JP2003257663A - 有機ｅｌ表示パネルおよびその製造方法 - Google Patents

有機ｅｌ表示パネルおよびその製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】金属製の補助電極の存在に起因して有機ＥＬ表
示パネルの他の部分の形成に支障を生じないようにす
る。 【解決手段】基板１上に形成された金属製の補助電極３
と、補助電極３よりも上層位置において補助電極３と交
差する方向に延びた絶縁層７と、を有する有機ＥＬ表示
パネルＡであって、補助電極３は、絶縁層７の縁部の直
下を避けるように複数に分断されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本願発明は、画像表示用のデ
ィスプレイとして利用される有機ＥＬ表示パネル、およ
びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】有機ＥＬ表示パネルの陽極は、たとえば
ＩＴＯ膜からなる透明電極とされているのが通例である
が、ＩＴＯ膜は、電極に用いられる一般の金属と比較す
ると、その電気抵抗は大きい。一方、有機ＥＬ表示パネ
ルは、電圧駆動の液晶表示パネルとは異なり、電流駆動
であるため、配線抵抗が大きいと、信号電圧低下や、信
号波形の鈍りを生じ易い。これら信号電圧低下や信号波
形の鈍りは、表示画面における輝度むらやフルカラーで
のカラーバランスのばらつきの原因となるため、防止す
る必要がある。とくに、上記した現象は、瞬間的に大き
な電流を流す単純マトリクス方式のものにおいて生じ易
く、またパネルが大型化するほど生じ易い。そこで、従
来においては、図１２に示すように、ＩＴＯ膜からなる
陽極９１上に、クロムなどの金属製の補助電極９２を積
層して形成する場合があった。
【０００３】図１２に示す構造をより詳細に説明する
と、図示された有機ＥＬ表示パネルは、単純マトリクス
方式のものであり、透明な基板９０上には、図面の左右
方向に延び、かつ紙面と直交する方向に並ぶ複数ずつの
陽極９１および補助電極９２が形成されている。また、
それらの上には、紙面と直交する方向に延び、かつ図面
の左右方向に並ぶ複数ずつの有機ＥＬ層９３、陰極９
４、および陰極セパレータ９５が積層して形成されてい
る。陰極セパレータ９５は、互いに隣り合う陰極９４ど
うしの電気的な絶縁を図るためのものである。有機ＥＬ
層９３から発せられた光は、陽極９１および基板９０を
透過して下向きに進行するようになっている。このた
め、補助電極９２は、陽極９１の全体を覆わないよう
に、たとえば陽極９１の幅方向一側縁寄りに偏るように
して陽極９１上に形成されている。
【０００４】このような構成によれば、陽極９１に補助
電極９２が組み合わされていることにより、それら全体
の電気抵抗を下げることができるために、上記した不具
合の解消または抑制が図られる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の構造においては、補助電極９２が陽極９１の長手方
向の略全長域にわたって一連に延びた形状とされてお
り、このことによって次のような不具合を生じていた。
【０００６】すなわち、陰極セパレータ９５は、図１３
（ａ）に示すように、陽極９１および補助電極９２上に
レジスト膜９５Ａを形成した後に、フォトリソグラフィ
の手法を用いて、このレジスト膜９５Ａに露光・現像処
理を施すことにより形成される。レジスト膜９５Ａはネ
ガ形である。従来において、マスク９９を利用し、レジ
スト膜９５Ａの陰極セパレータ９５に対応する部分９
５’に露光を行なうと、この部分９５’を透過した光
は、補助電極９２によって上方に向けて散乱反射されて
いた。補助電極９２は、たとえばクロムであるため、そ
の表面の光反射率は高い。このため、レジスト膜９５Ａ
の下面近傍部分が上記反射光によっても感光する現象を
生じていた。このため、その後現像処理を行なったとき
には、同図（ｂ）に示すように、陰極セパレータ９５
が、下広がりの断面形状となる場合があった。
【０００７】ところが、陰極セパレータ９５が上記形状
であると、図１４に示すように、その後有機ＥＬ層９３
や陰極９４をたとえば蒸着により形成する場合に、陰極
セパレータ９５の上面９５ａのみならず、その両側面９
５ｂ，９５ｃにも成膜がなされてしまう。これでは、陰
極セパレータ９５を挟んで隣り合う陰極９４どうしが電
気的に導通した状態となり、適切でない。従来において
は、陰極セパレータ９５の上部の一部をその後エッチン
グ処理によって除去すれば、互いに隣り合う陰極９４ど
うしを電気的に絶縁することは可能であるものの、この
ような処理を施しても、陰極セパレータ９５の両側面９
５ｂ，９５ｃには、有機ＥＬ層９３や陰極９４が成膜さ
れているために、陰極セパレータ９５を挟んで隣り合う
陰極９４どうしの電気的な絶縁を確実に図る観点からす
れば、好ましいものではなかった。
【０００８】本願発明は、このような事情のもとで考え
出されたものであって、金属製の補助電極の存在に起因
して有機ＥＬ表示パネルの他の部分の形成に支障を生じ
ないようにすることをその課題としている。
【０００９】
【発明の開示】上記の課題を解決するため、本願発明で
は、次の技術的手段を講じている。
【００１０】本願発明の第１の側面によって提供される
有機ＥＬ表示パネルは、基板上に形成された金属製の補
助電極と、この補助電極よりも上層位置において上記補
助電極と交差する方向に延びる絶縁層と、を有する有機
ＥＬ表示パネルであって、上記補助電極は、上記絶縁層
の縁部の直下を避けるように複数に分断されていること
を特徴としている。
【００１１】本願発明の第２の側面によって提供される
有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、基板上に金属製の補
助電極を形成する工程と、上記補助電極よりも上層位置
に上記補助電極と交差する方向に延びる絶縁層を、レジ
ストの露光・現像処理により形成する工程と、を有する
有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、上記補助電極
を形成するときには、上記絶縁層の縁部が形成される箇
所の直下を避けるように、上記補助電極を複数に分断し
た形状とすることを特徴としている。
【００１２】このような構成によれば、フォトリソグラ
フィの手法を用いて上記絶縁層を形成するときに、露光
に用いられた光が上記絶縁層の縁部となる部分の直下に
進行しても、この光が上記補助電極によって散乱反射さ
れないようにすることができる。したがって、上記絶縁
層の縁部を所望の適正な形状に仕上げることが可能とな
る。
【００１３】本願発明の好ましい実施の形態において
は、上記基板上に形成された透光性を有する複数の陽極
と、これら複数の陽極上に形成された複数ずつの有機Ｅ
Ｌ層および陰極と、を具備しており、かつ上記補助電極
は、上記各陽極に導通接触している。
【００１４】このような構成によれば、上記各陽極を電
気抵抗が比較的大きいＩＴＯ膜によって構成した場合で
あっても、上記各陽極と上記補助電極とのトータルした
電気抵抗を小さくすることが可能となり、配線抵抗に起
因する発光輝度のばらつきなどを抑制するのに好適とな
る。
【００１５】本願発明の他の好ましい実施の形態におい
ては、上記絶縁層は、上記複数の陰極どうしの間に形成
された陰極セパレータであり、上記補助電極は、上記陰
極セパレータの直下において分断された形状とされてい
る。また、上記陰極セパレータは、ネガ形レジストから
なる。
【００１６】このような構成によれば、上記陰極セパレ
ータをフォトリソグラフィの手法で作製する場合に、上
記従来技術とは反対に、上記陰極セパレータを上広がり
の断面形状に形成することが可能となる。このため、た
とえばこの陰極セパレータを介して互いに隣り合う陰極
どうしが電気的に短絡しないようにするのに好適とな
る。
【００１７】本願発明の第３の側面によって提供される
有機ＥＬ表示パネルは、基板上に形成された複数の陽極
と、これら複数の陽極に導通接触している金属製の複数
の補助電極と、上記各補助電極および上記各陽極の一部
を覆い、かつ上記各陽極上において開口部を形成してい
る絶縁層と、上記絶縁層上に形成され、かつ上記複数の
陽極に接触するように上記開口部内に一部が進入してい
る複数の有機ＥＬ層と、これら複数の有機ＥＬ層上に積
層された複数の陰極と、を有する有機ＥＬ表示パネルで
あって、上記各補助電極は、上記開口部の縁部の直下を
避けて形成されていることを特徴としている。好ましく
は、上記絶縁層は、ポジ形レジストからなる。
【００１８】本願発明の第４の側面によって提供される
有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、基板上に複数の陽極
およびこれら複数の陽極に導通接触する金属製の複数の
補助電極を形成する工程と、上記各補助電極および上記
各陽極の一部を覆い、かつ上記各陽極上において開口部
を形成する絶縁層を、レジストの露光・現像処理により
形成する工程と、上記絶縁層上に複数の有機ＥＬ層およ
び複数の陰極を形成する工程と、を有する有機ＥＬ表示
パネルの製造方法であって、上記各補助電極の形成は、
上記開口部の縁部の直下を避けるように行なうことを特
徴としている。
【００１９】このような構成によれば、フォトリソグラ
フィの手法を用いて上記絶縁層を形成するときに、露光
に用いられた光が上記絶縁層の開口部の縁部となる箇所
の直下に進行しても、この光が上記補助電極によって上
方に向けて散乱反射されないようにすることができる。
したがって、上記絶縁層の開口部の縁部を所望の適正な
形状に仕上げることが可能となる。上記開口部の縁部
が、たとえば上記各陽極の表面に対して略垂直に起立し
ていたのでは、上記各陽極上の上記縁部の近傍に、有機
ＥＬ層を適切に形成することが困難となるが、上記構成
によれば、そのような虞れを無くすことが可能となる。
【００２０】本願発明の第５の側面によって提供される
有機ＥＬ表示パネルは、基板上に形成され、かつ一定方
向に延びる複数の陽極と、これら複数の陽極に導通接触
する金属製の複数の補助電極と、上記各補助電極および
上記陽極の一部を覆い、かつ上記各陽極上において開口
部を形成している絶縁層と、上記絶縁層上に形成され、
かつ上記複数の陽極に接触するように上記開口部内に一
部が進入している複数の有機ＥＬ層と、これら複数の有
機ＥＬ層上に積層された複数の陰極どうしの間を仕切る
ように設けられ、かつ上記各陽極とは交差する方向に延
びている複数の陰極セパレータと、を有する、有機ＥＬ
表示パネルであって、上記各補助電極は、上記各陰極セ
パレータの直下および上記開口部の縁部の直下を避けて
形成されていることを特徴としている。
【００２１】このような構成によれば、本願発明の第１
ないし第４の側面のそれぞれによって得られるのと同様
な効果が得られることとなり、上記各陰極セパレータお
よび上記絶縁層の開口部の縁部を適切な形状にすること
ができる。
【００２２】本願発明の好ましい実施の形態において
は、上記各補助電極は、上記各陽極の幅方向一側縁また
は両側縁のそれぞれに重なって上記各陽極と同方向に延
びる帯状である。また、本願発明においては、そのよう
な構成に代えて、上記各補助電極は、上記各陽極の幅方
向両側縁のそれぞれに重なって上記各陽極と同方向に延
びる一対の第１の帯状部と、これらの長手方向両端どう
しを繋ぐ一対の第２の帯状部とを有する中空形状とされ
ている構成とすることもできる。
【００２３】本願発明のその他の特徴および利点につい
ては、以下に行う発明の実施の形態の説明から、より明
らかになるであろう。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下、本願発明の好ましい実施の
形態について、図面を参照しつつ具体的に説明する。
【００２５】図１〜図４は、本願発明の一実施形態を示
している。図１によく表われているように、本実施形態
の有機ＥＬ表示パネルＡは、単純マトリクス方式であ
り、透明ガラスからなる基板１の上面上に、複数の陽極
２、複数の補助電極３、絶縁層４、複数の有機ＥＬ層
５、複数の陰極６、および複数の陰極セパレータ７が形
成された構成を有している。絶縁層４および陰極セパレ
ータ７は、いずれも本願発明でいう絶縁層の具体例に相
当する。
【００２６】複数の陽極２は、ＩＴＯ膜からなる透明電
極であり、一定方向に延びる帯状を有し、かつそれらの
幅方向に一定間隔で並んでいる。各補助電極３は、配線
抵抗を下げるために設けられたものであり、陽極２の全
体を覆ってしまわないように各陽極２の幅方向一側縁部
上に積層されている。各補助電極３は、基本的には、各
陽極２の長手方向に延びた形状を有しているが、図３に
示すように、各陰極セパレータ７の直下においては分断
部３９が形成され、各陰極セパレータ７の直下には各補
助電極３が存在しない構造となっている。各補助電極３
の材質は、たとえばクロムである。クロムは、ＩＴＯ膜
に対する密着性がよく、また耐食性にも優れる。ただ
し、これに代えて、アルミニウムなどの他の金属製とし
てもかまわない。
【００２７】絶縁層４は、図２によく表われているよう
に、互いに隣り合う陽極２どうしの間を仕切るととも
に、各補助電極３の全体と各陽極２の一部分とを覆って
いる。この絶縁層４は、後述するように、ポジ形のレジ
ストにより形成されており、各陽極２上に複数の開口部
４０を形成している。各開口部４０は、図４によく表わ
れているように、たとえば平面視矩形状である（同図に
おいては、有機ＥＬ層５および陰極６を省略しており、
網点模様が付された部分が絶縁層４である）。各補助電
極３は、各開口部４０の直下および各開口部４０の縁部
４０ａの直下を避けるように形成されている。より具体
的には、各補助電極３は、その上方近傍に位置する開口
部４０の縁部４０ａに対しては、各補助電極３の一側縁
が適当な寸法ｓ１だけ開口部４０とは反対寄りに位置す
るように設けられている。
【００２８】各有機ＥＬ層５は、陽極２および陰極６を
利用した通電がなされることにより発光を行なう発光層
（図示略）を備えたものであり、絶縁層４上に積層さ
れ、かつ陽極２と直交する方向に延びている。各有機Ｅ
Ｌ層５の一部は、絶縁層４の開口部４０に進入している
ことにより、陽極２と陰極６とによって直接挟まれた構
造となっており、この領域が発光領域となる。この領域
から発せられた光は、陽極２および基板１を透過して下
向きに進行することとなる。各陰極６は、たとえばアル
ミニウムからなり、各有機ＥＬ層５上に積層されて各有
機ＥＬ層５と同方向に延びている。
【００２９】各陰極セパレータ７は、互いに隣り合う陰
極６どうしの間を仕切り、それらの電気的な絶縁を図る
ためのものである。図１および図３によく表われている
ように、各陰極セパレータ７は、絶縁層４上に形成さ
れ、かつ陰極６および有機ＥＬ層５と同方向に延びてい
る。後述するように、この陰極セパレータ７は、ネガ形
のフォトレジストにより形成されたものである。
【００３０】次に、上記した構成の有機ＥＬ表示パネル
Ａの製造方法の一例およびその作用について説明する。
【００３１】有機ＥＬ表示パネルＡを製造するには、基
板１上に複数の陽極２および複数の補助電極３を形成し
た後に、絶縁層４を形成する。この絶縁層４の形成は、
ポジ形のフォトレジストを用いて、フォトリソグラフィ
の手法により行なう。より具体的には、図５（ａ）に示
すように、まず基板１上に複数の陽極２および複数の補
助電極３を覆うレジスト膜４Ａを形成してから、露光処
理を行なう。露光用のマスク８１は、絶縁層４として形
成すべき部分４’には光を照射させず、それ以外の部分
４９（網点模様を付した部分）に光を照射可能とするも
のである。
【００３２】上記の部分４’，４９どうしの境界部分
は、絶縁層４の開口部４０の縁部４０ａに相当する部分
であり、補助電極３はその部分の直下を避けるように設
けられているために、補助電極３が上記境界部分に向け
て多くの光を反射しないようにすることができる。その
一方、レジスト膜４Ａ内を光が進行するときにはその進
行に伴ってその光の強度は弱まる。このため、露光対象
となる部分４９の露光量は、レジスト膜４Ａの上面部分
が最大となって、下面に近づくほど少なくなり、レジス
ト膜４Ａのうちの非露光部分は、レジスト４Ａの裏面に
なるほど幅広となる。したがって、その後現像処理を行
ない、非露光部分を残存させることによってこの部分を
絶縁層４とすると、同図（ｂ）に示すように、開口部４
０の縁部４０ａは、開口部４０の開口幅が上側になるほ
ど大きくするようになだらかに傾斜した形状となる。
【００３３】絶縁層４が上記のように形成されると、次
に述べるように、この絶縁層４上に有機ＥＬ層５や陰極
６を形成するのに具合が良い。図７は、本願発明との対
比例を示している。同図において、本実施形態の要素に
対応する要素には、本実施形態と同一符号を付してい
る。この対比例においては、絶縁層４の縁部４０ａが、
陽極２の表面から垂直に近い角度で立ち上がっている。
このような構成においては、その後陽極２および絶縁層
４上に有機ＥＬ層５を形成する場合、陽極２の表面上の
縁部４０ａ付近の隅部ｎ１に有機ＥＬ層５を適切に形成
することが困難となり、その隅部ｎ１において、有機Ｅ
Ｌ層５の厚みが極端に薄くなるといった現象を生じ易
い。この有機ＥＬ層５上に陰極６を形成する場合につい
ても同様である。これでは、これら有機ＥＬ層５や陰極
６の耐圧性が劣ったものとなる。これに対し、本実施形
態においては、図６に示すように、絶縁層４の縁部４０
ａの傾斜がなだらかであるために、隅部ｎ１が広く開口
した形状となり、この部分にも有機ＥＬ層５や陰極６を
適切に形成することが可能である。
【００３４】絶縁層４の形成後には、陰極セパレータ７
を形成する。この陰極セパレータ７の形成は、既述した
従来技術と同様に、ネガ形のフォトレジストを用いてフ
ォトリソグラフィの手法により行なう。具体的には、図
８に示すように、絶縁層４上にレジスト膜７Ａを形成し
た後に露光を行なう。露光用マスク８２は、陰極セパレ
ータ７として形成する部分７’（同図の網点模様を付し
た部分）のみへの露光を可能とするものである。この露
光処理時には、上記の部分７’の下方まで光が進行する
虞れがあるものの、上記の部分７’の直下は補助電極３
の分断部３９である。このため、上記光が補助電極３に
よって強く上方に向けて散乱反射されることはない。し
たがって、レジスト膜７Ａの露光対象部分の露光量は、
レジスト膜７Ａの上面部が最大となって、下面に近づく
ほど少なくなる。したがって、その後現像処理を行なう
と、陰極セパレータ７は、既述した従来技術の場合とは
反対に、上部よりも下部の方が幅狭となる断面形状に形
成されることとなる。
【００３５】陰極セパレータ７が上記断面形状に形成さ
れると、図９に示すように、その後有機ＥＬ層５や陰極
６をたとえば蒸着により形成するときには、陰極セパレ
ータ７の両側面７０ｂ，７０ｃにそれらの成膜がなされ
ないこととなる。したがって、陰極セパレータ７を挟ん
で隣り合う陰極６間に電気的な短絡を生じ難くすること
が可能となる。
【００３６】図１０および図１１は、本願発明の他の実
施形態を示している。これらの図においては、上述の実
施形態と同一または類似の要素には、上述の実施形態と
同一の符号を付している。
【００３７】図１０に示す構成においては、複数の補助
電極３（同図（ｂ）のクロスハッチングが入れられた部
分であり、この点は図１１についても同様である）が、
各陽極２の幅方向両側縁部のそれぞれの上に積層して設
けられている。むろん、各補助電極３は、陰極セパレー
タ７の直下や絶縁層の開口部４０の縁部４０ａの直下を
避けるように設けられている。このような構成によれ
ば、各陽極２の幅方向の一側縁部上のみに補助電極を設
ける場合と比較すると、複数の補助電極３全体のボリュ
ームを大きくし、配線抵抗を小さくするのに好ましい。
【００３８】図１１に示す構成においては、各補助電極
３は略中空矩形状とされており、各陽極２の長手方向に
延びる一対の帯状部３０ａと、これら一対の帯状部３０
ａの長手方向両端どうしを繋ぐようにして各陽極２の幅
方向に延びる一対の帯状部３０ｂとを有している。この
ような構成によれば、補助電極３のボリュームを一層大
きくすることができるために、配線抵抗を図１０に示し
た構成よりもさらに小さくすることが可能となる。
【００３９】本願発明は、上述した実施形態の内容に限
定されない。本願発明に係る有機ＥＬ表示パネルの各部
の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。同様
に、本願発明に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法の各
工程の具体的な構成も変更自在である。
【００４０】本願発明においては、単純マトリクス方式
のものに限定されず、アクティブ・マトリクス方式のも
のにも適用することが可能である。アクティブ・マトリ
クス方式のものでは、マトリクス状に配列された複数の
電極が形成された基板上に複数本の信号線が形成される
が、この信号線は細幅であることにより、その電気抵抗
が比較的大きい。このため、金属製の補助電極を上記信
号線に導通接触させて設けることにより、それらをトー
タルした部分の電気抵抗を小さくすることが可能であ
り、このような構造を採用した有機ＥＬ表示パネルにお
いても、本願発明を適用することが可能である。
【００４１】本願発明でいう絶縁層は、上述した実施形
態の陰極セパレータ７や絶縁層４に相当する部分に限定
されない。上述の陰極セパレータ７は細幅であるため、
陰極セパレータ７の直下の全領域を避けるように補助電
極３を分断させているが、これとは異なり、たとえば絶
縁層が幅広状の場合には、この絶縁層の縁部の下方のみ
を避けるように補助電極を複数に分断させた構成として
もかまわない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本願発明に係る有機ＥＬ表示パネルの一実施形
態を示す要部断面斜視図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ断面図である。
【図３】図１のIII −III 断面図である。
【図４】図１の要部透視平面図である。
【図５】（ａ），（ｂ）は、図１に示す有機ＥＬ表示パ
ネルの絶縁層の形成工程の一例を示す要部断面図であ
る。
【図６】図１に示す有機ＥＬ表示パネルの要部拡大断面
図である。
【図７】本願発明との対比例を示す要部拡大断面図であ
る。
【図８】図１に示す有機ＥＬ表示パネルの陰極セパレー
タの形成工程の一例を示す要部断面図である。
【図９】本願発明における成膜工程例を示す要部拡大断
面図である。
【図１０】（ａ）は、本願発明の他の実施形態を示す要
部断面図であり、（ｂ）は、その透視平面図である。
【図１１】本願発明の他の実施形態を示す要部透視平面
図である。
【図１２】従来技術を示す要部断面図である。
【図１３】（ａ），（ｂ）は、従来技術における陰極セ
パレータの形成工程を示す断面図である。
【図１４】従来技術における成膜工程例を示す要部拡大
断面図である。
【符号の説明】
Ａ 有機ＥＬ表示パネル １ 基板 ２ 陽極 ３ 補助電極 ４ 絶縁層 ５ 有機ＥＬ層 ６ 陰極 ７ 陰極セパレータ（絶縁層） ４０ 開口部 ４０ａ 縁部（開口部の）

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板上に形成された金属製の補助電極
    と、この補助電極よりも上層位置において上記補助電極
    と交差する方向に延びる絶縁層と、を有する、有機ＥＬ
    表示パネルであって、 上記補助電極は、上記絶縁層の縁部の直下を避けるよう
    に複数に分断されていることを特徴とする、有機ＥＬ表
    示パネル。
  2. 【請求項２】 上記基板上に形成された透光性を有する
    複数の陽極と、これら複数の陽極上に形成された複数ず
    つの有機ＥＬ層および陰極と、を具備しており、かつ上
    記補助電極は、上記各陽極に導通接触している、請求項
    １に記載の有機ＥＬ表示パネル。
  3. 【請求項３】 上記絶縁層は、上記複数の陰極どうしの
    間に形成された陰極セパレータであり、上記補助電極
    は、上記陰極セパレータの直下において分断された形状
    とされている、請求項２に記載の有機ＥＬ表示パネル。
  4. 【請求項４】 上記陰極セパレータは、ネガ形レジスト
    からなる、請求項３に記載の有機ＥＬ表示パネル。
  5. 【請求項５】 基板上に金属製の補助電極を形成する工
    程と、 上記補助電極よりも上層位置に上記補助電極と交差する
    方向に延びる絶縁層を、レジストの露光・現像処理によ
    り形成する工程と、 を有する、有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、 上記補助電極を形成するときには、上記絶縁層の縁部が
    形成される箇所の直下を避けるように、上記補助電極を
    複数に分断した形状とすることを特徴とする、有機ＥＬ
    表示パネルの製造方法。
  6. 【請求項６】 基板上に形成された複数の陽極と、 これら複数の陽極に導通接触している金属製の複数の補
    助電極と、 上記各補助電極および上記各陽極の一部を覆い、かつ上
    記各陽極上において開口部を形成している絶縁層と、 上記絶縁層上に形成され、かつ上記複数の陽極に接触す
    るように上記開口部内に一部が進入している複数の有機
    ＥＬ層と、 これら複数の有機ＥＬ層上に積層された複数の陰極と、 を有する、有機ＥＬ表示パネルであって、 上記各補助電極は、上記開口部の縁部の直下を避けて形
    成されていることを特徴とする、有機ＥＬ表示パネル。
  7. 【請求項７】 上記絶縁層は、ポジ形レジストからな
    る、請求項６に記載の有機ＥＬ表示パネル。
  8. 【請求項８】 基板上に複数の陽極およびこれら複数の
    陽極に導通接触する金属製の複数の補助電極を形成する
    工程と、 上記各補助電極および上記各陽極の一部を覆い、かつ上
    記各陽極上において開口部を形成する絶縁層を、レジス
    トの露光・現像処理により形成する工程と、 上記絶縁層上に複数の有機ＥＬ層および複数の陰極を形
    成する工程と、 を有する、有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、 上記各補助電極の形成は、上記開口部の縁部の直下を避
    けるように行なうことを特徴とする、有機ＥＬ表示パネ
    ルの製造方法。
  9. 【請求項９】 基板上に形成され、かつ一定方向に延び
    る複数の陽極と、 これら複数の陽極に導通接触する金属製の複数の補助電
    極と、 上記各補助電極および上記陽極の一部を覆い、かつ上記
    各陽極上において開口部を形成している絶縁層と、 上記絶縁層上に形成され、かつ上記複数の陽極に接触す
    るように上記開口部内に一部が進入している複数の有機
    ＥＬ層と、 これら複数の有機ＥＬ層上に積層された複数の陰極どう
    しの間を仕切るように設けられ、かつ上記各陽極とは交
    差する方向に延びている複数の陰極セパレータと、 を有する、有機ＥＬ表示パネルであって、 上記各補助電極は、上記各陰極セパレータの直下および
    上記開口部の縁部の直下を避けて形成されていることを
    特徴とする、有機ＥＬ表示パネル。
  10. 【請求項１０】 上記各補助電極は、上記各陽極の幅方
    向一側縁または両側縁のそれぞれに重なって上記各陽極
    と同方向に延びる帯状である、請求項１〜４，６，７，
    ９のいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネル。
  11. 【請求項１１】 上記各補助電極は、上記各陽極の幅方
    向両側縁のそれぞれに重なって上記各陽極と同方向に延
    びる一対の第１の帯状部と、これらの長手方向両端どう
    しを繋ぐ一対の第２の帯状部とを有する中空形状とされ
    ている、請求項１〜４，６，７，９のいずれかに記載の
    有機ＥＬ表示パネル。
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