、予め葉数が２枚になる様に温室内で生育させた水
稲苗（品種：コシヒカリ）を２本１株として１株／ポッ
ト移植し、更に、ノビエ、コナギ、アゼナ及びホタルイ
の各種子を一定量播種し、水深３ｃｍに湛水した。翌
日、製剤例２に準じて水和剤を調製し、有効成分で１ｈ
ａ当り１ｋｇとなるように適量の水で希釈して、ピペッ
トで滴下処理した。薬剤処理を行ってから２１日後に、
各雑草への除草効果及び水稲に対する薬害程度を下記の
基準に従って判別した。その結果を第３表に示す。

【００７０】

【表３】

【００７１】

【表４】

【００７２】試験例２（水田茎葉処理） １３０ｃｍ² プラスチックポットに水田土壌を充填し、
適量の水と化学肥料を加えて混練し水田状態とした。こ
れに、予め葉数が２枚になる様に温室内で生育させた水
稲苗（品種：コシヒカリ）を２本１株として１株／ポッ
ト移植し、更に、ノビエ、コナギ、アゼナ及びホタルイ
の各種子を一定量播種し、水深３ｃｍに湛水した。ノビ
エが１．５葉期になるまで温室内で生育させた後、製剤
例２に準じて水和剤を調製し、有効成分で１ｈａ当り１
ｋｇとなるように適量の水で希釈して、ピペットで滴下
処理した。薬剤処理を行ってから２１日後に、各雑草へ
の除草効果及び水稲に対する薬害程度を試験例１の基準
に従って判別した。その結果を第４表に示す。

【００７３】

【表５】

【００７４】試験例３（畑地土壌処理） １３０ｃｍ² プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
ノビエ、メヒシバ、エノコログサ、イチビ、オナモミ、
タデ及びシロバナチョウセンアサガオの各種子を一定量
ずつ播種した後、１ｃｍの覆土をした。播種翌日、製剤
例２に準じて水和剤を調製し、有効成分で１ｈａ当り１
ｋｇとなるように適量の水で希釈して土壌表面にむらな
く散布した。薬剤散布を行ってから２１日後に、各雑草
への除草効果を試験例１の基準に従って判別した。その
結果を第５表に示す。

【００７５】

【表６】

【００７６】試験例４（畑地茎葉処理） １３０ｃｍ² プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
ノビエ、メヒシバ、エノコログサ、イチビ、オナモミ、
タデ及びシロバナチョウセンアサガオの各種子を一定量
ずつ播種した後、１ｃｍの覆土をした。播種後ポットを
ガラス温室に置き、各植物が２〜４葉期になるまで育成
した後、製剤例２に準じて水和剤を調製し、有効成分で
１ｈａ当り１ｋｇとなるように適量の水で希釈して植物
葉面ににむらなく散布した。薬剤散布を行ってから２１
日後に、各雑草への除草効果を試験例１の基準に従って
判別した。その結果を第６表に示す。

【００７７】

【表７】

フロントページの続き (72)発明者 引戸 充 茨城県稲敷郡阿見町中央８丁目３番１号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内 (72)発明者 日暮 理加 茨城県稲敷郡阿見町中央８丁目３番１号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内 (72)発明者 田村 久美子 茨城県稲敷郡阿見町中央８丁目３番１号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｘはハロゲン原子、低級アルキル基または低級
   アルコキシ基を示す。Ｙはヒドロキシ基、低級アルコキ
   シ基、低級アルケニルオキシ基、アジド基、低級アルキ
   ルスルホニルオキシ基、低級アルキルカルボニルオキシ
   基、低級アルケニルカルボニルオキシ基または低級アル
   コキシカルボニルアルキルオキシ基を示す。Ｚは置換さ
   れていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい
   低級アルケニル基、置換されていてもよい低級アルキニ
   ル基、置換されていてもよいフェニル基または置換され
   ていてもよいアラルキル基を示す。Ｒ¹ は低級アルキル
   基または低級ハロアルキル基を示す。〕で表わされるピ
   リミジンエーテル誘導体。
2. 【請求項２】 下記一般式（Ｉ） 【化２】 〔式中、Ｘはハロゲン原子、低級アルキル基または低級
   アルコキシ基を示す。Ｙはヒドロキシ基、低級アルコキ
   シ基、低級アルケニルオキシ基、アジド基、低級アルキ
   ルスルホニルオキシ基、低級アルキルカルボニルオキシ
   基、低級アルケニルカルボニルオキシ基または低級アル
   コキシカルボニルアルキルオキシ基を示す。Ｚは置換さ
   れていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい
   低級アルケニル基、置換されていてもよい低級アルキニ
   ル基、置換されていてもよいフェニル基または置換され
   ていてもよいアラルキル基を示す。Ｒ¹ は低級アルキル
   基または低級ハロアルキル基を示す。〕で表わされるピ
   リミジンエーテル誘導体を有効成分として含有する除草
   剤。