WO2011152496A1 - 照明装置 - Google Patents

照明装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2011152496A1
WO2011152496A1 PCT/JP2011/062715 JP2011062715W WO2011152496A1 WO 2011152496 A1 WO2011152496 A1 WO 2011152496A1 JP 2011062715 W JP2011062715 W JP 2011062715W WO 2011152496 A1 WO2011152496 A1 WO 2011152496A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
light emitting
electrode layer
luminance
spatial frequency
lighting device
Prior art date
Application number
PCT/JP2011/062715
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
敏嗣 山本
Original Assignee
コニカミノルタホールディングス株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by コニカミノルタホールディングス株式会社 filed Critical コニカミノルタホールディングス株式会社
Priority to US13/697,687 priority Critical patent/US9516705B2/en
Priority to JP2012518452A priority patent/JP5067518B2/ja
Priority to EP11789898.1A priority patent/EP2579683B1/en
Publication of WO2011152496A1 publication Critical patent/WO2011152496A1/ja

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B44/00—Circuit arrangements for operating electroluminescent light sources

Definitions

  • the present invention relates to an illumination device that performs surface light emission.
  • organic EL organic electroluminescence
  • surface light-emitting devices also referred to as surface light-emitting devices
  • This organic EL device has a structure in which two electrodes (an anode electrode and a cathode electrode) sandwich an organic light emitting layer, and the thickness of the organic light emitting layer is increased in a manufacturing process or the like as the area of the organic EL device is increased. Tends to be non-uniform. As a result, there is a possibility that the user may feel uneven light emission (also referred to as light emission unevenness) due to nonuniform brightness and the like of the organic EL device during light emission. Such light emission unevenness may also be caused by deterioration of the organic light emitting layer or the like according to the use conditions of the organic EL device.
  • the organic EL device sufficiently satisfies the function required for the lighting device if the luminance variation during light emission is within a predetermined range. However, if the user feels a certain amount of light emission unevenness due to fluctuations in luminance, the quality of the organic EL device as a lighting device is impaired.
  • Patent Document 1 a technique for forming an organic light emitting layer having a uniform film thickness has been proposed in order to prevent the occurrence of light emission unevenness.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an illumination device in which uneven light emission that a user can feel is suppressed.
  • a lighting device includes a power feeding unit, a surface light emitting unit having a light emitting surface that emits light according to a voltage applied by the power feeding unit and emits light in a planar shape, And the surface light emitting section generates spatially periodic luminance fluctuations having a substantially constant amplitude.
  • the illumination device according to the second aspect is the illumination device according to the first aspect, wherein the luminance variation has repeated increase / decrease of the luminance not less than 5 times and not more than 20 times per viewing angle. .
  • a lighting device is the lighting device according to the first or second aspect, wherein the luminance variation has a spatially periodic luminance variation having a substantially constant amplitude in the first direction. And a spatially periodic luminance variation having a substantially constant amplitude in a second direction different from the first direction.
  • a lighting device is the lighting device according to any one of the first to third aspects, wherein the luminance variation generated by the surface light emitting unit has a substantially constant amplitude. Is generated by superimposing the spatially periodic luminance fluctuations and the spatially periodic luminance fluctuations of the second spatial frequency different from the first spatial frequency having a substantially constant amplitude.
  • the illumination device is the illumination device according to the fourth aspect, wherein the luminance variation generated by the surface light emitting unit is a waveform of at least one of a triangular wave and a square wave having a substantially constant amplitude. Including spatially periodic luminance variations.
  • An illumination device is the illumination device according to any one of the first to fifth aspects, wherein the surface light emitting unit includes a first electrode layer, a second electrode layer, and the first electrode. A light emitting layer sandwiched between a layer and the second electrode layer, the light emitting layer having a spatially periodic thickness variation having a substantially constant amplitude.
  • the illumination device is the illumination device according to any one of the first to sixth aspects, wherein the surface light emitting unit includes a first electrode layer, a second electrode layer, and the first electrode.
  • the surface light emitting unit includes a first electrode layer, a second electrode layer, and the first electrode.
  • a plurality of light emitting units each having a light emitting layer sandwiched between a layer and the second electrode layer, wherein the light emitting units are arranged in parallel in at least one direction, and are adjacent to each other in the one direction among the plurality of light emitting units.
  • each pair of light emitting units a first end of the first electrode layer of one light emitting unit and a second end of the second electrode layer of the other light emitting unit are electrically connected, and the power feeding In each of the light emitting units, a voltage is applied between the first end portion of the first electrode layer and the second end portion of the second electrode layer in response to application of a voltage to the surface light emitting portion by the portion. And each light emitting unit is applied Oite, the one direction of the electric resistance in the first electrode layer is larger than the one direction of the electric resistance in the second electrode layer.
  • An illuminating device is the illuminating device according to any one of the first to seventh aspects, wherein the surface light emitting unit includes a first electrode layer, a second electrode layer, and the first electrode.
  • a light emitting layer sandwiched between a layer and the second electrode layer, and the power feeding unit includes a plurality of wirings that are electrically connected to the first electrode layer and are periodically provided in a spatial manner.
  • a voltage is applied between the first electrode layer and the second electrode layer by the plurality of wirings, and an electric resistance in a direction along the main surface of the first electrode layer is It is larger than the electric resistance in the direction along the main surface.
  • An illumination device is the illumination device according to any one of the first to eighth aspects, wherein the surface light emitting section is sequentially laminated on the transparent substrate.
  • a first electrode layer, a light emitting layer, and a second electrode layer are provided, and a spatially periodic pattern is provided on the transparent substrate.
  • An illumination device is the illumination device according to any one of the first to ninth aspects, wherein the surface light emitting unit is sequentially laminated on the transparent substrate.
  • a first electrode layer, a light emitting layer, and a second electrode layer are provided, and spatially periodic irregularities are provided on the transparent substrate.
  • the uneven emission of light that can be felt by the user can be suppressed due to the presence of spatially periodic luminance fluctuations having a substantially constant amplitude.
  • the light emission unevenness that the user can feel can be efficiently suppressed.
  • the illumination device According to any of the third to fifth aspects, the light emission unevenness that the user can feel can be further suppressed.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of a lighting device according to an embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration example of a surface light emitting unit according to an embodiment.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating a luminance variation in the surface light emitting unit according to the embodiment.
  • FIG. 4 is a diagram showing experimental conditions for obtaining the relationship between luminance variation and light emission unevenness.
  • FIG. 5 is a diagram showing experimental conditions for obtaining the relationship between luminance variation and light emission unevenness.
  • FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the spatial frequency and amplitude and the sensitivity in the luminance variation.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of a lighting device according to an embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration example of a surface light emitting unit according to an embodiment.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating a luminance variation in the surface light emitting unit according
  • FIG. 7 is a diagram showing experimental conditions for obtaining the influence of other luminance fluctuations on the sensitivity to a certain luminance fluctuation.
  • FIG. 8 is a diagram showing the influence of other luminance variations on the sensitivity to a certain luminance variation.
  • FIG. 9 is a diagram showing the relationship between the spatial frequency and the mask effect coefficient in the luminance variation.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating the relationship between the lower limit value of the amplitude and the spatial frequency in the variation in luminance where light emission unevenness is felt.
  • FIG. 11 is a diagram illustrating a relationship between the lower limit value of the amplitude of the luminance variation in which uneven light emission is felt and the amplitude of the luminance variation to be superimposed.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating the relationship between the lower limit value of the amplitude of the luminance variation in which uneven light emission is felt and the amplitude of the luminance variation to be superimposed.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of a surface light emitting unit according to a first modification.
  • FIG. 13 is a diagram illustrating a variation in luminance that occurs in the surface light emitting unit according to the first modification.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of a surface light emitting unit according to a second modification.
  • FIG. 15 is a plan view illustrating a configuration example of the power feeding unit according to the second modification.
  • FIG. 16 is a diagram illustrating a luminance variation that occurs in the surface light emitting unit according to the second modification.
  • FIG. 17 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of a surface light emitting unit according to a third modification.
  • FIG. 18 is a bottom view illustrating a configuration example of the surface light emitting unit according to the third modification.
  • FIG. 19 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of a surface light emitting unit according to a fourth modification.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of a lighting device 1 according to an embodiment.
  • a left-handed XYZ coordinate system in which a plane parallel to a portion (also referred to as a light emitting surface) that emits light in a planar shape in the illumination device 1 is an XY plane is attached.
  • a plane parallel to a portion also referred to as a light emitting surface
  • FIG. 2 is also provided with one or more axes corresponding to the three axes XYZ shown in FIG. 1 so that the azimuth relationship becomes clear as necessary.
  • the lighting device 1 includes a surface light emitting unit 10 and power feeding units 21 and 22.
  • the surface light emitting unit 10 includes a transparent substrate 11, a lower electrode layer 12, a light emitting layer 13, and an upper electrode layer 14.
  • the lower electrode layer 12, the light emitting layer 13, and the upper electrode layer 14 are stacked in this order on the transparent substrate 11 in this order.
  • the method of laminating the lower electrode layer 12, the light emitting layer 13, and the upper electrode layer 14 on the transparent substrate 11 may be any of a vapor deposition method, a sputtering method, and a coating method, for example.
  • the transparent substrate 11 is a flat substrate that transmits visible light, and is made of, for example, glass.
  • the lower electrode layer 12 is a layer that transmits visible light and has conductivity, and is made of, for example, indium tin oxide (ITO).
  • ITO indium tin oxide
  • the upper electrode layer 14 is a conductive layer, and is made of, for example, molybdenum or silver, and reflects light emitted from the light emitting layer 13.
  • the light emitting layer 13 is a layer that emits light when a voltage is applied between the lower electrode layer 12 and the upper electrode layer 14, and is made of, for example, a light emitting material such as a polymer material or a low molecular material.
  • a voltage is applied between the lower electrode layer 12 and the upper electrode layer 14
  • electrons are injected from one of the lower electrode layer 12 and the upper electrode layer 14 into the light emitting layer 13, and the other Holes are injected into the light emitting layer 13 from these electrodes.
  • light is emitted by combining electrons and holes in the light emitting layer 13.
  • the power feeding units 21 and 22 are made of a good conductor such as copper.
  • the power feeding unit 21 is electrically connected to the lower electrode layer 12, and the power feeding unit 22 is electrically connected to the upper electrode layer 14. Further, the power source 2 and the switch unit 3 are sequentially electrically connected between the power feeding unit 21 and the power feeding unit 22.
  • the switch unit 3 in a state where the switch unit 3 does not flow current (also referred to as an open state), the power source 2 and the power feeding unit 22 are not electrically connected, and the power source 2 connects the power feeding unit 21 and the power feeding unit 22. No voltage is applied to
  • the switch unit 3 when the switch unit 3 is in a state of flowing current (also referred to as a closed state), the power source 2 and the power feeding unit 22 are electrically connected, and the power source 2 causes a voltage between the power feeding unit 21 and the power feeding unit 22. Is applied.
  • the surface light emitting unit 10 emits light in the light emitting layer 13 according to the voltage applied from the power source 2 via the power feeding units 21 and 22.
  • the light emitted from the light emitting layer 13 sequentially passes through the lower electrode layer 12 and the transparent substrate 11 and is emitted to the outside of the transparent substrate 11 as indicated by a downward arrow AR1 in FIG. That is, light is emitted from one main surface (also referred to as a light emitting surface) of the planar transparent substrate 11, and as a result, the light emitting surface of the surface light emitting unit 10 emits light in a planar shape (here, planar).
  • the surface light emitting unit 10 for example, if the thickness of the light emitting layer 13 is not uniform, uneven brightness occurs on the light emitting surface, and the user may feel uneven light emission (also referred to as uneven light emission). Therefore, in the surface light emitting unit 10 according to the present embodiment, a structure capable of suppressing light emission unevenness felt by the user (also referred to as light emission unevenness suppressing structure) is employed.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration example of the surface light emitting unit 10 according to the embodiment.
  • the light emitting layer 13 sandwiched between the lower electrode layer 12 and the upper electrode layer 14 has a spatially periodic thickness variation with a substantially constant (preferably constant) amplitude.
  • the direction of the thickness of the light emitting layer 13 is a direction along the Z axis (also referred to as the Z axis direction)
  • the light emitting layer 13 is a direction along the X axis as one direction (also referred to as the X axis direction).
  • the substantially constant amplitude may be a predetermined ratio (for example, 40%) of the average value based on the average value of the thickness of the light emitting layer 13, for example.
  • the spatially periodic thickness variation may be any if the thickness changes as indicated by a sine wave in accordance with a change in position in the X-axis direction, for example.
  • the light-emitting layer 13 may have substantially the same thickness regardless of the position in the direction along the Y-axis (also referred to as the Y-axis direction). .
  • Such a variation in the thickness of the light emitting layer 13 is caused by, for example, the formation of the light emitting layer 13 by a vapor deposition method or a sputtering method using a metal mask having a shape corresponding to a spatial period in the variation in the thickness. Can be realized.
  • the light emitting layer 13 has a spatially periodic structure with a substantially constant amplitude. For this reason, when the surface light emitting unit 10 emits light, according to the periodic structure of the light emitting layer 13, the light emitting surface of the surface light emitting unit 10 is spatially periodic with a substantially constant (preferably constant) amplitude. Fluctuations in brightness occur.
  • FIG. 3 is a diagram exemplifying luminance fluctuations that occur on the light emitting surface of the surface light emitting unit 10.
  • the horizontal axis indicates the position in the X direction
  • the vertical axis indicates the luminance
  • the change in luminance that occurs on the light emitting surface with the change in the position in the X direction is indicated by a bold line.
  • luminance fluctuations are displayed on the screen of the display device 30, and by judging what luminance fluctuations the luminance fluctuations appear as luminance unevenness on the light emitting surface, The relationship between the change in luminance and the recognition of uneven light emission by humans was obtained.
  • the display device 30 has a liquid crystal display screen (appropriately abbreviated as a screen) in which a large number of pixels are arranged in a matrix, and is placed on the desk 20 so that the position and orientation are constant.
  • a liquid crystal display screen (appropriately abbreviated as a screen) in which a large number of pixels are arranged in a matrix, and is placed on the desk 20 so that the position and orientation are constant.
  • This screen is substantially planar with a rectangular outer edge having a width of 473 mm and a diagonal of 22 inches, and 1920 pixels are arranged in the horizontal direction and 1200 pixels are arranged in the vertical direction. It was what was done.
  • the observer 50 sits on the chair 40 so as to face the screen and maintains the state in which the back and the back of the head are in contact with the wall 60, so that the position and posture are kept constant. It was.
  • the line connecting the center of gravity of the eyes of both eyes of the viewer 50 and the horizontal direction of the screen are substantially parallel, and the midpoint of the line connecting the center of gravity of the eyes of both eyes of the viewer 50 and the center point 30ct of the screen.
  • the line connecting the lines approximately coincides with the normal line of the screen and has a length of 1500 mm.
  • the upper left pixel of the screen is the origin
  • the right direction of the screen is the x direction
  • the lower direction of the screen is the y direction.
  • a vertical stripe pattern (also referred to as a vertical stripe pattern) showing a variation in luminance that increases in spatial frequency as it goes in the x direction and decreases in amplitude as it goes in the y direction was displayed on the screen.
  • FIG. 5 shows that a region where the luminance shows a minimum value is indicated by a one-dot chain line, and a region where the luminance shows a maximum value is indicated by a broken line.
  • FIG. 5 shows that the vertical stripe pattern interval becomes narrower as it goes in the x direction, but the vertical stripe pattern is omitted for a portion where the vertical stripe pattern interval is too small to be shown. ing. Further, illustration of vertical stripe patterns which are not visible is also omitted.
  • the increase / decrease in luminance in the x direction is, for example, one represented by a sine wave (sine wave) that increases in spatial frequency (also referred to as spatial frequency) as it goes in the x direction.
  • the spatial frequency corresponds to the number of times the increase / decrease of the luminance is repeated at the viewing angle 1 ° of the observer 50, and the unit thereof is indicated by the number of cycles per 1 °, that is, cpd (cycles per degree).
  • the spatial frequency related to the vertical stripe pattern is a constant multiple of 10 ⁇ X
  • the amplitude related to the vertical stripe pattern is a constant multiple of 10 ⁇ y .
  • the observer 50 confirms the boundary between the area where the presence of the vertical stripe pattern is visible and the area where the vertical stripe pattern is not visible on the screen, and shows a line ( (Also referred to as a boundary line) was added on the screen.
  • this boundary line is shown by a thick curve, and this boundary line shows the relationship between the spatial frequency and the visible amplitude.
  • each sensitivity is divided by the maximum value of sensitivity (also referred to as maximum sensitivity).
  • Relative sensitivity also referred to as relative sensitivity
  • FIG. 6 the horizontal axis indicates the spatial frequency
  • the vertical axis indicates the relative sensitivity.
  • the sensitivity to luminance increase / decrease varies depending on the number of times the luminance increase / decrease is repeated (spatial frequency) at a viewing angle of 1 °. Specifically, it was found that the relative sensitivity showed a peak in the spatial frequency range of 2 to 6 cpd, and the sensitivity disappeared around 100 cpd. From another point of view, even if the luminance variation has the same amplitude, the luminance variation related to the intermediate spatial frequency (here, 2 to 100 cpd) is visually recognized, but the high frequency spatial frequency (100 cpd is reduced). It was found that the luminance fluctuations related to the above were not visually recognized.
  • FIG. 7 is a diagram showing experimental conditions for obtaining the influence of other luminance fluctuations on the sensitivity to a certain luminance fluctuation.
  • the same conditions as those shown in FIG. 4 were adopted for the display device 30 and the observer 50.
  • the luminance variation (also referred to as first luminance variation) shown in FIG. 5 is displayed on the screen of the display device 30, and the first luminance variation is further displayed.
  • different luminance variations also referred to as second luminance variations. Then, a relationship between the boundary of whether or not the observer 50 viewing the screen perceives the first luminance variation as luminance unevenness and the spatial frequency related to the second luminance variation was obtained.
  • the second luminance variation is a horizontal stripe pattern (indicating luminance variation represented by a sine wave having a predetermined amplitude and a predetermined spatial frequency, with the luminance increasing or decreasing in the y direction. Also called horizontal stripes).
  • the region where the luminance shows a minimum value in the first and second luminance fluctuations is indicated by a one-dot chain line, and the region where the luminance shows a maximum value is indicated by a broken line.
  • the vertical stripe pattern is omitted in the portion where the interval between the vertical stripe patterns is too small to be illustrated in the first luminance variation. Further, illustration of vertical stripe patterns which are not visible is also omitted.
  • ten types of 1, 2, 3, 5, 10, 20, 30, 50, 100, and 150 cpd were sequentially adopted as the spatial frequencies related to the horizontal stripe pattern.
  • a constant luminance amplitude is adopted regardless of the position in the x direction.
  • the amplitude of constant brightness 40 cd / m 2 to 100 cd / m 2 was determined as a center corresponding to gray was adopted. That is, the brightness of the horizontal stripe pattern was varied in the range of 80 to 120 cd / m 2 .
  • the viewer 50 confirms the boundary between the area where the vertical stripe pattern is visible and the area where the vertical stripe pattern is not visible on the screen.
  • a line indicating the boundary was added on the screen.
  • FIG. 7 an example of this boundary line is shown by a thick curve, and this boundary line shows the relationship between the spatial frequency and the visible amplitude.
  • the reciprocal of the minimum value of the amplitude visible for each spatial frequency of the vertical stripe pattern was obtained as the sensitivity.
  • relative sensitivity was obtained by normalization in which each sensitivity is divided by the maximum sensitivity value (also referred to as maximum sensitivity) when no horizontal stripe pattern is superimposed.
  • the relationship shown in FIG. 8 was obtained as the relationship between the spatial frequency and the relative sensitivity related to the vertical stripe pattern for each spatial frequency of the horizontal stripe pattern.
  • the horizontal axis represents the spatial frequency
  • the vertical axis represents the relative sensitivity.
  • the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the relative sensitivity when the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is 1 cpd is shown by “a combination of a black circle and a solid curve”, and the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is 2 cpd.
  • the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the relative sensitivity in the case of is shown by “combination of X mark and solid curve”.
  • the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is 3 cpd
  • the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the relative sensitivity is shown in “Combination of black triangle and solid curve”
  • the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is 5 cpd.
  • the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the relative sensitivity is indicated by “combination of black diamond and solid curve”.
  • the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the relative sensitivity when the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is 10 cpd is shown by “combination of black square mark and solid line curve”.
  • the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the relative sensitivity when the frequency is 20 cpd is indicated by “combination of white circles and thin line curves”.
  • the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is 30 cpd
  • the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the relative sensitivity is shown by “combination of cross mark and thin line curve”
  • the vertical stripe pattern of the horizontal stripe pattern when the spatial frequency is 50 cpd is indicated by “combination of white triangle and thin line curve”.
  • the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the relative sensitivity when the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is 100 cpd is shown by “combination of white diamond and thin line curve”.
  • the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the relative sensitivity when the frequency is 150 cpd is indicated by “a combination of a white square mark and a thin line curve”.
  • This mask effect is not only when the vertical stripe pattern and the horizontal stripe pattern, which are closely related to each other in spatial frequency, but also when the vertical stripe pattern and the horizontal stripe pattern, whose spatial frequencies are greatly different from each other, are superimposed. It turns out that it is obtained.
  • the luminance variation having the constant amplitude and the constant spatial frequency is recognized as the intentionally generated luminance variation and is not perceived by the viewer 50 as uneven light emission. . Therefore, in the lighting device 1, even when luminance unevenness occurs due to the uneven thickness of the light emitting layer 13 generated in the manufacturing process and usage conditions, it is intentional that the luminance unevenness is perceived as light emission unevenness. It can be seen that it can be suppressed by fluctuations in brightness.
  • FIG. 9 is a diagram showing the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern for each spatial frequency of the horizontal stripe pattern and the degree of the mask effect.
  • the horizontal axis represents the spatial frequency
  • the vertical axis represents the mask effect coefficient that is a numerical value indicating the degree of the mask effect.
  • the mask effect coefficient is the relative sensitivity of each spatial frequency related to the vertical stripe pattern when the horizontal stripe pattern is superimposed, and the corresponding spatial frequency of the vertical stripe pattern when the horizontal stripe pattern is not superimposed. It was derived by dividing by relative sensitivity.
  • FIG. 9 the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the mask effect coefficient when the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is 1 cpd is shown by “combination of black circle and solid curve”, and the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is The relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the mask effect coefficient in the case of 2 cpd is indicated by “combination of cross mark and solid curve”.
  • the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the mask effect coefficient when the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is 10 cpd is shown by “a combination of a black square mark and a solid line curve”.
  • the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the mask effect coefficient when the spatial frequency is 20 cpd is indicated by “combination of white circle and thin line curve”.
  • the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is 30 cpd
  • the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the mask effect coefficient is indicated by “combination of cross mark and thin line curve”
  • the vertical stripe pattern when the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is 50 cpd.
  • the relationship between the spatial frequency and the mask effect coefficient is indicated by “combination of white triangle and thin line curve”.
  • the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the mask effect coefficient when the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is 100 cpd is shown by “a combination of a white rhombus mark and a thin line curve”.
  • the relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the mask effect coefficient when the spatial frequency is 150 cpd is indicated by “combination of white square mark and thin line curve”.
  • the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is preferably included in the range of 5 to 20 cpd.
  • the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is included in the range of 10 to 20 cpd. More preferably, the spatial frequency of the horizontal stripe pattern is more preferably 20 cpd.
  • the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the observer can be determined from the experimental results regarding the relationship between the luminance fluctuation and the human recognition of the light emission unevenness described with reference to FIGS.
  • a relationship with the minimum value of the amplitude of the vertical stripe pattern where 50 is considered to be uneven light emission is obtained.
  • the minimum value of the amplitude of the vertical stripe pattern is also referred to as uneven JND (JusticeNoticeable Difference), and as a relationship between the spatial frequency of the vertical stripe pattern and the uneven JND, a relationship indicated by a bold curve in FIG. 10 is obtained. .
  • the horizontal axis indicates the spatial frequency of the vertical stripe pattern
  • the vertical axis indicates the amplitude of the vertical stripe pattern
  • the JND reference value of unevenness (here, 1) is set.
  • the JND of the unevenness is about 0.0017. there were.
  • the JND of the unevenness is about 0.0017.
  • the spatial frequency of the fluctuation of the luminance with the highest sensitivity of the human eye is 20 cpd and the amplitude is centered on the predetermined luminance with respect to the vertical stripe pattern. It was found that if a horizontal stripe pattern that is 0.4 times the predetermined luminance is superimposed, the mask effect coefficient is about 80 times and the JND of unevenness is about 80 times.
  • the intentionally generated luminance fluctuation has a spatial frequency of 20 cpd and the amplitude exceeds about 0.3 times the predetermined luminance that is the center of the amplitude. It is preferable that
  • the lighting device 1 is a table-top lighting device, generally, the user's eyes and the surface light emitting unit 10 are separated by about 40 to 100 cm. If the lighting device 1 is a lighting device provided on the ceiling, generally, the user's eyes and the surface light emitting unit 10 are separated by about 100 to 300 cm. For this reason, the number of changes in luminance per unit length in the surface emitting unit 10 (for example, the unit is cycle / cycle) so that the spatial frequency related to the luminance variation is 5 to 20 cpd depending on the application of the lighting device 1. cm) is preferably set.
  • the light emitting layer 13 sandwiched between the lower electrode layer 12 and the upper electrode layer 14 has a configuration having a spatially periodic thickness variation with a substantially constant amplitude, the substantially constant amplitude.
  • the spatially periodic luminance variation having a substantially constant amplitude is intentionally realized by the variation in the thickness of the light emitting layer 13, but is not limited thereto.
  • spatially periodic luminance fluctuations having a substantially constant amplitude may be realized intentionally by other configurations.
  • specific examples (first to fourth modifications) of other configurations will be described.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration example of the surface light emitting unit 10A of the lighting device 1A according to the first modification.
  • the surface light emitting unit 10A is based on the surface light emitting unit 10 according to the above embodiment, and the lower electrode layer 12, the light emitting layer 13, and the upper electrode layer 14 are composed of the lower electrode layer 12A, the light emitting layer 13A, and the upper electrode. It has been replaced with the layer 14A.
  • the lower electrode layer 12A includes a plurality of lower electrode layers (also referred to as divided lower electrode layers) in which the lower electrode layer 12 according to the embodiment is divided into n pieces (n is a natural number of 2 or more) at a predetermined interval. 12 a1 to 12 an are provided. The adjacent divided lower electrode layers 12 a1 to 12 an are separated from each other and are not electrically connected.
  • the light emitting layer 13A includes a plurality of light emitting layers (also referred to as divided light emitting layers) 13 a1 to 13 an having a form in which the light emitting layer 13 according to the above-described embodiment is divided at a predetermined interval.
  • the adjacent divided light emitting layers 13 a1 to 13 an are separated from each other.
  • the upper electrode layer 14A includes a plurality of upper electrode layers (also referred to as divided upper electrode layers) 14 a1 to 14 an having a form in which the upper electrode layer 14 according to the embodiment is divided at a predetermined interval.
  • the adjacent divided upper electrode layers 14 a1 to 14 an are separated from each other and are not electrically connected.
  • the divided lower electrode layer 12 a 1 , the divided light emitting layer 13 a 1, and the divided upper electrode layer 14 a 1 are laminated in this order to form one light-emitting portion (also referred to as a light emitting unit) 1 A 1 .
  • the divided lower electrode layer 12 aN , the divided light emitting layer 13 aN, and the divided upper electrode layer 14 aN are stacked in this order to form one light emitting unit 1A N. Is configured.
  • n pieces of light emitting units 1A 1 ⁇ 1A n one direction are sequentially arranged in Has the structure. Specifically, n light emitting units 1A 1 to 1A n are provided spatially and periodically along the X direction.
  • an arbitrary natural number of 1 to (n ⁇ 1) is M, among the light emitting units of each set adjacent to each other in the X direction among the n light emitting units 1A 1 to 1An.
  • one end (+ X side end) of the divided lower electrode layer 12 aM and one end ( ⁇ X side end) of the divided upper electrode layer 14 a (M + 1) in one light emitting unit are electrically connected. It is connected.
  • each divided upper electrode layer 14 aN includes a portion (also referred to as a plane array portion) arranged in a plane on one main surface (surface on the + Z side) of the divided light emitting layer 13 aN , and the ⁇ X side. 2 has a portion (also referred to as a hanging portion) that hangs down in the ⁇ Z direction from the planar arrangement portion.
  • the hanging portion of each divided upper electrode layer 14 a (M + 1) is electrically connected to one end portion of the divided lower electrode layer 12 aM as one end portion.
  • the power feeding unit 21 is electrically connected to one end (+ X side end) of the divided lower electrode layer 12 an
  • the power feeding unit 22 is connected to one end ( ⁇ X side end) of the divided upper electrode layer 14 a1.
  • the light-emitting units 1A N, the electrical resistance in one direction (here + X direction) in the divided lower electrode layer 12 aN is unidirectional in the divided upper electrode layer 14 aN (here, + X direction) than the electrical resistance of It is set to be large.
  • Such setting of the electrical resistance is realized, for example, by appropriately adjusting at least one of the thickness and the material in each divided upper electrode layer 14 aN and each divided lower electrode layer 12 aN .
  • the adjustment of the layer thickness can be realized by, for example, the film formation time in the vapor deposition method or the sputtering method, and the change of the material for forming the layer can be realized by changing the target material in the sputtering method, for example. is there.
  • the divided lower electrode sandwiching the divided light emitting layer 13aN in each light emitting unit 1A N.
  • a voltage is applied between the layer 12 aN and the divided upper electrode layer 14 aN .
  • the voltage applied between the divided lower electrode layer 12aN and the divided upper electrode layer 14aN is at one end due to the relatively high electric resistance in the divided lower electrode layer 12aN .
  • FIG. 13 is a diagram illustrating a variation in luminance that occurs on the light emitting surface of the surface light emitting unit 10A.
  • the horizontal axis indicates the position in the X direction
  • the vertical axis indicates the luminance
  • the variation in luminance that occurs on the light emitting surface with the change in the position in the X direction is indicated by a bold line.
  • the illumination device 1A according to the first modified example can also suppress the light emission unevenness that can be felt by the user with a relatively simple configuration, similarly to the illumination device 1 according to the above-described embodiment.
  • each light-emitting unit 1A N the electrical resistance in one direction (here + X direction) in the divided upper electrode layer 14 aN is unidirectional in the divided lower electrode layer 12 aN (here, + X direction) than the electrical resistance of Even if it is set to be large, the same effect can be obtained.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view schematically showing a configuration example of the surface light emitting unit 10B of the lighting device 1B according to the second modification.
  • the surface light emitting unit 10B is based on the surface light emitting unit 10 according to the above-described embodiment, and the lower electrode layer 12, the light emitting layer 13, the upper electrode layer 14, and the power feeding unit 21 include the lower electrode layer 12B, the light emitting layer 13B, The upper electrode layer 14B and the power feeding unit 21B are replaced.
  • the power feeding unit 21B is provided in a layered manner on the other main surface (here, the surface on the + Z side) of the transparent substrate 11.
  • FIG. 15 is a plan view schematically showing a configuration example of the power feeding unit 21B.
  • the power feeding unit 21B includes two main wirings 211B and 212B and n (n is a natural number of 2 or more) sub wirings 21 b1 to 21 bn .
  • the two main wirings 211B and 212B extend along the X direction and are spaced apart in the Y direction.
  • the first and second outer edges opposite to each other the main outer edge along the first outer edge in the vicinity of the first outer edge.
  • the wiring 211B extends, and the main wiring 212B extends along the second outer edge in the vicinity of the second outer edge.
  • n sub-wirings 21 b1 to 21 bn extend from the main wiring 211B to the main wiring 212B along the Y direction and are sequentially arranged with a predetermined separation distance from each other. Yes. Specifically, n sub-wirings 21 b1 to 21 bn are periodically and spatially provided in the X direction. The n sub-wirings 21 b1 to 21 bn are electrically connected to the power supply 2 via the two main wirings 211B and 212B.
  • Such a power supply unit 21B can be formed by, for example, a vapor deposition method using a metal mask or a sputtering method.
  • the material constituting the power supply unit 21B may be a transparent material such as ITO, or a good conductor such as copper. However, it is preferable that the material constituting the power feeding portion 21B has a lower electrical resistivity than the material constituting the lower electrode layer 12B.
  • the lower electrode layer 12B has n sub-layers with respect to the other main surface of the transparent substrate 11 provided with the power feeding portion 21B on the other main surface (here, the surface on the + Z side). It is formed substantially flat so as to cover the wirings 21 b1 to 21 bn . As a result, the n sub-wirings 21 b1 to 21 bn are electrically connected to the lower electrode layer 12B. When a voltage is applied between the power feeding units 21 and 22, a voltage is applied between the lower electrode layer 12B and the upper electrode layer 14B by the n sub-wirings 21 b1 to 21 bn .
  • the electric resistance in one direction (here, + X direction) in the lower electrode layer 12B is set to be larger than the electric resistance in one direction (here, + X direction) in the upper electrode layer 14B.
  • Such setting of the electrical resistance is realized, for example, by appropriately adjusting at least one of the thickness and the material in the upper electrode layer 14B and the lower electrode layer 12B.
  • the adjustment of the layer thickness can be realized by, for example, the film formation time in the vapor deposition method or the sputtering method, and the change of the material for forming the layer can be realized by changing the target material in the sputtering method, for example. is there.
  • the light emitting layer 13B is formed with a substantially uniform thickness on the lower electrode layer 12B.
  • the upper electrode layer 14B is formed with a substantially uniform thickness on the light emitting layer 13B.
  • the lighting device 1B when a voltage is applied between the power feeding unit 21B and the power feeding unit 22, a voltage is applied between the lower electrode layer 12B and the upper electrode layer 14B.
  • the voltage applied between the lower electrode layer 12B and the upper electrode layer 14B is separated as the distance from the sub-wirings 21 b1 to 21 bn increases due to the relatively high electrical resistance in the lower electrode layer 12B. descend.
  • FIG. 16 is a diagram illustrating a variation in luminance that occurs on the light emitting surface of the surface light emitting unit 10B.
  • the horizontal axis indicates the position in the X direction
  • the vertical axis indicates the brightness
  • the change in brightness that occurs on the light emitting surface with the change in the position in the X direction is indicated by a bold line. If the n sub-wirings 21 b1 to 21 bn are not transparent, the luminance is reduced due to light shielding due to the presence of the n sub-wirings 21 b1 to 21 bn . In FIG. The drop in is omitted. Even if such a decrease in luminance occurs, a spatially periodic luminance variation having a substantially constant amplitude occurs on the light emitting surface of the surface light emitting unit 10B.
  • the light emission unevenness that can be felt by the user can be suppressed with a relatively simple configuration, similarly to the lighting device 1 according to the embodiment.
  • the power supply unit 22 has the same shape as the power supply unit 21B and is electrically connected to the upper electrode layer 14B, and is in one direction (here, the + X direction) in the upper electrode layer 14B. ) Is set to be larger than the electric resistance in one direction (here, + X direction) in the lower electrode layer 12B, the same effect can be obtained.
  • FIG. 17 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration example of the surface light emitting unit 10C of the lighting device 1C according to the third modification.
  • the surface light emitting unit 10C is based on the surface light emitting unit 10 according to the above embodiment, the light emitting layer 13 and the upper electrode layer 14 are replaced with the light emitting layer 13C and the upper electrode layer 14C, and the pattern portion 15C is further formed. It is provided.
  • the light emitting layer 13C is formed on the lower electrode layer 12 with a substantially uniform thickness.
  • the upper electrode layer 14C is formed with a substantially uniform thickness on the light emitting layer 13C.
  • FIG. 18 is a bottom view schematically showing a configuration example of the pattern portion 15C.
  • n linear patterns 15 c1 to 15 cn along the Y direction are sequentially provided in the X direction on one main surface (here, the ⁇ Z side surface) of the transparent substrate 11. It has a structure.
  • n linear patterns 15 c1 to 15 cn along another direction (here, the Y direction) substantially orthogonal to one direction (here, the X direction) are aligned in one direction (X direction). It is provided periodically along the space.
  • Such a pattern portion 15C may be, for example, a ground glass-like portion formed by etching one main surface of the transparent substrate 11, a concave portion, or a convex shape. May be part.
  • the pattern portion 15C may be a transparent film having n patterns 15 c1 to 15 cn with respect to one main surface of the transparent substrate 11.
  • the portions of the n patterns 15 c1 to 15 cn transmit light in a predetermined direction (for example, the normal direction of the film) and the other portions so that no light loss occurs. Can transmit light traveling in various directions.
  • This variation in luminance is, for example, an increase or decrease in at least one of a continuous luminance increase / decrease, a discrete linear luminance increase / decrease, and a discrete dot luminance increase / decrease, or a combination thereof. I need it.
  • the light emission unevenness that can be felt by the user can be suppressed with a relatively simple configuration, similarly to the lighting device 1 according to the embodiment.
  • FIG. 19 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration example of the surface light emitting unit 10D of the illumination device 1D according to the fourth modification.
  • the surface light emitting unit 10D is based on the surface light emitting unit 10 according to the above embodiment, and the transparent substrate 11, the light emitting layer 13, and the upper electrode layer 14 are formed on the transparent substrate 11D, the light emitting layer 13D, and the upper electrode layer 14D. Has been replaced.
  • the light emitting layer 13D is formed on the lower electrode layer 12 with a substantially uniform thickness.
  • the upper electrode layer 14D is formed on the light emitting layer 13D with a substantially uniform thickness.
  • the transparent substrate 11D has a substantially flat plate shape, but has a substantially flat other main surface (+ Z side surface) and one main surface provided with spatially periodic irregularities having a substantially constant amplitude ( -Z side surface).
  • the transparent substrate 11D has a structure in which n concave portions 11 d1 to 11 dn that are linear along the Y direction are sequentially provided on one main surface of the transparent substrate 11 in the X direction. .
  • n concave portions 11 d1 to 11 dn that are linear along the other direction (here, the Y direction) substantially orthogonal to one direction (here, the X direction) are arranged in one direction (the X direction). It is provided periodically along the space.
  • the transparent substrate 11D Due to the unevenness provided on the transparent substrate 11D, when the light generated in the light emitting layer 13D passes through the transparent substrate 11D, as shown by the black arrows in FIG. 19, one main surface of the transparent substrate 11D. Concentration and diffusion of light due to refraction at the ( ⁇ Z side surface) occurs. As a result, when the surface light emitting unit 10D emits light, a spatially periodic luminance variation having a substantially constant amplitude occurs on the light emitting surface of the surface light emitting unit 10D.
  • the illumination device 1D according to the fourth modified example can also suppress light emission unevenness that can be felt by the user with a relatively simple configuration, similarly to the illumination device 1 according to the embodiment.
  • the luminance fluctuation is generated by superimposing the luminance fluctuations related to different spatial frequencies.
  • a spatially periodic luminance variation of the first spatial frequency having a substantially constant amplitude and a second spatial frequency different from the first spatial frequency having a substantially constant amplitude It is preferable to realize a luminance variation generated by superimposing a periodic luminance variation. Further, there may be three or more types of luminance variations to be superimposed.
  • spatial frequencies different from each other related to the luminance fluctuation to be superimposed have an integer multiple relationship.
  • Such spatially periodic luminance fluctuation is applied, for example, to at least one of a triangular wave and a square wave including a plurality of wave components having a spatial frequency relationship of an integral multiple. This is possible.
  • the intentional generation of the luminance variation in which the luminance variation related to different spatial frequencies is superimposed is achieved by, for example, appropriately adjusting the configuration according to the one embodiment and the first to fourth modifications. It is feasible. Specifically, adjustment of the thickness of the light emitting layer 13 according to the above embodiment, the arrangement of the plurality of light emitting units 1A 1 ⁇ 1A n according to the first modification adjustment, a plurality of the above-described second modification At least one method of adjusting the arrangement state of the sub-wirings 21 b1 to 21 bn , adjusting the pattern according to the third modified example, and adjusting the unevenness of the transparent substrate 11D according to the fourth modified example, or two or more methods It can be realized by a combination of methods.
  • the present invention is not limited to this.
  • a luminance variation in which a spatially periodic luminance variation having a substantially constant amplitude in two or more different directions is superimposed occurs.
  • a spatially periodic luminance variation having a substantially constant amplitude in the first direction and a spatially periodic having a substantially constant amplitude in a second direction different from the first direction is preferable. It is preferable that the luminance variation generated by superimposing the luminance variation is realized.
  • the angle formed by the first direction and the second direction may be any angle exceeding 0 ° and not more than 90 °.
  • the spatially periodic brightness having a substantially constant amplitude in the same direction as the certain direction. It is preferable that variations occur. Therefore, if the first direction and the second direction are substantially orthogonal, light emission unevenness can be more efficiently suppressed regardless of the direction in which the brightness unevenness occurs. Further, there may be three or more types of luminance variations to be superimposed.
  • the intentional generation of the luminance variation in which the luminance variations in two or more different directions are superimposed is, for example, that the configurations according to the one embodiment and the first to fourth modifications are appropriately adjusted.
  • adjustment of the thickness of the light emitting layer 13 according to the above embodiment, the arrangement of the plurality of light emitting units 1A 1 ⁇ 1A n according to the first modification adjustment, a plurality of the above-described second modification At least one method of adjusting the arrangement state of the sub-wirings 21 b1 to 21 bn , adjusting the pattern according to the third modified example, and adjusting the unevenness of the transparent substrate 11D according to the fourth modified example, or two or more methods It can be realized by a combination of methods.
  • the surface light emitting units 10 and 10A to 10D have a substantially planar shape, but are not limited to this, and various surface shapes such as a curved surface shape are available. It may have a surface shape.
  • the increase / decrease in luminance is adopted as the luminance variation intentionally generated, but this is not restrictive.
  • a light shielding portion having a spatially periodic arrangement for shielding light is provided on the optical path from the light generated in the light emitting layers 13, 13A to 13D to the light emitted from the transparent substrates 11, 11D.
  • the luminance may be varied.
  • the light-shielding portion having a spatially periodic arrangement is made of, for example, an insulator that does not transmit visible light by vapor deposition using a metal mask, sputtering, or the like from the light-emitting layers 13, 13A to 13D to the transparent substrate 11, It is realizable by the method formed in the arbitrary parts to 11D one main surface.
  • the technical idea of the present invention can be applied to general lighting devices that emit surface light.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

　ユーザーが感じ得る発光ムラが抑制された照明装置を提供することを図る。この目的を達成するために、給電部と、該給電部によって印加される電圧に応じて発光し且つ面状に発光する発光面を有する面発光部と、を備え、該面発光部が、略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動を生じるようにした照明装置を採用する。

Description

照明装置
　本発明は、面発光を行う照明装置に関する。
　近年、電力の消費量が少ない面発光を行うデバイス（面発光デバイスとも言う）として、有機ＥＬ(organic electroluminescence)を利用した発光デバイス（有機ＥＬデバイスとも言う）が注目されており、照明装置等への応用が進められている。
　この有機ＥＬデバイスは、２つの電極（アノード電極とカソード電極）が有機発光層を挟む構造を有しており、有機ＥＬデバイスの大面積化に伴って、製造工程等において有機発光層の厚さが不均一になり易い傾向にある。そして、その結果、有機ＥＬデバイスの発光時における輝度等が均一でないことに起因して、ユーザーが発光のムラ（発光ムラとも言う）を感じる虞がある。このような発光ムラは、有機ＥＬデバイスの使用条件に応じた有機発光層等の劣化によっても生じ得る。
　ここで、有機ＥＬデバイスは、発光時における輝度の変動が所定の範囲内に収まっていれば、照明装置に要求される機能を十分満たす。但し、輝度の変動に因ってユーザーがある程度の発光ムラを感じれば、有機ＥＬデバイスの照明装置としての品位が損なわれる。
　このため、発光ムラの発生を防ぐために、均一な膜厚の有機発光層を形成するための技術が提案されている（例えば、特許文献１等）。
特開２００９－２４５７７７号公報
　しかしながら、特許文献１の技術によっても、有機ＥＬデバイスの大面積化が指向される中で、有機発光層の膜厚のばらつきが完全には抑制され得ず、ユーザーに発光ムラを感じさせ得る。このような問題は、有機ＥＬデバイスに限られず、面発光を行う照明装置一般に共通する。
　本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、ユーザーが感じ得る発光ムラが抑制された照明装置を提供することを目的とする。
　上記課題を解決するために、第１の態様に係る照明装置は、給電部と、前記給電部によって印加される電圧に応じて発光し且つ面状に発光する発光面を有する面発光部と、を備え、前記面発光部が、略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動を生じる。
　第２の態様に係る照明装置は、第１の態様に係る照明装置であって、前記輝度の変動が、視野角１度あたりに５回以上で且つ２０回以下の輝度の増減の繰り返しを有する。
　第３の態様に係る照明装置は、第１または第２の態様に係る照明装置であって、前記輝度の変動が、第１方向における略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動と、前記第１方向とは異なる第２方向における略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動と、が重畳することで生じる。
　第４の態様に係る照明装置は、第１から第３の何れか１つの態様に係る照明装置であって、前記面発光部が生じる輝度の変動が、略一定の振幅を有する第１空間周波数の空間的に周期的な輝度の変動と、略一定の振幅を有する前記第１空間周波数とは異なる第２空間周波数の空間的に周期的な輝度の変動と、が重畳することで生じる。
　第５の態様に係る照明装置は、第４の態様に係る照明装置であって、前記面発光部が生じる輝度の変動が、略一定の振幅を有する三角波および方形波のうちの少なくとも一方の波形に係る空間的に周期的な輝度の変動を含む。
　第６の態様に係る照明装置は、第１から第５の何れか１つの態様に係る照明装置であって、前記面発光部が、第１電極層、第２電極層、および前記第１電極層と前記第２電極層とに挟まれた発光層を有し、前記発光層が、略一定の振幅を有する空間的に周期的な厚さの変動を有している。
　第７の態様に係る照明装置は、第１から第６の何れか１つの態様に係る照明装置であって、前記面発光部が、第１電極層、第２電極層、および前記第１電極層と前記第２電極層とに挟まれた発光層、をそれぞれ有する複数の発光ユニットが少なくとも一方向に並列配置された構造を備え、前記複数の発光ユニットのうちの前記一方向に隣接し合う各組の発光ユニットの間で、一方の発光ユニットの前記第１電極層における第１一端部と他方の発光ユニットの前記第２電極層における第２一端部とが電気的に接続され、前記給電部による前記面発光部に対する電圧の印加に応じて、各前記発光ユニットにおいて、前記第１電極層の前記第１一端部と、前記第２電極層の前記第２一端部との間に電圧が印加されるとともに、各前記発光ユニットにおいて、前記第１電極層における前記一方向の電気抵抗が、前記第２電極層における前記一方向の電気抵抗よりも大きい。
　第８の態様に係る照明装置は、第１から第７の何れか１つの態様に係る照明装置であって、前記面発光部が、第１電極層、第２電極層、および前記第１電極層と前記第２電極層とに挟まれた発光層を有し、前記給電部が、前記第１電極層に対して電気的に接続され且つ空間的に周期的に設けられる複数の配線を有するともに、前記複数の配線によって前記第１電極層と前記第２電極層との間に電圧を印加し、前記第１電極層の主面に沿った方向における電気抵抗が、前記第２電極層の主面に沿った方向における電気抵抗よりも大きい。
　第９の態様に係る照明装置は、第１から第８の何れか１つの態様に係る照明装置であって、前記面発光部が、透明基板と、該透明基板上に順次に積層されている第１電極層と、発光層と、第２電極層とを有し、前記透明基板に対して、空間的に周期的な模様が設けられている。
　第１０の態様に係る照明装置は、第１から第９の何れか１つの態様に係る照明装置であって、前記面発光部が、透明基板と、該透明基板上に順次に積層されている第１電極層と、発光層と、第２電極層とを有し、前記透明基板に対して、空間的に周期的な凹凸が設けられている。
　第１から第１０の何れの態様に係る照明装置によっても、略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動が存在することで、ユーザーが感じ得る発光ムラが抑制され得る。
　第２の態様に係る照明装置によれば、ユーザーが感じ得る発光ムラが効率良く抑制され得る。
　第３から第５の何れの態様に係る照明装置によっても、ユーザーが感じ得る発光ムラが更に抑制され得る。
　第６から第１０の何れの態様に係る照明装置によっても、比較的簡易な構成によってユーザーが感じ得る発光ムラが抑制され得る。
図１は、一実施形態に係る照明装置の概略的な構成を示す模式図である。 図２は、一実施形態に係る面発光部の構成例を模式的に示す断面図である。 図３は、一実施形態に係る面発光部における輝度の変動を示す図である。 図４は、輝度の変動と発光ムラとの関係を得るための実験条件を示す図である。 図５は、輝度の変動と発光ムラとの関係を得るための実験条件を示す図である。 図６は、輝度の変動における空間周波数および振幅と感度との関係を示す図である。 図７は、ある輝度の変動に対する感度に他の輝度の変動が及ぼす影響を得るための実験条件を示す図である。 図８は、ある輝度の変動に対する感度に他の輝度の変動が及ぼす影響を示す図である。 図９は、輝度の変動における空間周波数とマスク効果係数との関係を示す図である。 図１０は、発光ムラが感じられる輝度の変動における振幅の下限値と空間周波数との関係を示す図である。 図１１は、発光ムラが感じられる輝度の変動における振幅の下限値と重畳される輝度の変動の振幅との関係を示す図である。 図１２は、第１変形例に係る面発光部の構成例を示す断面図である。 図１３は、第１変形例に係る面発光部で生じる輝度の変動を示す図である。 図１４は、第２変形例に係る面発光部の構成例を示す断面図である。 図１５は、第２変形例に係る給電部の構成例を示す平面図である。 図１６は、第２変形例に係る面発光部で生じる輝度の変動を示す図である。 図１７は、第３変形例に係る面発光部の構成例を示す断面図である。 図１８は、第３変形例に係る面発光部の構成例を示す下面図である。 図１９は、第４変形例に係る面発光部の構成例を示す断面図である。
　以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。なお、図面においては同様な構成および機能を有する部分については同じ符号が付されており、下記説明では重複説明が省略される。また、図面は模式的に示されたものであり、各図における各種構造の寸法、形状、および位置関係等は正確に図示されたものではない。
　＜(１)照明装置の概略構成＞
　図１は、一実施形態に係る照明装置１の概略的な構成を示す模式図である。図１には、照明装置１において面状に発光する部分（発光面とも言う）に平行な面をＸＹ平面とする左手系のＸＹＺ座標系が付されている。図２以降の各図にも、必要に応じて、方位関係が明確となるように、図１に付されたＸＹＺの３軸に対応する１以上の軸が付されている。
　照明装置１は、面発光部１０と、給電部２１，２２とを備える。
　面発光部１０は、透明基板１１、下部電極層１２、発光層１３、および上部電極層１４を備える。そして、面発光部１０では、透明基板１１上に、下部電極層１２と、発光層１３と、上部電極層１４とが、この順番で空間順次に積層されている。透明基板１１上に、下部電極層１２と、発光層１３と、上部電極層１４とが積層される方法は、例えば、蒸着法、スパッタリング法、および塗布法の何れであっても良い。
　なお、実際には、例えば、下部電極層１２と発光層１３との間、および発光層１３と上部電極層１４との間に、電子輸送層および正孔輸送層等のその他の層が適宜介在している。但し、本実施形態では、説明および図示の簡略化のために、これらの層の存在が省略されている。
　透明基板１１は、可視光線を透過させる平板状の基板であり、例えば、ガラス等によって構成されている。
　下部電極層１２は、可視光線を透過させ且つ導電性を有する層であり、例えば、酸化インジウムスズ(ITO：Indium Tin Oxide)等によって構成されている。
　上部電極層１４は、導電性を有する層であり、例えば、モリブデンや銀等によって構成され、発光層１３で発せられる光を反射する。
　発光層１３は、下部電極層１２と上部電極層１４との間に電圧が印加されることで発光する層であり、例えば、高分子材料または低分子材料等の発光材料によって構成されている。ここでは、下部電極層１２と上部電極層１４との間に電圧が印加されると、下部電極層１２および上部電極層１４のうちの一方の電極から電子が発光層１３に注入されるとともに他方の電極から正孔が発光層１３に注入される。このとき、発光層１３で電子と正孔とが結合することで光が発せられる。
　給電部２１，２２は、銅等といった良導体によって構成されている。そして、給電部２１は、下部電極層１２に対して電気的に接続され、給電部２２は、上部電極層１４に対して電気的に接続されている。また、給電部２１と給電部２２との間には、電源２とスイッチ部３とが順次に電気的に接続されている。
　例えば、スイッチ部３が電流を流さない状態（開状態とも言う）の場合には、電源２と給電部２２とが電気的に接続されず、電源２によって給電部２１と給電部２２との間に電圧が印加されない。一方、スイッチ部３が電流を流す状態（閉状態とも言う）の場合には、電源２と給電部２２とが電気的に接続され、電源２によって給電部２１と給電部２２との間に電圧が印加される。
　このため、面発光部１０は、電源２から給電部２１，２２を介して印加される電圧に応じて発光層１３において光を発する。発光層１３で発する光は、図１の下向きの矢印ＡＲ１で示されるように、下部電極層１２および透明基板１１を順次に透過して透明基板１１の外部に射出される。つまり、平面状の透明基板１１の一主面（発光面とも言う）から光が発せられ、その結果、面発光部１０の発光面が面状（ここでは平面状）に発光する。
　ところで、面発光部１０では、例えば、発光層１３の厚さが不均一となれば、発光面で輝度のムラが生じ、ユーザーが発光のムラ（発光ムラとも言う）を感じる虞がある。そこで、本実施形態に係る面発光部１０では、ユーザーが感じる発光ムラを抑制可能な構造（発光ムラ抑制構造とも言う）が採用されている。
　＜(２)発光ムラ抑制構造＞
　図２は、一実施形態に係る面発光部１０の構成例を模式的に示す断面図である。
　下部電極層１２と上部電極層１４とに挟まれた発光層１３は、略一定（好ましくは一定）の振幅の空間的に周期的な厚さの変動を有する。
　例えば、発光層１３の厚さの方向がＺ軸に沿った方向（Ｚ軸方向とも言う）であれば、発光層１３は、一方向としてのＸ軸に沿った方向（Ｘ軸方向とも言う）において、略一定の振幅の空間的に周期的な厚さの変動を有する。
　ここで、略一定の振幅は、例えば、発光層１３の厚さの平均値を基準とした該平均値の所定割合（例えば、４割）であれば良い。また、空間的に周期的な厚さの変動は、例えば、Ｘ軸方向における位置の変化に応じて正弦波で示されるように厚さが変化するものであれば良い。更に、例えば、Ｘ軸方向における位置が同一であれば、Ｙ軸に沿った方向（Ｙ軸方向とも言う）の位置に拘わらず、発光層１３が略同一の厚さを有していれば良い。
　このような発光層１３の厚さの変動は、例えば、該厚さの変動における空間的な周期に応じた形状を有する金属マスクを用いた蒸着法またはスパッタリング法によって発光層１３が形成されることで、実現され得る。
　上述されたように、発光層１３が、略一定の振幅の空間的に周期的な構造を有する。このため、面発光部１０が発光する際に、発光層１３の周期的な構造に応じて、面発光部１０の発光面において、略一定（好ましくは一定）の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動が生じる。
　図３は、面発光部１０の発光面で生じる輝度の変動を例示する図である。図３では、横軸がＸ方向の位置を示し、縦軸が輝度を示し、Ｘ方向の位置の変化に伴って発光面で生じる輝度の変動が太線で示されている。
　次に、このような発光面における空間的に周期的な輝度の変動によって、発光ムラが抑制される原理および発光ムラの抑制に好適な条件について説明する。
　＜(３)発光ムラの抑制原理および好適な条件＞
　以下では、(３－１)発光面における輝度の変動と人による発光ムラとしての認識との関係、および(３－２)他の輝度の変動による発光ムラの抑制とその抑制に好適な条件、について順次に説明する。
　　＜(３－１)輝度の変動と人による発光ムラとしての認識との関係＞
　図４および図５は、輝度の変動と発光ムラとの関係を得るための実験の条件を示す図である。
　図４で示されるように、表示装置３０の画面上に輝度の変動が表示され、その画面を見た観察者５０が如何なる輝度の変動を輝度ムラとして感じるかを判断することによって、発光面における輝度の変動と人による発光ムラとしての認識との関係が得られた。
　ここで、表示装置３０は、多数の画素がマトリックス状に配列された液晶表示画面（適宜、画面と略称する）を有し、机２０の上に載置されることで、位置および姿勢が一定に固定された。この画面は、４７３ｍｍの横幅と２２インチの対角線とを有する長方形の外縁を備えた略平面状のものであるとともに、横方向に１９２０個の画素が配列され、縦方向に１２００個の画素が配列されたものであった。
　また、実験中は、観察者５０は、画面に対して正対するように椅子４０に座り且つ壁６０に背中と後頭部とを接触させた状態を維持することで、位置および姿勢が一定に保持された。そして、観察者５０の両眼の瞳の重心を結ぶ線と画面の横方向とが略平行であり、観察者５０の両眼の瞳の重心を結ぶ線の中点と画面の中心点３０ｃｔとを結ぶ線が、画面の法線と略一致し且つ１５００ｍｍの長さを有していた。
　また、図５で示されるように、画面の左上の画素が原点、画面の右方向がｘ方向、画面の下方向がｙ方向とされた。そして、ｘ方向に行けば行くほど空間的な周波数が高くなり且つｙ方向に行けば行くほど振幅が小さくなる輝度の変動を示す縦縞のパターン（縦縞模様とも言う）が画面上に表示された。
　なお、図５では、輝度が極小値を示す領域が一点鎖線で示され、輝度が極大値を示す領域が破線で示されている。また、図５では、ｘ方向に行けば行くほど縦縞模様の間隔が狭くなる様子が示されているが、縦縞模様の間隔が図示出来ないほど狭くなっている部分については、縦縞模様が省略されている。更に、視認不可能な縦縞模様も図示が省略されている。
　ｘ方向における輝度の増減は、例えば、ｘ方向に行けば行くほど空間的な周波数（空間周波数とも言う）が高くなる正弦波（サイン波）で表されるものが採用された。空間周波数は、観察者５０の視野角１°において輝度の増減が繰り返される回数に相当し、その単位は、１°当たりのサイクルの数、すなわちcpd(cycles per degree)で示される。
　例えば、縦縞模様に係る空間周波数は、１０-Xの定数倍とされ、縦縞模様に係る振幅は、１０-yの定数倍とされた。具体的には、ｙ＝０における振幅は、所定輝度を基準とした該所定輝度の０．４倍とされた。そして、白色に対応する輝度の最大値が３５０ｃｄ／ｍ2である条件において、所定輝度が、灰色に対応する輝度である１００ｃｄ／ｍ2に設定された。つまり、ｙ＝０では、輝度を８０～１２０ｃｄ／ｍ2の範囲で変動させた。
　このような縦縞模様が画面に表示された状態で、観察者５０が、画面上において縦縞模様の存在が視認可能な領域と視認不可能な領域との境界を確認し、その境界を示す線（境界線とも言う）が画面上に付された。図５では、この境界線が太い曲線で示されており、この境界線は、空間周波数と視認可能な振幅との関係を示す。
　ここで、各空間周波数について視認可能な振幅の最小値の逆数が感度として得られ、更に、各感度が感度の最大値（最大感度とも言う）で除される規格化が行われることで、各空間周波数について相対的な感度（相対感度とも言う）が得られた。そして、縦縞模様の空間周波数と相対感度との関係として、図６の太い曲線で示される関係が得られた。図６では、横軸が空間周波数を示し、縦軸が相対感度を示す。
　図６で示されるように、人間の視覚については、視野角１°において輝度の増減が繰り返される回数（空間周波数）に応じて、輝度の増減に対する感度が異なることが分かった。具体的には、相対感度が、空間周波数が２～６cpdの範囲においてピークを示し、１００cpd辺りで感度が無くなることが分かった。別の観点から言えば、同じ振幅の輝度の変動であっても、中間的な空間周波数（ここでは、２～１００cpd）に係る輝度の変動は視認されるが、高域の空間周波数（１００cpdを超えるもの）に係る輝度の変動は視認されないことが分かった。
　　＜(３－２)他の輝度の変動による発光ムラの抑制とその抑制に好適な条件＞
　図７は、ある輝度の変動に対する感度に他の輝度の変動が及ぼす影響を得るための実験の条件を示す図である。
　ここでは、表示装置３０および観察者５０については、図４で示されたものと同一の条件が採用された。また、図７で示されるように、表示装置３０の画面上において、図５で示された輝度の変動（第１の輝度の変動とも言う）が表示され、更にその第１の輝度の変動とは異なる輝度の変動（第２の輝度の変動とも言う）が重畳された。そして、その画面を見た観察者５０が第１の輝度の変動を輝度ムラとして感じるか否かの境界と、第２の輝度の変動に係る空間周波数との関係が得られた。
　第２の輝度の変動は、図７で示されるように、ｙ方向に輝度が増減し、所定の振幅と所定の空間周波数とを有する正弦波で表される輝度の変動を示す横縞のパターン（横縞模様とも言う）が採用された。
　なお、図７でも、図５と同様に、第１および第２の輝度の変動において輝度が極小値を示す領域が一点鎖線で示され、輝度が極大値を示す領域が破線で示されている。更に、第１の輝度の変動において縦縞模様の間隔が図示出来ないほど狭くなっている部分については、縦縞模様が省略されている。更に、視認不可能な縦縞模様も図示が省略されている。
　ここでは、横縞模様に係る空間周波数として、１，２，３，５，１０，２０，３０，５０，１００，１５０cpdの１０種類のものが順次に採用された。また、第２の輝度の変動としての横縞模様に係る輝度の振幅として、ｘ方向の位置に拘わらず、一定の輝度の振幅が採用された。ここで一定の輝度の振幅は、灰色に相当する１００ｃｄ／ｍ2が中心とされた４０ｃｄ／ｍ2が採用された。つまり、横縞模様の輝度を、８０～１２０ｃｄ／ｍ2の範囲で変動させた。
　このような縦縞模様に横縞模様が重畳されたものが画面に表示された状態で、観察者５０が、画面上において縦縞模様の存在が視認可能な領域と視認不可能な領域との境界を確認し、その境界を示す線（境界線）が画面上に付された。図７では、この境界線の一例が太い曲線で示されており、この境界線は、空間周波数と視認可能な振幅との関係を示す。
　ここで、横縞模様の空間周波数毎に、縦縞模様の各空間周波数について視認可能な振幅の最小値の逆数が感度として得られた。更に、横縞模様が重畳されていない場合の感度の最大値（最大感度とも言う）で各感度が除される規格化によって相対感度が得られた。そして、横縞模様の空間周波数毎の縦縞模様に係る空間周波数と相対感度との関係として、図８で示される関係が得られた。図８では、横軸が空間周波数であり、縦軸が相対感度を示す。
　図８では、図６で示された横縞模様が重畳されていない場合における縦縞模様の空間周波数と相対感度との関係が、太い曲線で描かれている。
　そして、図８では、横縞模様の空間周波数が１cpdの場合における縦縞模様の空間周波数と相対感度との関係が「黒丸印と実線の曲線との組み合わせ」で示され、横縞模様の空間周波数が２cpdの場合における縦縞模様の空間周波数と相対感度との関係が「Ｘ印と実線の曲線との組み合わせ」で示されている。横縞模様の空間周波数が３cpdの場合における縦縞模様の空間周波数と相対感度との関係が「黒塗りの三角印と実線の曲線との組み合わせ」で示され、横縞模様の空間周波数が５cpdの場合における縦縞模様の空間周波数と相対感度との関係が「黒塗りの菱形印と実線の曲線との組み合わせ」で示されている。
　また、図８では、横縞模様の空間周波数が１０cpdの場合における縦縞模様の空間周波数と相対感度との関係が「黒塗りの正方形印と実線の曲線との組み合わせ」で示され、横縞模様の空間周波数が２０cpdの場合における縦縞模様の空間周波数と相対感度との関係が「白丸印と細線の曲線との組み合わせ」で示されている。横縞模様の空間周波数が３０cpdの場合における縦縞模様の空間周波数と相対感度との関係が「バツ印と細線の曲線との組み合わせ」で示され、横縞模様の空間周波数が５０cpdの場合における縦縞模様の空間周波数と相対感度との関係が「白塗りの三角印と細線の曲線との組み合わせ」で示されている。
　更に、図８では、横縞模様の空間周波数が１００cpdの場合における縦縞模様の空間周波数と相対感度との関係が「白塗りの菱形印と細線の曲線との組み合わせ」で示され、横縞模様の空間周波数が１５０cpdの場合における縦縞模様の空間周波数と相対感度との関係が「白塗りの正方形印と細線の曲線との組み合わせ」で示されている。
　ここでは、図８で示されているように、縦縞模様に横縞模様が重畳されることで、縦縞模様の認識に係る相対感度が低下することが分かった。従って、故意に横縞模様を生じさせることで、縦縞模様に因る発光ムラが抑制される効果（マスク効果とも言う）が得られることが分かった。特に、横縞模様が重畳されていない場合に縦縞模様の相対感度が高くなる中間的な空間周波数の範囲（ここでは、２～６cpdの付近）における輝度の変動に対して、顕著なマスク効果が得られることが分かった。
　このマスク効果は、空間周波数が近い関係にある縦縞模様と横縞模様とが重畳された場合だけでなく、空間周波数が大きく異なる関係にある縦縞模様と横縞模様とが重畳された場合であっても得られることが分かった。
　ところで、第２の輝度の変動のような一定の振幅および一定の空間周波数を有する輝度の変動は、意図的に生み出された輝度の変動として認識され、観察者５０には発光ムラとして感じられない。従って、照明装置１では、製造工程において生じる発光層１３の不均一な厚さおよび使用条件等に因って輝度ムラが発生したとしても、該輝度ムラが発光ムラとして感じられることが、意図的な輝度の変動によって抑制可能であることが分かった。
　図９は、横縞模様の空間周波数毎の縦縞模様に係る空間周波数とマスク効果の程度との関係を示す図である。図９では、横軸が空間周波数を示し、縦軸がマスク効果の程度を示す数値であるマスク効果係数を示す。マスク効果係数は、横縞模様の空間周波数毎に、横縞模様が重畳された場合における縦縞模様に係る各空間周波数の相対感度が、横縞模様が重畳されていない場合における縦縞模様の対応する空間周波数の相対感度で除されることで導出された。
　なお、図９では、横縞模様の空間周波数が１cpdの場合における縦縞模様の空間周波数とマスク効果係数との関係が「黒丸印と実線の曲線との組み合わせ」で示され、横縞模様の空間周波数が２cpdの場合における縦縞模様の空間周波数とマスク効果係数との関係が「バツ印と実線の曲線との組み合わせ」で示されている。横縞模様の空間周波数が３cpdの場合における縦縞模様の空間周波数とマスク効果係数との関係が「黒塗りの三角印と実線の曲線との組み合わせ」で示され、横縞模様の空間周波数が５cpdの場合における縦縞模様の空間周波数とマスク効果係数との関係が「黒塗りの菱形印と実線の曲線との組み合わせ」で示されている。
　また、図９では、横縞模様の空間周波数が１０cpdの場合における縦縞模様の空間周波数とマスク効果係数との関係が「黒塗りの正方形印と実線の曲線との組み合わせ」で示され、横縞模様の空間周波数が２０cpdの場合における縦縞模様の空間周波数とマスク効果係数との関係が「白丸印と細線の曲線との組み合わせ」で示されている。横縞模様の空間周波数が３０cpdの場合における縦縞模様の空間周波数とマスク効果係数との関係が「バツ印と細線の曲線との組み合わせ」で示され、横縞模様の空間周波数が５０cpdの場合における縦縞模様の空間周波数とマスク効果係数との関係が「白塗りの三角印と細線の曲線との組み合わせ」で示されている。
　更に、図９では、横縞模様の空間周波数が１００cpdの場合における縦縞模様の空間周波数とマスク効果係数との関係が「白塗りの菱形印と細線の曲線との組み合わせ」で示され、横縞模様の空間周波数が１５０cpdの場合における縦縞模様の空間周波数とマスク効果係数との関係が「白塗りの正方形印と細線の曲線との組み合わせ」で示されている。
　図９で示されるように、横縞模様の空間周波数が５～２０cpdの範囲であれば、相対的に高いマスク効果係数が得られる。換言すれば、高いマスク効果が得られる観点から言えば、横縞模様の空間周波数が５～２０cpdの範囲に含まれることが好ましい。そして、図６および図８の太線の曲線で示されるように、観察者５０にとって横縞模様がより感じられ難くなる観点から言えば、横縞模様の空間周波数が１０～２０cpdの範囲に含まれることがより好ましく、横縞模様の空間周波数が２０cpdであることが更に好ましい。
　また、別の観点から見れば、図４～図６が示されて説明された輝度の変動と人による発光ムラとしての認識との関係に係る実験結果から、縦縞模様の空間周波数と、観察者５０が発光ムラであると感じる縦縞模様の振幅の最小値との関係が得られる。この縦縞模様の振幅の最小値は、ムラのＪＮＤ（Just Noticeable Difference）とも称され、縦縞模様の空間周波数とムラのＪＮＤとの関係として、図１０の太線の曲線で示される関係が得られた。
　図１０では、横軸が縦縞模様の空間周波数を示すとともに、縦軸が縦縞模様の振幅を示し、縦縞模様の振幅の中心となる輝度（ここでは、１００ｃｄ／ｍ2）と一致する振幅が、ムラのＪＮＤの基準値（ここでは、１）とされている。
　図１０で示されるように、人間の目の感度が最も高くなる輝度の変動の空間周波数、つまりムラのＪＮＤが最も小さくなる縦縞模様の空間周波数では、そのムラのＪＮＤは、０．００１７程度であった。また、有機ＥＬデバイスについては、製造方法にも依るが、輝度の変動を２％以下に抑制することは非常に難しい。このため、ムラのＪＮＤが、２％の輝度の変動に対応する０．０２を超えるようにする条件が採用されることが好ましい。そして、ムラのＪＮＤが０．０２を超えるためには、人間の目の感度が最も高くなる輝度の変動の空間周波数について、ムラのＪＮＤが約１２（＝０．０２／０．００１７）倍にされる必要がある。
　ところで、別の実験として、図１１で示されるように、表示装置３０の画面に、ｘ方向における輝度の増減が１０-Xの定数倍の振幅と一定の空間周波数を有する正弦波で示される縦縞模様と、ｙ方向における輝度の増減が１０-yの定数倍の振幅と一定の空間周波数を有する正弦波で示される横縞模様とが重畳された。この際、観察者５０によって確認された、画面上において縦縞模様の存在が視認可能な領域と視認不可能な領域との境界線が、図１１の太線で示されるものであった。図１１で示されるように、境界線については、縦縞模様の振幅が非常に小さくなるまで、縦縞模様の振幅と横縞模様の振幅とが比例関係を有することが分かった。
　そして、図９で示されたように、人間の目の感度が最も高くなる輝度の変動の空間周波数では、縦縞模様に対して、空間周波数が２０cpdであり且つ振幅が所定輝度を中心とした該所定輝度の０．４倍である横縞模様が重畳されれば、マスク効果係数が約８０倍となり、ムラのＪＮＤが約８０倍になることが分かった。
　ここで、ムラのＪＮＤが約１２倍となるためには、横縞模様の空間周波数が２０cpdであり且つ振幅が所定輝度の約０．０６倍（＝０．４×１２／８０）となる条件が採用されれば良い。但し、実際には、有機ＥＬデバイスにおいては、製造方法にも依るが、輝度の変動が約１０％となることも頻繁に起こり得る。そして、ムラのＪＮＤが約６０（＝０．１／０．００１７）倍となるためには、横縞模様の空間周波数が２０cpdであり且つ振幅が所定輝度の約０．３倍（＝０．４×６０／８０）となる条件が採用されれば良い。
　すなわち、発光ムラが抑制されるためには、例えば、意図的に生み出される輝度の変動が、空間周波数が２０cpdであり且つ振幅が該振幅の中心である所定輝度の約０．３倍を超えるものであることが好ましい。
　なお、照明装置１が卓上用の照明装置であれば、一般的には、ユーザーの目と面発光部１０とが４０～１００ｃｍ程度離隔する。また、照明装置１が天井に設けられる照明装置であれば、一般的には、ユーザーの目と面発光部１０とが１００～３００ｃｍ程度離隔する。このため、照明装置１の用途に応じて、輝度の変動に係る空間周波数が５～２０cpdとなるように、面発光部１０における単位長さ当たりの輝度の変動の回数（例えば、単位がcycle/cm）が設定されることが好ましい。
　＜(４)一実施形態のまとめ＞
　以上のように、一実施形態に係る照明装置１によれば、略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動が意図的に実現されるため、ユーザーが感じ得る発光ムラが抑制され得る。特に、意図的に設けられる輝度の変動の空間周波数が５～２０cpdであれば、ユーザーが感じ得る発光ムラが効率良く抑制され得る。
　また、下部電極層１２と上部電極層１４とに挟まれた発光層１３が、略一定の振幅の空間的に周期的な厚さの変動を有する構成を有していれば、略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動が意図的に生み出される。従って、比較的簡易な構成によってユーザーが感じ得る発光ムラが抑制され得る。
　＜(５)変形例＞
　なお、本発明は上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更および改良等が可能である。
　例えば、上記一実施形態では、発光層１３の厚さの変動によって、意図的に略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動が実現されたが、これに限られない。例えば、その他の構成によって、意図的に略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動が実現されも良い。以下、その他の構成の具体例（第１～４変形例）を挙げて説明する。
　　　＜(５－１)第１変形例＞
　図１２は、第１変形例に係る照明装置１Ａの面発光部１０Ａの構成例を模式的に示す断面図である。面発光部１０Ａは、上記一実施形態に係る面発光部１０がベースとされて、下部電極層１２、発光層１３、および上部電極層１４が、下部電極層１２Ａ、発光層１３Ａ、および上部電極層１４Ａに置換されたものである。
　下部電極層１２Ａは、上記一実施形態に係る下部電極層１２が所定間隔でｎ個（ｎは２以上の自然数）に分割された形態を有する複数の下部電極層（分割下部電極層とも言う）１２a1～１２an備えている。なお、隣接し合う各組の分割下部電極層１２a1～１２anの間は、分離され、電気的に接続されていない。
　発光層１３Ａは、上記一実施形態に係る発光層１３が所定間隔で分割された形態を有する複数の発光層（分割発光層とも言う）１３a1～１３anを備えている。なお、隣接し合う各組の分割発光層１３a1～１３anの間は、分離されている。
　上部電極層１４Ａは、上記一実施形態に係る上部電極層１４が所定間隔で分割された形態を有する複数の上部電極層（分割上部電極層とも言う）１４a1～１４anを備えている。なお、隣接し合う各組の分割上部電極層１４a1～１４anの間は、分離され、電気的に接続されていない。
　そして、分割下部電極層１２a1と分割発光層１３a1と分割上部電極層１４a1とがこの順番で積層されて１つの発光可能な部分（発光ユニットとも言う）１Ａ1が構成されている。ここで、１～ｎの任意の自然数がＮとされると、分割下部電極層１２aNと分割発光層１３aNと分割上部電極層１４aNとがこの順番で積層されて１つの発光ユニット１ＡNが構成されている。
　すなわち、面発光部１０Ａは、透明基板１１の他主面（ここでは＋Ｚ側の面）上に、ｎ個の発光ユニット１Ａ1～１Ａnが一方向（ここでは、Ｘ方向）に順次に並べられた構造を有している。具体的には、ｎ個の発光ユニット１Ａ1～１Ａnが、Ｘ方向に沿って空間的に周期的に設けられている。
　また、ここで、１～（ｎ－１）の任意の自然数がＭとされると、ｎ個の発光ユニット１Ａ1～１ＡnのうちのＸ方向に隣接し合う各組の発光ユニットの間で、一方の発光ユニットにおける分割下部電極層１２aMの一端部（＋Ｘ側の端部）と分割上部電極層１４a(M+1)の一端部（－Ｘ側の端部）とが電気的に接続されている。
　具体的には、各分割上部電極層１４aNは、分割発光層１３aNの一主面（＋Ｚ側の面）上に平面的に配列される部分（平面配列部とも言う）と、－Ｘ側において平面配列部から－Ｚ方向に垂下する部分（垂下部とも言う）とを有している。そして、各分割上部電極層１４a(M+1)の垂下部が一端部として、分割下部電極層１２aMの一端部に対して電気的に接続されている。
　また、分割下部電極層１２anの一端部（＋Ｘ側の端部）に給電部２１が電気的に接続され、分割上部電極層１４a1の一端部（－Ｘ側の端部）に給電部２２が電気的に接続されている。このため、給電部２１と給電部２２との間に電圧が印加されると、各発光ユニット１ＡNにおいて、分割下部電極層１２aNの一端部（＋Ｘ側の端部）と分割上部電極層１４aNの一端部（－Ｘ側の端部）との間に電圧が印加される。
　また、各発光ユニット１ＡNにおいて、分割下部電極層１２aNにおける一方向（ここでは＋Ｘ方向）の電気抵抗が、分割上部電極層１４aNにおける一方向（ここでは、＋Ｘ方向）の電気抵抗よりも大きくなるように設定されている。このような電気抵抗の設定は、例えば、各分割上部電極層１４aNと各分割下部電極層１２aNとにおける厚さおよび素材のうちの少なくとも一方が適宜に調整されることで実現される。なお、層の厚さの調整は、例えば、蒸着法またはスパッタリング法等における成膜時間によって実現可能であり、層を形成する素材の変更は、例えば、スパッタリング法におけるターゲット材料の変更によって実現可能である。
　上記構成を有する第１変形例に係る照明装置１Ａでは、給電部２１と給電部２２との間に電圧が印加されると、各発光ユニット１ＡNにおいて、分割発光層１３aNを挟む分割下部電極層１２aNと分割上部電極層１４aNとの間に電圧が印加される。このとき、各発光ユニット１ＡNにおいて、分割下部電極層１２aNと分割上部電極層１４aNとの間に印加される電圧は、分割下部電極層１２aNにおける相対的に高い電気抵抗によって、一端部側（ここでは＋Ｘ側）から他端部側（ここでは－Ｘ側）に行けば行くほど低下する。
　そして、各発光ユニット１ＡNにおける電圧の低下に応じて、面発光部１０Ａが発光する際には、面発光部１０Ａの発光面において、略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動が生じる。
　図１３は、面発光部１０Ａの発光面で生じる輝度の変動を例示する図である。図１３では、横軸がＸ方向の位置を示し、縦軸が輝度を示し、Ｘ方向の位置の変化に伴って発光面で生じる輝度の変動が太線で示されている。
　以上のように、第１変形例に係る照明装置１Ａによっても、上記一実施形態に係る照明装置１と同様に比較的簡易な構成によってユーザーが感じ得る発光ムラが抑制され得る。
　なお、各発光ユニット１ＡNにおいて、分割上部電極層１４aNにおける一方向（ここでは＋Ｘ方向）の電気抵抗が、分割下部電極層１２aNにおける一方向（ここでは、＋Ｘ方向）の電気抵抗よりも大きくなるように設定されても、同様な効果が得られる。
　　　＜(５－２)第２変形例＞
　図１４は、第２変形例に係る照明装置１Ｂの面発光部１０Ｂの構成例を模式的に示す断面図である。面発光部１０Ｂは、上記一実施形態に係る面発光部１０がベースとされ、下部電極層１２、発光層１３、上部電極層１４、および給電部２１が、下部電極層１２Ｂ、発光層１３Ｂ、上部電極層１４Ｂ、および給電部２１Ｂに置換されたものである。
　給電部２１Ｂは、透明基板１１の他主面（ここでは＋Ｚ側の面）上に層状に設けられている。図１５は、給電部２１Ｂの構成例を模式的に示す平面図である。図１５で示されるように、給電部２１Ｂは、２本の主配線２１１Ｂ，２１２Ｂと、ｎ本（ｎは２以上の自然数）の副配線２１b1～２１bnとを備えている。
　２本の主配線２１１Ｂ，２１２Ｂは、Ｘ方向に沿って延在し且つＹ方向に離隔して配置されている。ここで、透明基板１１の他主面（ここでは＋Ｚ側の面）のうちの相互に対向する第１および第２の外縁のうち、第１の外縁近傍において該第１の外縁に沿って主配線２１１Ｂが延在し、第２の外縁近傍において該第２の外縁に沿って主配線２１２Ｂが延在している。
　また、ｎ本の副配線２１b1～２１bnは、それぞれ主配線２１１Ｂから主配線２１２Ｂに掛けてＹ方向に沿って延在するとともに、相互に所定の離隔距離を有して順次に配置されている。具体的には、ｎ本の副配線２１b1～２１bnは、Ｘ方向に空間的に周期的に設けられている。そして、ｎ本の副配線２１b1～２１bnは、２本の主配線２１１Ｂ，２１２Ｂを介して電源２に対して電気的に接続される。
　このような給電部２１Ｂは、例えば、メタルマスクを用いた蒸着法またはスパッタリング法等によって成膜可能である。なお、給電部２１Ｂを構成する素材は、ＩＴＯ等の透明な素材であっても良いし、銅等の良導体であっても良い。但し、給電部２１Ｂを構成する素材は、下部電極層１２Ｂを構成する素材よりも電気抵抗率が低いものであることが好ましい。
　下部電極層１２Ｂは、図１４で示されるように、他主面（ここでは＋Ｚ側の面）上に給電部２１Ｂが設けられた透明基板１１の該他主面に対して、ｎ本の副配線２１b1～２１bnを覆うように略平坦に形成されている。これにより、ｎ本の副配線２１b1～２１bnは、下部電極層１２Ｂに対して電気的に接続されている。そして、給電部２１，２２の間に電圧が印加されると、ｎ本の副配線２１b1～２１bnによって下部電極層１２Ｂと上部電極層１４Ｂとの間に電圧が印加される。
　また、下部電極層１２Ｂにおける一方向（ここでは＋Ｘ方向）の電気抵抗が、上部電極層１４Ｂにおける一方向（ここでは、＋Ｘ方向）の電気抵抗よりも大きくなるように設定されている。このような電気抵抗の設定は、例えば、上部電極層１４Ｂと下部電極層１２Ｂとにおける厚さおよび素材のうちの少なくとも一方が適宜に調整されることで実現される。なお、層の厚さの調整は、例えば、蒸着法またはスパッタリング法等における成膜時間によって実現可能であり、層を形成する素材の変更は、例えば、スパッタリング法におけるターゲット材料の変更によって実現可能である。
　発光層１３Ｂは、下部電極層１２Ｂ上に略均一の厚さで形成されている。また、上部電極層１４Ｂは、発光層１３Ｂ上に略均一の厚さで形成されている。
　上記構成を有する第２変形例に係る照明装置１Ｂでは、給電部２１Ｂと給電部２２との間に電圧が印加されると、下部電極層１２Ｂと上部電極層１４Ｂとの間に電圧が印加される。このとき、下部電極層１２Ｂと上部電極層１４Ｂとの間に印加される電圧は、下部電極層１２Ｂにおける相対的に高い電気抵抗によって、各副配線２１b1～２１bnから離隔すれば離隔するほど低下する。
　そして、各副配線２１b1～２１bnを中心とした電圧の低下に応じて、面発光部１０Ｂが発光する際には、面発光部１０Ｂの発光面において、略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動が生じる。
　図１６は、面発光部１０Ｂの発光面で生じる輝度の変動を例示する図である。図１６では、横軸がＸ方向の位置を示し、縦軸が輝度を示し、Ｘ方向の位置の変化に伴って発光面で生じる輝度の変動が太線で示されている。なお、ｎ本の副配線２１b1～２１bnが透明でなければ、ｎ本の副配線２１b1～２１bnの存在による光の遮蔽によって輝度の低下が生じるが、図１６では、そのような輝度の低下については省略されている。仮に、そのような輝度の低下が生じても、面発光部１０Ｂの発光面において、略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動が生じる。
　以上のように、第２変形例に係る照明装置１Ｂによっても、上記一実施形態に係る照明装置１と同様に比較的簡易な構成によってユーザーが感じ得る発光ムラが抑制され得る。
　なお、給電部２１Ｂの代わりに、給電部２２が、給電部２１Ｂと同様な形状を有し且つ上部電極層１４Ｂに対して電気的に接続され、上部電極層１４Ｂにおける一方向（ここでは＋Ｘ方向）の電気抵抗が、下部電極層１２Ｂにおける一方向（ここでは、＋Ｘ方向）の電気抵抗よりも大きくなるように設定されても、同様な効果が得られる。
　　　＜(５－３)第３変形例＞
　図１７は、第３変形例に係る照明装置１Ｃの面発光部１０Ｃの構成例を模式的に示す断面図である。面発光部１０Ｃは、上記一実施形態に係る面発光部１０がベースとされ、発光層１３および上部電極層１４が、発光層１３Ｃおよび上部電極層１４Ｃに置換されて、更に、模様部１５Ｃが設けられたものである。
　発光層１３Ｃは、下部電極層１２上に略均一の厚さで形成されている。また、上部電極層１４Ｃは、発光層１３Ｃ上に略均一の厚さで形成されている。
　図１８は、模様部１５Ｃの構成例を模式的に示す下面図である。模様部１５Ｃは、透明基板１１の一主面（ここでは－Ｚ側の面）上に、Ｙ方向に沿った直線状のｎ本の模様１５c1～１５cnがＸ方向に順次に設けられた構造を有している。換言すれば、一方向（ここでは、Ｘ方向）に略直交する他方向（ここでは、Ｙ方向）に沿った直線状のｎ本の模様１５c1～１５cnが、一方向（Ｘ方向）に沿って空間的に周期的に設けられている。
　このような模様部１５Ｃは、例えば、透明基板１１の一主面に対してエッチングが施されることで形成されるスリガラス状の部分であっても良いし、凹部であっても良いし、凸部であっても良い。また、模様部１５Ｃは、透明基板１１の一主面に対して、ｎ本の模様１５c1～１５cnを有する透明フィルムであっても良い。なお、透明フィルムとしては、光損失が生じないように、ｎ本の模様１５c1～１５cnの部分が光を所定方向（例えば、フィルムの法線方向）に光を透過させ、それ以外の部分が種々の方向に進行する光を透過させるようなものが考えられる。
　このような模様部１５Ｃの存在によって、面発光部１０Ｃが発光する際には、面発光部１０Ｃの発光面において、略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動が生じ得る。この輝度の変動は、例えば、連続的な輝度の増減、離散的に生じる線状の輝度の増減、および離散的な点状の輝度の増減のうちの少なくとも１つの輝度の増減、またはその組合せであれば良い。
　以上のように、第３変形例に係る照明装置１Ｃによっても、上記一実施形態に係る照明装置１と同様に比較的簡易な構成によってユーザーが感じ得る発光ムラが抑制され得る。
　　　＜(５－４)第４変形例＞
　図１９は、第４変形例に係る照明装置１Ｄの面発光部１０Ｄの構成例を模式的に示す断面図である。面発光部１０Ｄは、上記一実施形態に係る面発光部１０がベースとされ、透明基板１１、発光層１３、および上部電極層１４が、透明基板１１Ｄ、発光層１３Ｄ、および上部電極層１４Ｄに置換されたものである。
　発光層１３Ｄは、下部電極層１２上に略均一の厚さで形成されている。また、上部電極層１４Ｄは、発光層１３Ｄ上に略均一の厚さで形成されている。
　透明基板１１Ｄは、概ね平板状の形状を有するが、略平坦な他主面（＋Ｚ側の面）と、略一定の振幅を有する空間的に周期的な凹凸が設けられている一主面（－Ｚ側の面）とを有している。ここでは、透明基板１１Ｄは、透明基板１１の一主面上に、Ｙ方向に沿った直線状のｎ本の凹部１１d1～１１dnがＸ方向に順次に設けられた構造を有している。換言すれば、一方向（ここでは、Ｘ方向）に略直交する他方向（ここでは、Ｙ方向）に沿った直線状のｎ本の凹部１１d1～１１dnが、一方向（Ｘ方向）に沿って空間的に周期的に設けられている。
　このような透明基板１１Ｄに設けられた凹凸によって、図１９の黒塗りの矢印で示されるように、発光層１３Ｄで生じた光が透明基板１１Ｄを透過する際に、透明基板１１Ｄの一主面（－Ｚ側の面）における屈折に因る光の集中および拡散を生じさせる。その結果、面発光部１０Ｄが発光する際には、面発光部１０Ｄの発光面において、略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動が生じる。
　以上のように、第４変形例に係る照明装置１Ｄによっても、上記一実施形態に係る照明装置１と同様に比較的簡易な構成によってユーザーが感じ得る発光ムラが抑制され得る。
　　　＜(５－５)その他の変形例＞
　◎上記一実施形態および上記第１～４変形例では、面発光部１０，１０Ａ～１０Ｄが発光する際には、面発光部１０，１０Ａ～１０Ｄの発光面において、１つの略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動が生じたが、これに限られない。
　例えば、発光ムラが更に抑制される観点から言えば、異なる空間周波数に係る輝度の変動が重畳した輝度の変動が生じる方が好ましい。換言すれば、略一定の振幅を有する第１の空間周波数の空間的に周期的な輝度の変動と、略一定の振幅を有する第１の空間周波数とは異なる第２の空間周波数の空間的に周期的な輝度の変動とが重畳して生じる輝度の変動が実現される方が好ましい。また、重畳する輝度の変動は３種類以上であっても良い。
　但し、異なる空間周波数どうしの干渉によって発光ムラを発生させない観点から言えば、重畳される輝度の変動に係る相互に異なる空間周波数は、整数倍の関係を有することが好ましい。このような空間的に周期的な輝度の変動は、例えば、整数倍の空間周波数の関係を有する複数の波の成分が含まれる三角波および方形波の少なくとも一方の波形が、輝度の変動に適用されることで実現可能である。
　なお、異なる空間周波数に係る輝度の変動が重畳した輝度の変動を意図的に生じさせることは、例えば、上記一実施形態および上記第１～４変形例に係る構成が適宜に調整されることで実現可能である。具体的には、上記一実施形態に係る発光層１３の厚みの調整、上記第１変形例に係る複数の発光ユニット１Ａ1～１Ａnの配列状態の調整、上記第２変形例に係る複数の副配線２１b1～２１bnの配列状態の調整、上記第３変形例に係る模様の調整、および上記第４変形例に係る透明基板１１Ｄの凹凸の調整のうちの少なくとも１つの方法または２以上の方法の組合せによって実現可能である。
　◎上記一実施形態および上記第１～４変形例では、面発光部１０，１０Ａ～１０Ｄが発光する際には、面発光部１０，１０Ａ～１０Ｄの発光面において、一方向に略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動が生じたが、これに限られない。
　例えば、発光ムラが更に抑制される観点から言えば、相互に異なる２以上の方向における略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動が重畳した輝度の変動が生じる方が好ましい。換言すれば、第１の方向における略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動と、第１の方向とは異なる第２の方向における略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動とが重畳して生じる輝度の変動が実現される方が好ましい。
　ここで、第１の方向と第２の方向とが成す角度は、０°を超え且つ９０°以下の任意の角度であれば良い。ところで、或る方向の輝度ムラに起因してユーザーに感じさせる発光ムラがより効率的に抑制されるには、その或る方向と同一方向に略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動が生じることが好ましい。従って、第１の方向と第２の方向とが略直交すれば、輝度ムラが生じる方向に拘わらず、発光ムラがより効率的に抑制され得る。また、重畳する輝度の変動は３種類以上であっても良い。
　なお、相互に異なる２以上の方向における輝度の変動が重畳した輝度の変動を意図的に生じさせることは、例えば、上記一実施形態および上記第１～４変形例に係る構成が適宜に調整されることで実現可能である。具体的には、上記一実施形態に係る発光層１３の厚みの調整、上記第１変形例に係る複数の発光ユニット１Ａ1～１Ａnの配列状態の調整、上記第２変形例に係る複数の副配線２１b1～２１bnの配列状態の調整、上記第３変形例に係る模様の調整、および上記第４変形例に係る透明基板１１Ｄの凹凸の調整のうちの少なくとも１つの方法または２以上の方法の組合せによって実現可能である。
　なお、発光ムラが更に抑制される観点から言えば、ランダムな輝度の変動が意図的に生じる構成が採用されても良い。
　◎上記一実施形態および上記第１～４変形例では、面発光部１０，１０Ａ～１０Ｄは、略平面状の形状を有していたが、これに限られず、曲面状の形状等といった種々の面形状を有していても良い。
　◎上記一実施形態および上記第１～４変形例では、意図的に生じさせる輝度の変動として、輝度の増減が採用されたが、これに限られない。例えば、発光層１３，１３Ａ～１３Ｄで発生した光が透明基板１１，１１Ｄから射出する迄の光路上に、光を遮蔽する空間的に周期的な配列を有する遮光部が設けられることで、意図的に輝度の変動を生じさせても良い。なお、空間的に周期的な配列を有する遮光部は、例えば、メタルマスクを用いた蒸着法またはスパッタリング等によって可視光線を透過しない絶縁体等が、発光層１３，１３Ａ～１３Ｄから透明基板１１，１１Ｄの一主面に至る任意の部分に形成される方法によって実現可能である。
　◎なお、上記一実施形態および各種変形例をそれぞれ構成する全部または一部は、適宜、矛盾しない範囲で組み合わせ可能であることは、言うまでもない。
　◎更に、本発明の技術的思想は、面発光を行う照明装置一般に適用可能である。
　１，１Ａ～１Ｄ　照明装置
　１Ａ1～１ＡN　発光ユニット
　１０，１０Ａ～１０Ｄ　面発光部
　１１，１１Ｄ　透明基板
　１１d1～１１dn　凹部
　１２，１２Ａ，１２Ｂ　下部電極層
　１２a1～１２an，１２aM，１２aN　分割下部電極層
　１３，１３Ａ～１３Ｄ　発光層
　１３a1～１３an，１３aN　分割発光層
　１４，１４Ａ～１４Ｄ　上部電極層
　１４a1～１４an，１４aM，１４aN　分割上部電極層
　２１b1～２１bn　副配線
　２１，２１Ｂ，２２　給電部
　２１１Ｂ，２１２Ｂ　主配線

Claims (10)

  1. 　給電部と、
    　前記給電部によって印加される電圧に応じて発光し且つ面状に発光する発光面を有する面発光部と、
    を備え、
    　前記面発光部が、
    　略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動を生じることを特徴とする照明装置。
  2. 　請求項１に記載の照明装置であって、
    　前記輝度の変動が、
    　視野角１度あたりに５回以上で且つ２０回以下の輝度の増減の繰り返しを有することを特徴とする照明装置。
  3. 　請求項１または請求項２に記載の照明装置であって、
    　前記輝度の変動が、
    　第１方向における略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動と、前記第１方向とは異なる第２方向における略一定の振幅を有する空間的に周期的な輝度の変動と、が重畳することで生じることを特徴とする照明装置。
  4. 　請求項１から請求項３の何れか１つの請求項に記載の照明装置であって、
    　前記面発光部が生じる輝度の変動が、
    　略一定の振幅を有する第１空間周波数の空間的に周期的な輝度の変動と、略一定の振幅を有する前記第１空間周波数とは異なる第２空間周波数の空間的に周期的な輝度の変動と、が重畳することで生じることを特徴とする照明装置。
  5. 　請求項４に記載の照明装置であって、
    　前記面発光部が生じる輝度の変動が、
    　略一定の振幅を有する三角波および方形波のうちの少なくとも一方の波形に係る空間的に周期的な輝度の変動を含むことを特徴とする照明装置。
  6. 　請求項１から請求項５の何れか１つの請求項に記載の照明装置であって、
    　前記面発光部が、
    　第１電極層、第２電極層、および前記第１電極層と前記第２電極層とに挟まれた発光層を有し、
    　前記発光層が、
    　略一定の振幅を有する空間的に周期的な厚さの変動を有していることを特徴とする照明装置。
  7. 　請求項１から請求項６の何れか１つの請求項に記載の照明装置であって、
    　前記面発光部が、
    　第１電極層、第２電極層、および前記第１電極層と前記第２電極層とに挟まれた発光層、をそれぞれ有する複数の発光ユニットが少なくとも一方向に並列配置された構造を備え、
    　前記複数の発光ユニットのうちの前記一方向に隣接し合う各組の発光ユニットの間で、一方の発光ユニットの前記第１電極層における第１一端部と他方の発光ユニットの前記第２電極層における第２一端部とが電気的に接続され、
    　前記給電部による前記面発光部に対する電圧の印加に応じて、各前記発光ユニットにおいて、前記第１電極層の前記第１一端部と、前記第２電極層の前記第２一端部との間に電圧が印加されるとともに、
    　各前記発光ユニットにおいて、前記第１電極層における前記一方向の電気抵抗が、前記第２電極層における前記一方向の電気抵抗よりも大きいことを特徴とする照明装置。
  8. 　請求項１から請求項７の何れか１つの請求項に記載の照明装置であって、
    　前記面発光部が、
    　第１電極層、第２電極層、および前記第１電極層と前記第２電極層とに挟まれた発光層を有し、
    　前記給電部が、
    　前記第１電極層に対して電気的に接続され且つ空間的に周期的に設けられる複数の配線を有するともに、前記複数の配線によって前記第１電極層と前記第２電極層との間に電圧を印加し、
    　前記第１電極層の主面に沿った方向における電気抵抗が、前記第２電極層の主面に沿った方向における電気抵抗よりも大きいことを特徴とする照明装置。
  9. 　請求項１から請求項８の何れか１つの請求項に記載の照明装置であって、
    　前記面発光部が、
    　透明基板と、該透明基板上に順次に積層されている第１電極層と、発光層と、第２電極層とを有し、
    　前記透明基板に対して、空間的に周期的な模様が設けられていることを特徴とする照明装置。
  10. 　請求項１から請求項９の何れか１つの請求項に記載の照明装置であって、
    　前記面発光部が、
    　透明基板と、該透明基板上に順次に積層されている第１電極層と、発光層と、第２電極層とを有し、
    　前記透明基板に対して、空間的に周期的な凹凸が設けられていることを特徴とする照明装置。
PCT/JP2011/062715 2010-06-04 2011-06-02 照明装置 WO2011152496A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/697,687 US9516705B2 (en) 2010-06-04 2011-06-02 Illumination device
JP2012518452A JP5067518B2 (ja) 2010-06-04 2011-06-02 照明装置
EP11789898.1A EP2579683B1 (en) 2010-06-04 2011-06-02 Illumination apparatus

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010128919 2010-06-04
JP2010-128919 2010-06-04

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2011152496A1 true WO2011152496A1 (ja) 2011-12-08

Family

ID=45066853

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2011/062715 WO2011152496A1 (ja) 2010-06-04 2011-06-02 照明装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9516705B2 (ja)
EP (1) EP2579683B1 (ja)
JP (1) JP5067518B2 (ja)
WO (1) WO2011152496A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013183393A1 (ja) * 2012-06-08 2013-12-12 ソニー株式会社 表示装置、製造方法、電子機器
WO2017217160A1 (ja) * 2016-06-13 2017-12-21 コニカミノルタ株式会社 面発光装置

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004212557A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 表示装置とその作製方法
JP2005158368A (ja) * 2003-11-21 2005-06-16 Toshiba Lighting & Technology Corp 照明器具
JP2006114379A (ja) * 2004-10-15 2006-04-27 Toppan Printing Co Ltd 照明装置
JP2006190573A (ja) * 2005-01-06 2006-07-20 Toshiba Corp 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
JP2008084560A (ja) * 2006-09-26 2008-04-10 Fujitsu Ltd 照明装置
JP2008116921A (ja) * 2006-10-10 2008-05-22 Sony Corp 表示装置および情報処理装置
JP2008170824A (ja) * 2007-01-14 2008-07-24 Sony Corp 消費電力削減装置、自発光表示装置、電子機器、消費電力削減方法及びコンピュータプログラム
JP2009158478A (ja) * 2007-12-07 2009-07-16 Oji Paper Co Ltd プラズモニック結晶面発光体、画像表示装置及び照明装置
JP2009245777A (ja) 2008-03-31 2009-10-22 Sumitomo Chemical Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子および照明装置

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW364275B (en) * 1996-03-12 1999-07-11 Idemitsu Kosan Co Organic electroluminescent element and organic electroluminescent display device
JP2991183B2 (ja) * 1998-03-27 1999-12-20 日本電気株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子
KR100267964B1 (ko) * 1998-07-20 2000-10-16 구자홍 유기 이엘(el) 디스플레이 패널 및 그 제조 방법
JP3539251B2 (ja) * 1998-12-10 2004-07-07 ミノルタ株式会社 ファインダー表示装置およびそれを備えた光学機器
KR100437886B1 (ko) * 2001-09-25 2004-06-30 한국과학기술원 고발광효율 광결정 유기발광소자
JP3910864B2 (ja) * 2002-03-04 2007-04-25 ローム株式会社 有機ｅｌ表示パネルおよびその製造方法
US7049757B2 (en) * 2002-08-05 2006-05-23 General Electric Company Series connected OLED structure and fabrication method
US7034470B2 (en) * 2002-08-07 2006-04-25 Eastman Kodak Company Serially connecting OLED devices for area illumination
US6831407B2 (en) * 2002-10-15 2004-12-14 Eastman Kodak Company Oled device having improved light output
GB2403023A (en) * 2003-06-20 2004-12-22 Sharp Kk Organic light emitting device
JP4378186B2 (ja) * 2004-02-06 2009-12-02 キヤノン株式会社 有機ｅｌ素子アレイ
DE102005035346A1 (de) * 2004-08-19 2006-03-09 Atmel Germany Gmbh Verlustleistungsoptimierter Hochfrequenz-Koppelkondensator und Gleichrichterschaltung
EP2299779A3 (en) * 2004-09-13 2011-05-04 Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. Light emitting layer device
JP4410123B2 (ja) * 2005-02-10 2010-02-03 株式会社東芝 有機ｅｌディスプレイ
EP1753048B1 (de) * 2005-08-11 2008-08-20 Novaled AG Verfahren zum Herstellen eines top-emittierenden Bauteils sowie Verwendung
TWI331481B (en) * 2006-08-16 2010-10-01 Ritdisplay Corp Organic light emitting device with lighting uniformity design
DE102006052029B4 (de) * 2006-09-22 2020-01-09 Osram Oled Gmbh Lichtemittierende Vorrichtung
JP5058251B2 (ja) * 2007-03-30 2012-10-24 パイオニア株式会社 発光装置
US8179034B2 (en) * 2007-07-13 2012-05-15 3M Innovative Properties Company Light extraction film for organic light emitting diode display and lighting devices
JP5119865B2 (ja) * 2007-11-02 2013-01-16 セイコーエプソン株式会社 有機エレクトロルミネッセンス装置、電子機器
FR2924274B1 (fr) * 2007-11-22 2012-11-30 Saint Gobain Substrat porteur d'une electrode, dispositif electroluminescent organique l'incorporant, et sa fabrication

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004212557A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 表示装置とその作製方法
JP2005158368A (ja) * 2003-11-21 2005-06-16 Toshiba Lighting & Technology Corp 照明器具
JP2006114379A (ja) * 2004-10-15 2006-04-27 Toppan Printing Co Ltd 照明装置
JP2006190573A (ja) * 2005-01-06 2006-07-20 Toshiba Corp 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
JP2008084560A (ja) * 2006-09-26 2008-04-10 Fujitsu Ltd 照明装置
JP2008116921A (ja) * 2006-10-10 2008-05-22 Sony Corp 表示装置および情報処理装置
JP2008170824A (ja) * 2007-01-14 2008-07-24 Sony Corp 消費電力削減装置、自発光表示装置、電子機器、消費電力削減方法及びコンピュータプログラム
JP2009158478A (ja) * 2007-12-07 2009-07-16 Oji Paper Co Ltd プラズモニック結晶面発光体、画像表示装置及び照明装置
JP2009245777A (ja) 2008-03-31 2009-10-22 Sumitomo Chemical Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子および照明装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2579683A4

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013183393A1 (ja) * 2012-06-08 2013-12-12 ソニー株式会社 表示装置、製造方法、電子機器
JP2013254158A (ja) * 2012-06-08 2013-12-19 Sony Corp 表示装置、製造方法、電子機器
US9601054B2 (en) 2012-06-08 2017-03-21 Joled Inc. Display device, manufacturing method, and electronic apparatus
KR101774632B1 (ko) 2012-06-08 2017-09-04 가부시키가이샤 제이올레드 표시 장치, 제조 방법, 전자 기기
WO2017217160A1 (ja) * 2016-06-13 2017-12-21 コニカミノルタ株式会社 面発光装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP2579683A1 (en) 2013-04-10
EP2579683B1 (en) 2020-06-03
JP5067518B2 (ja) 2012-11-07
US20130058086A1 (en) 2013-03-07
JPWO2011152496A1 (ja) 2013-08-01
EP2579683A4 (en) 2017-07-26
US9516705B2 (en) 2016-12-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11068090B2 (en) Electroluminescent display panel with reduced thickness, production method, driving method and display apparatus
JP5703251B2 (ja) 有機電界発光素子、照明装置及び有機電界発光素子の製造方法
KR101365853B1 (ko) 발광 장치
KR101983888B1 (ko) 투명 oled 부품 및 그 부품을 적용한 디스플레이 장치
WO2014185115A1 (ja) タッチパネル基板及び電子機器
WO2016176892A1 (zh) Oled背板结构
JP2010066766A5 (ja)
JP6392237B2 (ja) 画像前に配置された最適化された光起電性網を備える装置
JP5067518B2 (ja) 照明装置
US10593904B2 (en) Organic-light emitting diode device and method for fabricating the same
CN104485346B (zh) 一种有机电致发光装置及其制备方法
KR102166869B1 (ko) 유기전계발광표시장치
JP7145303B2 (ja) 発光装置
CN112786673B (zh) 一种amoled显示屏及其制造方法
US20160327231A1 (en) Surface-Emitting Unit
KR20110130949A (ko) 유기 발광소자용 전극 및 이를 포함하는 유기 발광소자
KR101403407B1 (ko) Ｏｌｅｄ 면광원 장치 및 그 제조 방법
WO2015033847A1 (ja) 面状発光ユニット
JP2014229546A (ja) 面発光ユニットおよびその製造方法
CN112750882A (zh) 一种显示面板和显示装置
JP2003092190A (ja) 有機エレクトロルミネセンス素子及びその製造方法
WO2015033846A1 (ja) 面状発光ユニット
USRE48695E1 (en) Transparent OLED device and display device employing same
US11329238B2 (en) Flexible organic light emitting diode display panel and foldable display device
KR101040801B1 (ko) 전계방출장치

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 11789898

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2012518452

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13697687

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2011789898

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE