JP2003503468A - 水素移動型不斉還元による(r)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールの合成方法 - Google Patents
水素移動型不斉還元による(r)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールの合成方法Info
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-
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Abstract
(57)【要約】
本発明は、アルコールの存在下、ロジウムまたはルテニウム触媒および配位子を用いた、3,5−ビス(トリフルオロメチル)アセトフェノンの水素移動型不斉還元によって、(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタノールを調製する方法に関する。また、(S,R)−1−アミノ−2−ヒドロキシインダンとロジウムおよびルテニウムの特定の錯体、ならびに(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタノールを、これと1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンとの錯体、および(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタノールと1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンとの2:1の錯体を用いて精製する方法も特許請求されている。
Description
【0001】
発明の背景
本発明は、ある種の治療薬を調製する際の中間体として有用な(R)−1−(
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールを調製する
方法に関する。特に、本発明は、サブスタンスP(ニューロキニン−1)受容体
拮抗剤である薬剤化合物を合成する際の中間体である、(R)−1−(3,5−
ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールを調製する方法を提
供する。
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールを調製する
方法に関する。特に、本発明は、サブスタンスP(ニューロキニン−1)受容体
拮抗剤である薬剤化合物を合成する際の中間体である、(R)−1−(3,5−
ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールを調製する方法を提
供する。
【0002】
本発明によって調製された(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル
)フェニル)エタン−1−オールは、次式の(2R,2−alpha−R,3a
)−2−[1−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]エトキシ−3
−(4−フルオロフェニル)−1,4−オキサジンの合成に利用することができ
る。
)フェニル)エタン−1−オールは、次式の(2R,2−alpha−R,3a
)−2−[1−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]エトキシ−3
−(4−フルオロフェニル)−1,4−オキサジンの合成に利用することができ
る。
【0003】
【化7】
【0004】
これは、サブスタンスP(ニューロキニン−1)受容体拮抗剤である薬剤化合
物を合成する際の知られている中間体である。
物を合成する際の知られている中間体である。
【0005】
当技術分野で開示されている、(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメ
チル)フェニル)エタン−1−オール調製の一般的な方法では、所望の生成物の
収率は比較的低く一定しない。今までに知られている方法と比べて、本発明は、
(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オ
ールを、比較的高い収率と鏡像異性体純度で調製する効果的な方法を提供する。
チル)フェニル)エタン−1−オール調製の一般的な方法では、所望の生成物の
収率は比較的低く一定しない。今までに知られている方法と比べて、本発明は、
(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オ
ールを、比較的高い収率と鏡像異性体純度で調製する効果的な方法を提供する。
【0006】
(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−
オールが、特に有用な一群の治療薬への重要な中間体であることを理解されたい
。したがって、容易にスケールアップ可能であり、低コストかつ容易に入手可能
な試薬を使用し、そのため大規模生産に実際に利用できる、(R)−1−(3,
5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールの調製方法の開
発が必要である。
オールが、特に有用な一群の治療薬への重要な中間体であることを理解されたい
。したがって、容易にスケールアップ可能であり、低コストかつ容易に入手可能
な試薬を使用し、そのため大規模生産に実際に利用できる、(R)−1−(3,
5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールの調製方法の開
発が必要である。
【0007】
したがって、本発明は、非常に単純で、短く、きわめて効率のよい合成によっ
て、(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1
−オールを調製する方法を提供する。
て、(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1
−オールを調製する方法を提供する。
【0008】
発明の概要
本発明の新規な方法は、(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)
フェニル)エタン−1−オールの合成に関する。特に、本発明は、次式の化合物
を調製する新規な方法に関する。
フェニル)エタン−1−オールの合成に関する。特に、本発明は、次式の化合物
を調製する新規な方法に関する。
【0009】
【化8】
【0010】
この化合物は、薬理学的な活性を有する化合物を合成する際の中間体である。
具体的には、このような化合物は、例えば、炎症性疾患、精神障害、および嘔吐
の治療に有用な、サブスタンスP(ニューロキニン−1)受容体拮抗剤である。
具体的には、このような化合物は、例えば、炎症性疾患、精神障害、および嘔吐
の治療に有用な、サブスタンスP(ニューロキニン−1)受容体拮抗剤である。
【0011】
発明の詳細な説明
本発明は、次式の(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニ
ル)エタン−1−オールを調製する方法を対象とするものである。
ル)エタン−1−オールを調製する方法を対象とするものである。
【0012】
【化9】
【0013】
(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−
オールを調製する一般的な方法の実施形態は、以下のとおりである。
オールを調製する一般的な方法の実施形態は、以下のとおりである。
【0014】
【化10】
【0015】
本発明の、この実施形態によれば、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル
)フェニル)エタン−1−オンを、アルコールの存在下、ロジウムまたはルテニ
ウム触媒および配位子で処理すると、(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)フェニル)エタン−1−オールが、当技術分野で開示されている方法
よりも高い収率、高い鏡像異性体純度、およびより効率のよい経路で得られる。
)フェニル)エタン−1−オンを、アルコールの存在下、ロジウムまたはルテニ
ウム触媒および配位子で処理すると、(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)フェニル)エタン−1−オールが、当技術分野で開示されている方法
よりも高い収率、高い鏡像異性体純度、およびより効率のよい経路で得られる。
【0016】
他の実施形態では、本発明は、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フ
ェニル)エタン−1−オンを、アルコールの存在下、ロジウムまたはルテニウム
触媒および配位子で処理して(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル
)フェニル)エタン−1−オールを得ることを含む、(R)−1−(3,5−ビ
ス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールを調製する方法を対象
とする。
ェニル)エタン−1−オンを、アルコールの存在下、ロジウムまたはルテニウム
触媒および配位子で処理して(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル
)フェニル)エタン−1−オールを得ることを含む、(R)−1−(3,5−ビ
ス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールを調製する方法を対象
とする。
【0017】
本発明の特定の実施形態は、次式の(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)フェニル)エタン−1−オールを調製する方法に関し、
ロメチル)フェニル)エタン−1−オールを調製する方法に関し、
【0018】
【化11】
【0019】
この方法は、次式の1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エ
タン−1−オンを、
タン−1−オンを、
【0020】
【化12】
【0021】
アルコールの存在下、ロジウムまたはルテニウム触媒および配位子で処理して
、次式の(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン
−1−オールを得ることを含む。
、次式の(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン
−1−オールを得ることを含む。
【0022】
【化13】
【0023】
本発明では、ロジウム触媒を、ビス((ペンタメチルシクロペンタジエニル)
ロジウムクロリド)(すなわち、((ペンタメチルシクロペンタジエニル)Rh
Cl2)2)、およびビス((シクロペンタジエニル)ロジウムクロリド)(す
なわち、((シクロペンタジエニル)RhCl2)2)から選択することが好ま
しい。好ましいロジウム触媒は、ビス((ペンタメチルシクロペンタジエニル)
ロジウムクロリド)である。ロジウム触媒は、好ましくは約0.1〜1モル%、
より好ましくは約0.5モル%の濃度で存在する。
ロジウムクロリド)(すなわち、((ペンタメチルシクロペンタジエニル)Rh
Cl2)2)、およびビス((シクロペンタジエニル)ロジウムクロリド)(す
なわち、((シクロペンタジエニル)RhCl2)2)から選択することが好ま
しい。好ましいロジウム触媒は、ビス((ペンタメチルシクロペンタジエニル)
ロジウムクロリド)である。ロジウム触媒は、好ましくは約0.1〜1モル%、
より好ましくは約0.5モル%の濃度で存在する。
【0024】
本発明では、ルテニウム触媒を、ビス((4−イソプロピル−トルエニル)ル
テニウムクロリド)およびビス((シクロペンタジエニル)ルテニウムクロリド
)から選択することが好ましい。好ましいルテニウム触媒は、ビス((4−イソ
プロピル−トルエニル)ルテニウムクロリド)[すなわち、ビス((パラ−シメ
ニル)ルテニウムクロリド))]である。ルテニウム触媒は、好ましくは約0.
1〜1モル%、より好ましくは約0.3モル%の濃度で存在する。
テニウムクロリド)およびビス((シクロペンタジエニル)ルテニウムクロリド
)から選択することが好ましい。好ましいルテニウム触媒は、ビス((4−イソ
プロピル−トルエニル)ルテニウムクロリド)[すなわち、ビス((パラ−シメ
ニル)ルテニウムクロリド))]である。ルテニウム触媒は、好ましくは約0.
1〜1モル%、より好ましくは約0.3モル%の濃度で存在する。
【0025】
コストを最小限に抑えるため、ルテニウム触媒を用いることが好ましい。
【0026】
本発明では、配位子を、(R,R)−シクロヘキサンジアミン(R,R)CH
XD、プソイドエフェドリン、ノル−プソイドエフェドリン、エフェドリン、ノ
ル−エフェドリン、および(S,R)−cis−1−アミノ−2−ヒドロキシ−
インダンから選択することが好ましい。本発明では、配位子が、(S,R)−c
is−1−アミノ−2−ヒドロキシ−インダンであることがより好ましい。配位
子は、好ましくは約0.1〜1モル%、より好ましくは約0.5モル%の濃度で
存在している。
XD、プソイドエフェドリン、ノル−プソイドエフェドリン、エフェドリン、ノ
ル−エフェドリン、および(S,R)−cis−1−アミノ−2−ヒドロキシ−
インダンから選択することが好ましい。本発明では、配位子が、(S,R)−c
is−1−アミノ−2−ヒドロキシ−インダンであることがより好ましい。配位
子は、好ましくは約0.1〜1モル%、より好ましくは約0.5モル%の濃度で
存在している。
【0027】
便宜上、ロジウムまたはルテニウム触媒および配位子をin situで互い
に接触させることができる。本発明では、(R)−1−(3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールとの反応に先立って、ロジウムま
たはルテニウム触媒および配位子を任意選択で互いに接触させて、触媒−配位子
錯体を形成することができる。
に接触させることができる。本発明では、(R)−1−(3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールとの反応に先立って、ロジウムま
たはルテニウム触媒および配位子を任意選択で互いに接触させて、触媒−配位子
錯体を形成することができる。
【0028】
代替実施形態では、本発明は、次式の化合物を対象とする。
【0029】
【化14】
上式で、Cp*は、ペンタメチルシクロペンタジエニルである。
【0030】
代替実施形態では、本発明は、次式の化合物を対象とする。
【0031】
【化15】
上式で、Cym*は、p−シメン(4−イソプロピル−トルエン)である。
【0032】
本発明では、アルコールを、メタノール、エタノール、イソプロパノール、イ
ソブタノール、またはn−ブタノールから選択することが好ましい。最も好まし
いアルコールは、イソプロパノールである。他の溶媒を存在させることも可能で
あるが、便宜上、反応を実施するための溶媒としてアルコールを用いることが好
ましい。
ソブタノール、またはn−ブタノールから選択することが好ましい。最も好まし
いアルコールは、イソプロパノールである。他の溶媒を存在させることも可能で
あるが、便宜上、反応を実施するための溶媒としてアルコールを用いることが好
ましい。
【0033】
本発明では、塩基をアルコールとともに存在させてもよい。塩基は、水酸化カ
リウムまたは水酸化ナトリウム、炭酸カリウムまたは炭酸ナトリウム、重炭酸カ
リウムまたは重炭酸ナトリウム、カリウムアルコキシドまたはナトリウムアルコ
キシド、および同種のものから選択される塩基など、無機の塩基とすることがで
きる。アルコキシドは、低級(C1〜C5)または高級(>C6)の第1、第2
または第3アルコールから誘導することができる。好ましい塩基は、水酸化ナト
リウムである。
リウムまたは水酸化ナトリウム、炭酸カリウムまたは炭酸ナトリウム、重炭酸カ
リウムまたは重炭酸ナトリウム、カリウムアルコキシドまたはナトリウムアルコ
キシド、および同種のものから選択される塩基など、無機の塩基とすることがで
きる。アルコキシドは、低級(C1〜C5)または高級(>C6)の第1、第2
または第3アルコールから誘導することができる。好ましい塩基は、水酸化ナト
リウムである。
【0034】
本発明によって得られる(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)
フェニル)エタン−1−オールは、直接または精製した後、次の反応の出発原料
として使用することができる。
フェニル)エタン−1−オールは、直接または精製した後、次の反応の出発原料
として使用することができる。
【0035】
代替実施形態では、本発明は、(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメ
チル)フェニル)エタン−1−オールの精製または鏡像異性体純度を高める方法
を対象としており、この方法は、 (R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−
オールを、有機溶媒中で1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンと接触
させて、ビス−((R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル
)エタン−1−オール)1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを生成
させること、 ビス−((R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタ
ン−1−オール)1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを回収するこ
とを含み、 更に、ビス−((R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル
)エタン−1−オール)1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンから、
1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを解離させて(R)−1−(3
,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールを得ることを
含んでもよい。
チル)フェニル)エタン−1−オールの精製または鏡像異性体純度を高める方法
を対象としており、この方法は、 (R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−
オールを、有機溶媒中で1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンと接触
させて、ビス−((R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル
)エタン−1−オール)1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを生成
させること、 ビス−((R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタ
ン−1−オール)1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを回収するこ
とを含み、 更に、ビス−((R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル
)エタン−1−オール)1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンから、
1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを解離させて(R)−1−(3
,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールを得ることを
含んでもよい。
【0036】
この方法では、有機溶媒がアルカンであることが好ましく、有機溶媒をヘキサ
ンおよびヘプタンから選択することがより好ましく、有機溶媒はヘプタンである
ことがさらに好ましい。
ンおよびヘプタンから選択することがより好ましく、有機溶媒はヘプタンである
ことがさらに好ましい。
【0037】
ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンは、1.0当量の(R)−1−(3,
5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールに対して、ジア
ザビシクロ[2.2.2]オクタンが0.5当量の比率で存在することが好まし
い。
5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールに対して、ジア
ザビシクロ[2.2.2]オクタンが0.5当量の比率で存在することが好まし
い。
【0038】
ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンは、好ましくは約0.05〜1モル%
、より好ましくは約0.5モル%の濃度で存在する。
、より好ましくは約0.5モル%の濃度で存在する。
【0039】
有機溶媒中で、(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル
)エタン−1−オールを1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンと接触
させた後、この混合物にビス−((R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメ
チル)フェニル)エタン−1−オール)1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタンをシードとして入れてもよい。ビス−((R)−1−(3,5−ビス(
トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オール)1,4−ジアザビシクロ
[2.2.2]オクタンが生成する温度は、好ましくは約50℃〜約−40℃、
より好ましくは約40℃〜約−20℃、さらに好ましくは約0℃〜約−20℃で
ある。
)エタン−1−オールを1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンと接触
させた後、この混合物にビス−((R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメ
チル)フェニル)エタン−1−オール)1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタンをシードとして入れてもよい。ビス−((R)−1−(3,5−ビス(
トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オール)1,4−ジアザビシクロ
[2.2.2]オクタンが生成する温度は、好ましくは約50℃〜約−40℃、
より好ましくは約40℃〜約−20℃、さらに好ましくは約0℃〜約−20℃で
ある。
【0040】
この代替実施形態を、反復して繰り返して、その後の各サイクルで、(R)−
1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールの鏡
像異性体純度をさらに高めることができることを、当分野の技術者なら理解する
であろう。
1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールの鏡
像異性体純度をさらに高めることができることを、当分野の技術者なら理解する
であろう。
【0041】
この代替実施形態の一態様では、本発明は次式の化合物を対象としている。
【0042】
【化16】
【0043】
この代替実施形態の他の態様は、90%より高い、好ましくは95%より高い
、より好ましくは98%より高い、特に99%より高い、とりわけ99.5%(
鏡像体過剰率)より高い鏡像異性体純度(鏡像体過剰率)で存在している(R)
−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールを
対象としている。
、より好ましくは98%より高い、特に99%より高い、とりわけ99.5%(
鏡像体過剰率)より高い鏡像異性体純度(鏡像体過剰率)で存在している(R)
−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールを
対象としている。
【0044】
本方法の出発原料および試薬は、市販されているか、文献で知られているか、
あるいは類似の化合物について記載された文献の方法に従って調製することがで
きる。反応を行うとき、および得られた反応生成物の精製を行うときに要求され
る技術は、当分野の技術者には知られている。精製方法には、結晶化、蒸留、順
相または逆相クロマトグラフィーが含まれる。
あるいは類似の化合物について記載された文献の方法に従って調製することがで
きる。反応を行うとき、および得られた反応生成物の精製を行うときに要求され
る技術は、当分野の技術者には知られている。精製方法には、結晶化、蒸留、順
相または逆相クロマトグラフィーが含まれる。
【0045】
以下の実施例は、さらに例示する目的でのみ提供されるものであり、開示され
た発明を限定するものではない。
た発明を限定するものではない。
【0046】
実施例1
3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロモベンゼン
【0047】
【化17】
【0048】
【表1】
【0049】
1Lの3つ口丸底フラスコ(メカニカルスターラー、熱電対、および滴下漏斗
を装備)中で15℃に冷却した氷酢酸(22.0mL)に、濃(96%)硫酸(
142mL)を一度で加えた。溶液が発熱して温度は35℃に上昇した。25℃
に冷却した後、1,3−ビス(トリフルオロ−メチル)ベンゼン(107g、5
00ミリモル)を加えた。この酸混合物を高速で撹拌しながら、1,3−ジブロ
モ−5,5−ジメチルヒダントイン(77.25g;270ミリモル)を2分か
けて加えて、多相の混合物を得た(固体および2種の液体)。発熱反応が起こっ
て、内部温度が〜40℃に上昇した(15℃でジャケット冷却)。反応温度が低
下しはじめた後(5分後)、反応混合物を45℃に4.5時間保持した。
を装備)中で15℃に冷却した氷酢酸(22.0mL)に、濃(96%)硫酸(
142mL)を一度で加えた。溶液が発熱して温度は35℃に上昇した。25℃
に冷却した後、1,3−ビス(トリフルオロ−メチル)ベンゼン(107g、5
00ミリモル)を加えた。この酸混合物を高速で撹拌しながら、1,3−ジブロ
モ−5,5−ジメチルヒダントイン(77.25g;270ミリモル)を2分か
けて加えて、多相の混合物を得た(固体および2種の液体)。発熱反応が起こっ
て、内部温度が〜40℃に上昇した(15℃でジャケット冷却)。反応温度が低
下しはじめた後(5分後)、反応混合物を45℃に4.5時間保持した。
【0050】
臭素化の速度および選択性は、2相の反応物の撹拌の程度に著しく左右される
。撹拌が低速になると、ビス−臭素化の量が増加し、総括反応速度が遅くなる。
反応混合物は、反応の間ずっと不均一のままであり、撹拌を中断すると有機相が
分離する。反応の終りに、各相が徐々に分離する(臭化物の密度=1.699)
。臭素化の速度は、酢酸と硫酸の比率にも左右される。
。撹拌が低速になると、ビス−臭素化の量が増加し、総括反応速度が遅くなる。
反応混合物は、反応の間ずっと不均一のままであり、撹拌を中断すると有機相が
分離する。反応の終りに、各相が徐々に分離する(臭化物の密度=1.699)
。臭素化の速度は、酢酸と硫酸の比率にも左右される。
【0051】
反応の進行は、以下のようにGC分析によって追跡する。
【0052】
サンプル:混合相〜50μlを、シクロヘキサン(1.5mL)で希釈し、水
(1mL)で、次いで2N NaOH(1mL)で洗浄し、分離して注入する。
(1mL)で、次いで2N NaOH(1mL)で洗浄し、分離して注入する。
【0053】
Resteck RTX−1701[60メートル×0.320mm]:10
0℃;勾配:200℃まで5℃/分;200℃で10分間;流量1.15mL/
分 Rt:1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン:7.0分 3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロモベンゼン:9.4分 ビアリール:19.2分 混合物を2℃に冷却し、冷水(250mL)中へ徐々に注いだ。混合物を10
分間激しく撹拌し、静置し、下の有機層を分離し、5NのNaOH(75mL)
で洗って、無色透明な有機層145.1gを得た。
0℃;勾配:200℃まで5℃/分;200℃で10分間;流量1.15mL/
分 Rt:1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン:7.0分 3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロモベンゼン:9.4分 ビアリール:19.2分 混合物を2℃に冷却し、冷水(250mL)中へ徐々に注いだ。混合物を10
分間激しく撹拌し、静置し、下の有機層を分離し、5NのNaOH(75mL)
で洗って、無色透明な有機層145.1gを得た。
【0054】
1,3−ビス(トリフルオロメチル)ブロモベンゼンのアッセイ収率は、93
.7%(137.3g、469ミリモル)であり、これは、1,3−ビス(トリ
フルオロメチル)ベンゼン0.6%、1,2−ジブルモ−3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)ベンゼン1.0%、および1,4−ジブロモ−3,5−ビス(ト
リフルオロメチル)ベンゼン0.3%を含んでいた。GCで測定した異性体副生
成物の合計は2.0モル%であった。
.7%(137.3g、469ミリモル)であり、これは、1,3−ビス(トリ
フルオロメチル)ベンゼン0.6%、1,2−ジブルモ−3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)ベンゼン1.0%、および1,4−ジブロモ−3,5−ビス(ト
リフルオロメチル)ベンゼン0.3%を含んでいた。GCで測定した異性体副生
成物の合計は2.0モル%であった。
【0055】
実施例2
1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オン
【0056】
【化18】
【0057】
【表2】
【0058】
滴下漏斗、N2吸入口、およびテフロン(登録商標)を塗布した熱電対を備え
た500mLの3つ口丸底フラスコに、マグネシウム粒(5.10g、210ミ
リモル)およびTHF(200mL)を加えた。混合物を加熱して還流させた。
3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロモベンゼン(29.3g、98ミリモ
ル)をTHF30mLに溶解した。穏やかに還流しているマグネシウムスラリー
に、若干量の臭化物溶液(5mL)を2分かけて加えてグリニャール反応を開始
させた。別法では、溶媒のロスを最少限に抑えるために、グリニャール反応を0
〜20℃で行うことができる。グリニャール反応開始後は、残りの臭化物を1時
間かけて加えた。
【0059】
5分の初期誘導期間が一般に許容される。反応が開始しないときは、さらに5
%分の臭化物溶液を加える。臭化物を10%仕込んだ後でもまだ反応が開始しな
いときは、ヨウ素100mgを加える。反応が激しすぎるようなときは、臭化物
の添加を遅くするか停止することによって反応の発熱を制御した。
%分の臭化物溶液を加える。臭化物を10%仕込んだ後でもまだ反応が開始しな
いときは、ヨウ素100mgを加える。反応が激しすぎるようなときは、臭化物
の添加を遅くするか停止することによって反応の発熱を制御した。
【0060】
臭化物の添加が完了した後(〜60分)、暗褐色の溶液を穏やかに還流しなが
ら、さらに30分加熱した。
ら、さらに30分加熱した。
【0061】
反応を、HPLC(サンプル調製:サンプル100μLを1:1のTHF:2
N HCl 3.5mLに入れて停止させ、次いで65:35のアセトニトリル
:pH6緩衝液で100mLに希釈した)で追跡した。臭化物の濃度が1モル%
未満になったとき、グリニャール形成は完結したとみなした。
N HCl 3.5mLに入れて停止させ、次いで65:35のアセトニトリル
:pH6緩衝液で100mLに希釈した)で追跡した。臭化物の濃度が1モル%
未満になったとき、グリニャール形成は完結したとみなした。
【0062】
水浴中で雰囲気温度に冷却した後、カニューレを用いて混合物を1Lの滴下漏
斗に移した。THF(10mL)をすすぎ液として用いた。次いで、−15℃に
保持した無水酢酸(40mL)のTHF(40mL)溶液に、この溶液を1時間
かけて加えた。暗褐色の混合物を水浴中で10℃に暖めて、水(300mL)を
3分かけて加えた。50%NaOHを1時間かけて滴下しながら、pH8.0が
5分間保持されるまで、2相の混合物を激しく撹拌した。MTBE(300mL
)を加えて層を分離させ、水層をさらにMTBE(3×150mL)で抽出した
。有機層を合わせて、分析し(ケトン22.4g)、次いで浴温32℃、真空下
(50〜80トル)で濃縮した。次いで濃縮物を大気圧で蒸留して、150〜1
89℃で、無色の油分20.7g(LC純度で収率82%)を回収した。大半は
187〜189℃で回収された。 HPLC分析:97.7LCAP 方法: Luna C18、アセトニトリル:0.1%H3PO4水溶液、20
分かけて75:25から95:5へ;5分間保持。 Rt(分): フェノール 5.2 ケトン 6.3 芳香族 7.3 臭化物 9.7 二量体 13.3 GC分析: 95.5GCAP 方法: Resteck RTX−1701[60メートル×0.320mm]
、5℃/分で100℃から200℃へ;200℃に10分間:流速35cm/秒
の一定流速。 Rt(分): 1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン 4.4 無水酢酸 5.6 メチルケトン 10.6 3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロモベンゼン 6.2 ビス付加物 19.6
斗に移した。THF(10mL)をすすぎ液として用いた。次いで、−15℃に
保持した無水酢酸(40mL)のTHF(40mL)溶液に、この溶液を1時間
かけて加えた。暗褐色の混合物を水浴中で10℃に暖めて、水(300mL)を
3分かけて加えた。50%NaOHを1時間かけて滴下しながら、pH8.0が
5分間保持されるまで、2相の混合物を激しく撹拌した。MTBE(300mL
)を加えて層を分離させ、水層をさらにMTBE(3×150mL)で抽出した
。有機層を合わせて、分析し(ケトン22.4g)、次いで浴温32℃、真空下
(50〜80トル)で濃縮した。次いで濃縮物を大気圧で蒸留して、150〜1
89℃で、無色の油分20.7g(LC純度で収率82%)を回収した。大半は
187〜189℃で回収された。 HPLC分析:97.7LCAP 方法: Luna C18、アセトニトリル:0.1%H3PO4水溶液、20
分かけて75:25から95:5へ;5分間保持。 Rt(分): フェノール 5.2 ケトン 6.3 芳香族 7.3 臭化物 9.7 二量体 13.3 GC分析: 95.5GCAP 方法: Resteck RTX−1701[60メートル×0.320mm]
、5℃/分で100℃から200℃へ;200℃に10分間:流速35cm/秒
の一定流速。 Rt(分): 1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン 4.4 無水酢酸 5.6 メチルケトン 10.6 3,5−ビス(トリフルオロメチル)ブロモベンゼン 6.2 ビス付加物 19.6
【0063】
実施例3
(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−
オール
オール
【0064】
【化19】
【0065】
【表3】
【0066】
ロジウム塩および配位子を、室温でIPAに加え、0.5時間熟成した。通常
、溶液は熟成期間中に明るいオレンジ色に変化した。次いで、ケトンを、次に塩
基を加え、HPLCで完結するまで(〜3時間)反応を熟成した。次いで、1N
HClで反応を停止させ、ヘプタン(2×3.5L)で抽出し、ブライン5L
で洗浄した。DABCOを加え、溶液をアルコール1g当たり〜4mLの容積に
濃縮した。この点で、KFは200未満であり、5%未満のIPAが残る。この
基準を満たさない場合は、追加のヘプタンで反応物を洗ってもよい。任意選択で
、DABCO錯体をシードとして40℃で反応物中に入れて、反応物を室温まで
ゆっくり冷却した。結晶化が直ちに開始された。次いで反応物を0℃まで冷却し
、ろ過した。ケーキを冷ヘプタンで洗った。DABCO錯体を、収率〜70%、
鏡像体過剰率〜99%で単離した。
、溶液は熟成期間中に明るいオレンジ色に変化した。次いで、ケトンを、次に塩
基を加え、HPLCで完結するまで(〜3時間)反応を熟成した。次いで、1N
HClで反応を停止させ、ヘプタン(2×3.5L)で抽出し、ブライン5L
で洗浄した。DABCOを加え、溶液をアルコール1g当たり〜4mLの容積に
濃縮した。この点で、KFは200未満であり、5%未満のIPAが残る。この
基準を満たさない場合は、追加のヘプタンで反応物を洗ってもよい。任意選択で
、DABCO錯体をシードとして40℃で反応物中に入れて、反応物を室温まで
ゆっくり冷却した。結晶化が直ちに開始された。次いで反応物を0℃まで冷却し
、ろ過した。ケーキを冷ヘプタンで洗った。DABCO錯体を、収率〜70%、
鏡像体過剰率〜99%で単離した。
【0067】
実施例4
(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−
オール
オール
【0068】
【化20】
【0069】
【表4】
【0070】
ロジウム塩および配位子を、室温でIPAに加え、0.5時間熟成した。通常
、溶液は熟成期間中に明るいオレンジ色に変化した。次いで、ケトンを、次に塩
基を加え、HPLCで完結するまで(〜3時間)反応を熟成した。次いで、1N
HClで反応を停止させ、ヘプタン(2×3.5L)で抽出し、ブライン5L
で洗浄した。DABCOを加え、溶液をアルコール1g当たり〜4mLの容積に
濃縮した。この点で、KFは200未満であり、5%未満のIPAが残る。この
基準を満たさない場合は、追加のヘプタンで反応物を洗ってもよい。任意選択で
、DABCO錯体をシードとして40℃で反応物中に入れて、反応物を室温まで
ゆっくり冷却した。結晶化が直ちに開始された。次いで反応物を0℃まで冷却し
、ろ過した。ケーキを冷ヘプタンで洗った。DABCO錯体を、収率〜75%、
鏡像異性体過剰率〜99.5%で単離した。塩化トシルを(R,R)−ジアミノ
シクロヘキサンと反応させて、(R,R)−トルエンスルホニルシクロヘキサン
ジアミンを調製した。生成物を、収率40〜50%で単離した。
、溶液は熟成期間中に明るいオレンジ色に変化した。次いで、ケトンを、次に塩
基を加え、HPLCで完結するまで(〜3時間)反応を熟成した。次いで、1N
HClで反応を停止させ、ヘプタン(2×3.5L)で抽出し、ブライン5L
で洗浄した。DABCOを加え、溶液をアルコール1g当たり〜4mLの容積に
濃縮した。この点で、KFは200未満であり、5%未満のIPAが残る。この
基準を満たさない場合は、追加のヘプタンで反応物を洗ってもよい。任意選択で
、DABCO錯体をシードとして40℃で反応物中に入れて、反応物を室温まで
ゆっくり冷却した。結晶化が直ちに開始された。次いで反応物を0℃まで冷却し
、ろ過した。ケーキを冷ヘプタンで洗った。DABCO錯体を、収率〜75%、
鏡像異性体過剰率〜99.5%で単離した。塩化トシルを(R,R)−ジアミノ
シクロヘキサンと反応させて、(R,R)−トルエンスルホニルシクロヘキサン
ジアミンを調製した。生成物を、収率40〜50%で単離した。
【0071】
実施例5
(R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−
オール
オール
【0072】
【化21】
【0073】
【表5】
【0074】
ルテニウム塩[RuCl2(p−シメン)]2および(S,R)−cis−ア
ミノインダノールを室温でIPAに加えて0.5時間熟成した。溶液は、通常、
熟成期間中に明るい黄色〜オレンジ色に変わった。1−(3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)フェニル)エタン−1−オンを加え、反応物を真空下で脱気した
。次いで塩基を加え、HPLCで>98%完結まで(4〜6時間)反応を熟成し
た。次いで反応物を1N HCl中に注いで反応を停止させ、ヘプタン(2×1
0.5L)で抽出し、ブライン15Lで洗浄した。1,4−ジアザビシクロ[2
.2.2]オクタン(DABCO)を加え、溶液をアルコール1g当たり〜4m
Lの容積に濃縮した。この点で、KFは200未満であり、5%未満のIPAが
残る。この基準を満たさない場合は、追加のヘプタンで反応物を洗ってもよい。
任意選択で、DABCO錯体をシードとして40℃で反応物中に入れて、反応物
を室温までゆっくり冷却した。結晶化が直ちに開始された。次いで反応物を0℃
まで冷却し、ろ過した。ケーキを冷ヘプタンで洗った。DABCO錯体を、収率
75〜80%、鏡像体過剰率>99%で単離した。
ミノインダノールを室温でIPAに加えて0.5時間熟成した。溶液は、通常、
熟成期間中に明るい黄色〜オレンジ色に変わった。1−(3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)フェニル)エタン−1−オンを加え、反応物を真空下で脱気した
。次いで塩基を加え、HPLCで>98%完結まで(4〜6時間)反応を熟成し
た。次いで反応物を1N HCl中に注いで反応を停止させ、ヘプタン(2×1
0.5L)で抽出し、ブライン15Lで洗浄した。1,4−ジアザビシクロ[2
.2.2]オクタン(DABCO)を加え、溶液をアルコール1g当たり〜4m
Lの容積に濃縮した。この点で、KFは200未満であり、5%未満のIPAが
残る。この基準を満たさない場合は、追加のヘプタンで反応物を洗ってもよい。
任意選択で、DABCO錯体をシードとして40℃で反応物中に入れて、反応物
を室温までゆっくり冷却した。結晶化が直ちに開始された。次いで反応物を0℃
まで冷却し、ろ過した。ケーキを冷ヘプタンで洗った。DABCO錯体を、収率
75〜80%、鏡像体過剰率>99%で単離した。
【0075】
以上本発明を若干の具体的な実施形態に関し記述かつ図示したが、本発明の精
神および範囲から逸脱することなく、手順およびプロトコルに様々な適合、変更
、修正、置換、削除、または追加を加えることができることを、当業者なら理解
するであろう。例えば、本明細書に上記した特定の条件以外の反応条件を、試薬
または方法の変形として、上に示した本発明の方法による化合物の調製に適用す
ることができる。同様に、出発原料の特定の反応性は、存在する個々の置換基ま
たは製造条件に従ってかつそれに応じて変わることがあり、結果におけるこうし
た所期の変化または差異は、本発明の目的および実施によって企図されているも
のである。したがって、本発明は、頭記の特許請求の範囲によって定義されてお
り、こうした特許請求の範囲は妥当な程度に広く解釈されるものとする。
神および範囲から逸脱することなく、手順およびプロトコルに様々な適合、変更
、修正、置換、削除、または追加を加えることができることを、当業者なら理解
するであろう。例えば、本明細書に上記した特定の条件以外の反応条件を、試薬
または方法の変形として、上に示した本発明の方法による化合物の調製に適用す
ることができる。同様に、出発原料の特定の反応性は、存在する個々の置換基ま
たは製造条件に従ってかつそれに応じて変わることがあり、結果におけるこうし
た所期の変化または差異は、本発明の目的および実施によって企図されているも
のである。したがって、本発明は、頭記の特許請求の範囲によって定義されてお
り、こうした特許請求の範囲は妥当な程度に広く解釈されるものとする。
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(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
C07C 211/42 C07C 211/42
C07F 15/00 C07F 15/00 A
B
// C07B 53/00 C07B 53/00 B
61/00 300 61/00 300
C07D 265/32 C07D 265/32
C07M 7:00 C07M 7:00
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY,
DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I
T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ
,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML,
MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K
E,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ,UG
,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,
RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,AT,
AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,BZ,C
A,CH,CN,CR,CU,CZ,DE,DK,DM
,DZ,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH,
GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP,K
E,KG,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT
,LU,LV,MA,MD,MG,MK,MN,MW,
MX,MZ,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,S
D,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR
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(72)発明者 ハンセン,カール
アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・
07065−0907、ローウエイ、イースト・リ
ンカーン・アベニユー・126
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4H006 AA01 AA02 AB20 AB84 AC41
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FE11 FE71 FE74
4H039 CA60 CB90
4H050 AA01 AA03 AB80
Claims (20)
- 【請求項1】 次式の化合物を調製する方法であって、 【化1】 次式の化合物を、 【化2】 アルコールの存在下、ロジウムまたはルテニウム触媒および配位子で処理して
、次式の化合物を得ることを含む方法。 【化3】 - 【請求項2】 触媒が、ビス((ペンタメチルシクロペンタジエニル)ロジ
ウムクロリド)およびビス((シクロペンタジエニル)ロジウムクロリド)から
選択されるロジウム触媒である、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 触媒が、ビス((4−イソプロピル−トルエニル)ルテニウ
ムクロリド)およびビス((シクロペンタジエニル)ルテニウムクロリド)から
選択されるルテニウム触媒である、請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 触媒が、ビス((ペンタメチルシクロペンタジエニル)ロジ
ウムクロリド)であるロジウム触媒である、請求項1に記載の方法。 - 【請求項5】 ロジウム触媒が、約0.1〜1モル%の濃度で存在する、請
求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 触媒が、ビス((4−イソプロピル−トルエニル)ルテニウ
ムクロリド)であるルテニウム触媒である、請求項1に記載の方法。 - 【請求項7】 ルテニウム触媒が、約0.1〜1モル%の濃度で存在する、
請求項1に記載の方法。 - 【請求項8】 配位子が、(S,R)−cis−1−アミノ−2−ヒドロキ
シ−インダンである、請求項1に記載の方法。 - 【請求項9】 配位子が、約0.1〜1モル%の濃度で存在する、請求項1
に記載の方法。 - 【請求項10】 アルコールが、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、イソブタノール、またはn−ブタノールから選択される、請求項1に記載の
方法。 - 【請求項11】 アルコールがイソプロパノールである、請求項1に記載の
方法。 - 【請求項12】 水酸化ナトリウムが、アルコールとともに存在する、請求
項1に記載の方法。 - 【請求項13】 (R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェ
ニル)エタン−1−オールを調製する方法であって、 1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オンを、
イソプロパノールの存在下、ビス((ペンタメチルシクロペンタジエニル)ロジ
ウムクロリド)および(S,R)−cis−1−アミノ−2−ヒドロキシ−イン
ダンで処理して、 (R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−
オールを得ることを含む方法。 - 【請求項14】 (R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェ
ニル)エタン−1−オールを調製する方法であって、 1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オンを、
イソプロパノールの存在下、ビス((4−イソプロピル−トルエニル)ルテニウ
ムクロリド)および(S,R)−cis−1−アミノ−2−ヒドロキシ−インダ
ンで処理して、 (R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−
オールを得ることを含む方法。 - 【請求項15】 次式の化合物であって、 【化4】 上式で、Cp*がペンタメチルシクロペンタジエニルである化合物。
- 【請求項16】 次式の化合物であって、 【化5】 上式で、Cym*が4−イソプロピル−トルエンである化合物。
- 【請求項17】 次式の化合物。 【化6】
- 【請求項18】 (R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェ
ニル)エタン−1−オールを精製する方法であって、 (R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−
オールを、有機溶媒中で、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンと接
触させて、ビス−((R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニ
ル)エタン−1−オール)1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを生
成させること、 ビス−((R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタ
ン−1−オール)1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを回収するこ
と、ならびに ビス−((R)−1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタ
ン−1−オール)1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンから、1,4
−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを解離させて(R)−1−(3,5−
ビス(トリフルオロメチル)フェニル)エタン−1−オールを得ることを含む方
法。 - 【請求項19】 有機溶媒が、ヘキサンおよびヘプタンから選択される、請
求項18に記載の方法。 - 【請求項20】 有機溶媒がヘプタンである、請求項18に記載の方法。
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